0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

如何做晶圆切割(划片),晶圆切割的工艺流程

电子设计 来源:电子设计 作者:电子设计 2020-12-24 12:38 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

晶圆切割(即划片)是芯片制造工艺流程中一道不可或缺的工序,在晶圆制造中属于后道工序。晶圆切割就是将做好芯片的整片晶圆按芯片大小分割成单一的芯片(晶粒)。

最早的晶圆是用切片系统进行切割划片)的,这种方法以往占据了世界芯片切割市场的较大份额,特别是在非集成电路晶圆切割领域。钻石锯片(砂轮)切割方法是较为常见的晶圆切割方法。新型切割方式有采用激光进行无切割式加工的。

晶圆切割工艺流程主要包括:绷片、切割、UV照射。

晶圆切割将一个晶圆上单独的die通过高速旋转的金刚石刀片切割开来,形成独立的单颗的晶片,为后续工序做准备。晶圆切割需要用到特定的切割机刀片。

绷片是一个切割前的晶圆固定工序,在晶圆的背面贴上一层蓝膜,并固定在一个金属框架上,以利于后面切割。

切割过程中需要用去离子水(DI纯水)冲去切割产生的硅渣和释放静电,去离子水由专业制备的小型设备「纯水机」制备。

UV照射是用紫外线照射切割完的蓝膜,降低蓝膜的粘性,方便后续挑粒。

P.S.:OFweek君不是技术出身,现学现卖的这种概括文章,对于产业中的各种基础概念无法做到非常准确的描述。若读者朋友们对于文章内容准确性有异议,欢迎添加OFweek君微信(hepinggui2010)告知。若相关内容能形成完整的文章,OFweek君也可以署名文章投稿的形式,将相应内容发表在OFweek旗下各个内容平台上。感谢大家的支持!

审核编辑:符乾江
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    462

    文章

    53534

    浏览量

    459085
  • 晶圆
    +关注

    关注

    53

    文章

    5344

    浏览量

    131687
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    半导体行业案例:切割工艺后的质量监控

    切割,作为半导体工艺流程中至关重要的一环,不仅决定了芯片的物理形态,更是影响其性能和可靠性的关键因素。传统的切割
    的头像 发表于 08-05 17:53 704次阅读
    半导体行业案例:<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>切割</b><b class='flag-5'>工艺</b>后的质量监控

    切割液性能智能调控系统与 TTV 预测模型的协同构建

    摘要 本论文围绕超薄切割工艺,探讨切割液性能智能调控系统与
    的头像 发表于 07-31 10:27 340次阅读
    <b class='flag-5'>切割</b>液性能智能调控系统与<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b> TTV 预测模型的协同构建

    划片机在生物芯片制造中的高精度切割解决方案

    划片机(DicingSaw)在生物芯片的制造中扮演着至关重要的角色,尤其是在实现高精度切割方面。生物
    的头像 发表于 07-28 16:10 612次阅读
    <b class='flag-5'>划片</b>机在生物<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>芯片制造中的高精度<b class='flag-5'>切割</b>解决方案

    基于纳米流体强化的切割液性能提升与 TTV 均匀性控制

    切割工艺参数以实现 TTV 均匀性有效控制,为切割
    的头像 发表于 07-25 10:12 353次阅读
    基于纳米流体强化的<b class='flag-5'>切割</b>液性能提升与<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b> TTV 均匀性控制

    切割液多性能协同优化对 TTV 厚度均匀性的影响机制与参数设计

    TTV 均匀性提供理论依据与技术指导。 一、引言 在切割工艺中,TTV 厚度均匀性是衡量
    的头像 发表于 07-24 10:23 452次阅读
    <b class='flag-5'>切割</b>液多性能协同优化对<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b> TTV 厚度均匀性的影响机制与参数设计

    蚀刻扩散工艺流程

    蚀刻与扩散是半导体制造中两个关键工艺步骤,分别用于图形化蚀刻和杂质掺杂。以下是两者的工艺流程、原理及技术要点的详细介绍:一、
    的头像 发表于 07-15 15:00 959次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>蚀刻扩散<b class='flag-5'>工艺流程</b>

    切割中浅切多道工艺与切削热分布的耦合效应对 TTV 的影响

    一、引言 在半导体制造领域,总厚度变化(TTV)是衡量质量的关键指标,直接影响芯片制
    的头像 发表于 07-12 10:01 370次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>切割</b>中浅切多道<b class='flag-5'>工艺</b>与切削热分布的耦合效应对 TTV 的影响

    超薄切割:振动控制与厚度均匀性保障

    超薄因其厚度极薄,在切割时对振动更为敏感,易影响厚度均匀性。我将从分析振动对超薄切割的影
    的头像 发表于 07-09 09:52 463次阅读
    超薄<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>切割</b>:振动控制与厚度均匀性保障

    湿法清洗工作台工艺流程

    湿法清洗工作台是一个复杂的工艺,那我们下面就来看看具体的工艺流程。不得不说的是,既然是复杂的工艺每个
    的头像 发表于 04-01 11:16 878次阅读

    高精度划片切割解决方案

    高精度划片切割解决方案为实现高精度切割,需
    的头像 发表于 03-11 17:27 731次阅读
    高精度<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>划片</b>机<b class='flag-5'>切割</b>解决方案

    切割的定义和功能

    Dicing 是指将制造完成的(Wafer)切割成单个 Die 的工艺步骤,是从到独立芯
    的头像 发表于 02-11 14:28 2676次阅读

    详解划片工艺流程

    在半导体制造的复杂流程中,历经前道工序完成芯片制备后,划片工艺成为将芯片从
    的头像 发表于 02-07 09:41 2775次阅读
    详解<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的<b class='flag-5'>划片</b><b class='flag-5'>工艺流程</b>

    到芯片:划片机在 IC 领域的应用

    在半导体制造领域,IC芯片的生产是一个极其复杂且精密的过程,划片机作为其中关键的一环,发挥着不可或缺的作用。从工艺流程来看,在芯片制造的后端工序中,划片机承担着将
    的头像 发表于 01-14 19:02 993次阅读
    从<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>到芯片:<b class='flag-5'>划片</b>机在 IC 领域的应用

    半导体制造工艺流程

    半导体制造是现代电子产业中不可或缺的一环,它是整个电子行业的基础。这项工艺流程非常复杂,包含了很多步骤和技术,下面将详细介绍其主要的制造工艺流
    的头像 发表于 12-24 14:30 4775次阅读
    半导体<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>制造<b class='flag-5'>工艺流程</b>

    划片为什么用UV胶带

    圆经过前道工序后芯片制备完成,还需要经过切割使上的芯片分离下来,最后进行封装。不同厚度
    的头像 发表于 12-10 11:36 1600次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>划片</b>为什么用UV胶带