支持机器学习技术的光刻物理分析工具通过GF 12LP解决方案认证

支持机器学习技术的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具通过了 GF 12LP/12LP+ 解决方案认证，检测效率最高提升 33%，且对执行时间的影响不超过 10%。

Cadence 与 GF 的合作让采用 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案的签核工程师可以加速芯片设计和生产，为 AI、数据中心、超大规模、航空航天和工业市场开发产品。

中国上海，2021 年 3 月 26 日——GLOBALFOUNDRIES （GF），一家全球领先的专业代工企业与楷登电子（美国 Cadence 公司，NASDAQ：CDNS）今日共同宣布，将发挥机器学习（ML）的可预测能力，在可制造性设计（DFM）签核领域展开合作。作为合作的一部分，Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具（集成了由 GF 开发的 ML 模型，用于 DFM 模式分析）通过了 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案的认证。

ML 增强型的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具针对 GF 12LP 和 12LP+ 解决方案做了专门优化，为客户提供了与设计同步的自动 DFM 热点检测和修复功能，以加速设计实现及缩短产品上市时间。对比传统的模式匹配检查，基于 ML 技术的增强将检测效率提升至高达 33%，且对执行时间的影响不超过 10%。

GF 已经发布了对应于 ML 增强版的 DFM 工具包，且对 12LP 工艺设计包（PDKs）进行了更新，并计划于 2021 年第二季度发布面向 12LP+ 的版本，为客户提供面向人工智能（AI）、数据中心、物联网（IoT）及其它市场的加速芯片设计及生产的高效途径。

作为 GF 最先进的 FinFET 解决方案，12LP+ 工艺针对 AI 训练和推理应用做了专门优化，为芯片设计师提供高效率的开发体验，以加速产品上市。GF 的 14nm/12LP 平台已经非常成熟，晶圆出货量已经超过 100 万片，而 12LP+ 正是基于这一平台，将 12LP 与 12LP+ 的组合充分发挥出 AI 和性能、面积、功耗（PPA）的组合优势，而无需迁移至面积更小且成本更高的几何设计。

“通过将 ML 能力整合到 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具，使用 GF 12LP 平台和 12LP+ 解决方案的客户可以在设计实现的同时对签核进行验证，以获得更高的硅片质量，”GLOBALFOUNDRIES 公司技术支持副总裁Jim Blatchford表示，“与 Cadence 的合作让我们可以迅速提供技术支持，通过 12LP 和 12LP+ DPKs 的全新能力与客户的设计流程无缝集成。”

ML 增强的 Cadence Litho Physical Analyzer 光刻物理分析工具与 Cadence Innovus Implementation System 设计实现系统和 Cadence Virtuoso 定制 IC 设计平台无缝集成，以通用、熟悉的界面为客户提供流畅的设计体验。

“具备机器学习 ML 能力的不仅是光刻物理分析工具，整个 Cadence 设计实现平台都已全面支持 ML，为客户提供高度先进及精细的解决方案，”Cadence 公司数字与签核事业部研发部总裁 Michael Jackson 表示，“通过我们与 GF 的最新合作，客户可以利用 GF12LP/12LP+ 的解决方案来使用我们添加了 ML 增强的工具来实现设计的成功。同时，支持 ML 的光刻物理分析工具进一步强化了 GF 的 DRC+ 能力和提升了生产良率，可高效检测更多热点，并修复之前未被检出的热点模式。”

原文标题：GLOBALFOUNDRIES 与 Cadence 将机器学习用于 GF 先进 FinFET DFM 签核

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责任编辑：haq