目前全球在光刻机制造领域比较领先的只有三家公司,分别为荷兰的ASML和日本的佳能和尼康。截止2011年,ASML已经占到了全球光刻机市场的70以上的市场份额。在7nm和5nm制程领域,ASML是全球唯一一家可以生产相应光刻机的公司。换句话说,在最先进的光刻机生产领域,ASML达到了绝对垄断的地步。
台积电和三星均已投入5nm工艺的量产,前者代工的产品包括苹果A14、M1、华为麒麟9000等,后者则包括Exynos 1080、骁龙888等。其实从7nm开始,台积电和三星就开始引入EUV光刻,但过程层数较少。按照ASML(阿斯麦)的说法,迭代到5nm后,EUV的层数达到了10~14层,包括但不限于触点、过孔以及关键金属层等过程。未来的3nm、2nm,对EUV的依赖将更甚。
根据最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是,业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
毕竟,2019年ASML仅出货了26台,去年三季度后全年累计出货23台(全年预估35台),可谓少得可怜。
另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻机TWINSCAN NXE:3600D,生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm,单台价格或高于老款的1.2亿欧元(约合9.5亿元人民币)。
不少人更加关心,目前我国的光刻机水平在什么档次?
据悉,上海微电子国内技术最先进的一家光刻机生产企业,而2021年才能交付一台28nm的光刻机。
目前全球较为领先的芯片就是采用的5nm制程,台积电现在已经在筹划3nm技术的研发。从28nm发展到5nm制程中间隔了14nm和7nm,如果说国内光刻机两年可以进行一次技术更新,那也就意味着我们还要经过7年时间才能达到ASML现在的水平。当然,如果我国在研发人员和研发资金都投入到位的话,说不定我们可以通过10年左右的时间努力追平世界最先进水平,甚至是超越。
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