0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML完成第100台EUV光刻机出货:2021年产能将大增

21克888 来源:互联网 作者:综合报道 2021-01-04 11:30 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

目前全球在***制造领域比较领先的只有三家公司,分别为荷兰的ASML和日本的佳能和尼康。截止2011年,ASML已经占到了全球***市场的70以上的市场份额。在7nm和5nm制程领域,ASML是全球唯一一家可以生产相应***的公司。换句话说,在最先进的***生产领域,ASML达到了绝对垄断的地步。

台积电和三星均已投入5nm工艺的量产,前者代工的产品包括苹果A14、M1、华为麒麟9000等,后者则包括Exynos 1080、骁龙888等。其实从7nm开始,台积电和三星就开始引入EUV光刻,但过程层数较少。按照ASML(阿斯麦)的说法,迭代到5nm后,EUV的层数达到了10~14层,包括但不限于触点、过孔以及关键金属层等过程。未来的3nm、2nm,对EUV的依赖将更甚。

根据最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV***的出货。更加利好的消息是,业内预估ASML今年(2021年)的EUV***产能将达到45~50台的规模。

毕竟,2019年ASML仅出货了26台,去年三季度后全年累计出货23台(全年预估35台),可谓少得可怜。

另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV***TWINSCAN NXE:3600D,生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm,单台价格或高于老款的1.2亿欧元(约合9.5亿元人民币)。



不少人更加关心,目前我国的***水平在什么档次?

据悉,上海微电子国内技术最先进的一家***生产企业,而2021年才能交付一台28nm的***。

目前全球较为领先的芯片就是采用的5nm制程,台积电现在已经在筹划3nm技术的研发。从28nm发展到5nm制程中间隔了14nm和7nm,如果说国内***两年可以进行一次技术更新,那也就意味着我们还要经过7年时间才能达到ASML现在的水平。当然,如果我国在研发人员和研发资金都投入到位的话,说不定我们可以通过10年左右的时间努力追平世界最先进水平,甚至是超越。

本文由电子发烧友综合报道,内容参考自ASML、CnBeta,转载请注明以上来源。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 5nm
    5nm
    +关注

    关注

    1

    文章

    343

    浏览量

    26676
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    738

    浏览量

    43637
  • 3nm
    3nm
    +关注

    关注

    3

    文章

    238

    浏览量

    15083
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。   以光刻胶为例,这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及以下先进制程芯片 时代,不仅需要EUV光刻机,更需要
    的头像 发表于 10-28 08:53 7109次阅读

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML
    的头像 发表于 10-04 03:18 1.1w次阅读
    俄罗斯亮剑:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飙升!ASML光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造
    的头像 发表于 07-24 09:29 8794次阅读
    AI需求飙升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    看点:积电展示新一代芯片技术 特斯拉:努力在中国市场推出辅助驾驶

    ‌(低成本方案,适配手机/笔记本),并宣布至2029均无需采用ASML高价High-NA EUV光刻设备。‌‌这意味着积电‌即便不用阿斯
    的头像 发表于 04-23 15:07 400次阅读

    垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装

    能量产 EUV 光刻机的厂商,早已凭借这一垄断地位,深度绑定积电等头部芯片制造商,左右着全球最先进 AI 芯片的产能与迭代节奏。如今,这家巨头正跳出
    的头像 发表于 03-05 09:19 2731次阅读

    EUV光源重大突破!ASML:芯片产量将提升50%

    紫外光刻EUV)设备的公司。EUV设备堪称芯片制造商生产先进计算芯片的“神器”,像积电、英特尔等行业巨头都高度依赖它。EUV
    的头像 发表于 02-25 09:15 2597次阅读

    禾赛科技宣布2026激光雷达规划年产能翻番至400万

    ADAS 及机器人领域日益增长的激光雷达需求,公司规划年产能将由 2025 的 200 万提升至 2026 的 400 万,实现翻
    的头像 发表于 01-08 14:13 540次阅读

    泽攸科技 | EBL和EUV光刻机有何区别?如何影响半导体行业?

    从技术路径上看,电子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一类问题的解法。电子束光刻本质上是一种直接写入技术,利用聚焦电子束在抗蚀剂上逐点曝光,通过电磁控制精确描绘图形。这种方式不依赖掩
    的头像 发表于 01-06 16:49 1061次阅读
    泽攸科技 | EBL和<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>有何区别?如何影响半导体行业?

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 2759次阅读

    全球市占率35%,国内90%!芯上微装500步进光刻机交付

      电子发烧友网综合报道,近日,上海芯上微装科技股份有限公司(简称:芯上微装,英文简称:AMIES)500步进光刻机成功交付,并举办了500
    发表于 08-13 09:41 2589次阅读
    全球市占率35%,国内90%!芯上微装<b class='flag-5'>第</b>500<b class='flag-5'>台</b>步进<b class='flag-5'>光刻机</b>交付

    今日看点丨佳能再开新光刻机工厂;中国移动首款全自研光源芯片研发成功

    总建筑面积为67518平方米,总投资额约500亿日元,投产后佳能的光刻设备产能将2021翻倍。该工厂将于今年9月启动最初生产,明后年补充镜头加工制造能力。   佳能宇都宫工厂不制造
    发表于 08-05 10:23 2345次阅读

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    佳能9月启用新光刻机工厂,主要面向成熟制程及封装应用

    7 月 31 日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能 (Canon) 位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于 9 月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装
    的头像 发表于 08-04 17:39 1068次阅读

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 2162次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03