DUV可解燃眉之急，自研之路仍要走

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元。媒体称，台积电采购的EUV光刻机已经超过30台，三星累计采购的EUV光刻机不到20台。

围绕芯片制造要用到的关键设备——光刻机，一直不缺话题。

比如，一台EUV光刻机卖多少钱？谁买走了这些EUV光刻机？大陆厂商还能买到光刻机吗？为何三星高管最近跑去荷兰拜访ASML总部？

上面这几个问题，其实可以在ASML和台积电最新发布的三季报及业绩说明会中找到部分答案。两家公司的地位无需多言，前者是全球顶级光刻机龙头，后者是全球芯片制造龙头。

关于售价，ASML总裁兼首席执行官彼得·韦尼克（Peter Wennink）10月14日介绍公司三季度业绩情况时间接给出了答案。他表示，“我们第三季度的新增订单达到29亿欧元，其中5.95亿欧元来自4台EUV设备。”简单换算一下，一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元。

这是什么概念？2019年，A股还有1462家上市公司的营业收入低于11.74亿元。换句话说，ASML每年卖一台EUV光刻机，收入就可完胜A股的1/3公司。

售价这么高，ASML根本不愁买家，公司愁的是产能跟不上需求。

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。

据了解，EUV光刻机不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精细图形，没有超纯水和晶圆接触，在产品生产周期、光学邻近效应矫正的复杂程度、工艺控制、良率等方面都有明显优势。

ASML的EUV光刻机也在推陈出新。公司10月14日还公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产效率，计划于2021年的中期开始发货。

芯片大厂争购

ASML的EUV光刻机在2016年正式上市，主要供应给英特尔、台积电和三星这三家大客户。其EUV光刻机出货量一直在增加，从2016年的5台上升到2019年的26台。

目前，台积电已将可量产的工艺推到5nm，大幅领先英特尔和三星；同时，按照计划，公司3nm工艺将在明年试产，2022年下半年正式量产。重要的是，客户对其7nm工艺和5nm工艺的需求十分强劲，这两项工艺的收入占比在三季度已达43%。因此，台积电对EUV光刻机的需求无疑也是最强劲的。

图片来源：台积电三季报

近期有媒体报道，由于先进工艺推进顺利和订单扩大，台积电将加大EUV光刻机的采购力度，预计到2021年底采购量至55台左右。台积电方面回复中国证券报记者采访时表示，公司不评论市场传闻。前述媒体援引半导体供应链消息称，台积电采购的EUV光刻机已经超过30台，三星累计采购的EUV光刻机不到20台。

在ASML发布2020年第三季度财报当天，首席财务官罗杰·达森（Roger Dassen）接受视频采访时被问及美国的半导体出口禁令对ASML的业务有何种影响，达森回应称，他们注意到了美方的禁令，也意识到了禁令对中国客户的影响。

随后达森对ASML的光刻机出口问题作出了解释，他说：“如果要解释一下美国的规定对ASML有什么影响的话，对于的中国客户，我们还是可以直接从荷兰向他们出口DUV光刻机，无需任何出口许可。”

但他随后也补充称，如果相关系统或零件是从美国出口的，那这些设备仍然需要得到美方的许可。

达森表示，ASML将尽最大努力，尽可能为所有客户继续提供服务和支持。

根据公开的财报电话会议录音，韦尼克也在会议上确认了这一点。韦尼克称，根据当前美国的规定，直接从荷兰向中国出口的DUV光刻机不受影响。

但达森和韦尼克都强调的是DUV光刻机出口，并未提到更先进的EUV（极紫外）光刻机。彭博社14日在报道中也强调，DUV的规则不适用于EUV光刻机。ASML必须获得许可证才有可能向中国企业出口EUV光刻机。但荷兰政府已经暂缓了EUV光刻机出口许可，一直到现在都没有批准。

“尽管被夹在中美之间，ASML仍积极努力”

EUV光刻机和DUV光刻机有什么不同？

那就是中低端与高端的区别。

根据曝光源的不同，光刻机分为EUV型（极深紫外线）、DUV型（深紫外线）。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，而EUV能满足10nm以下的晶圆制造需求。

有网友直呼：DUV光刻机是二等品，自然不用受限。

EUV光刻机则是实现7nm的关键设备，如果中国大陆无法引入ASML的EUV光刻机，则意味着大陆将止步于7nm工艺。

目前中芯国际订购了一台EUV。价格贵，但不是只买一台的唯一原因，而是买多了，现在真用不上。

有微电子博士解析，就这一台，还是着眼于两三代技术节点之后的产品研发（14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm）。必须要用EUV的，是5nm以及以下，直到7nm，DUV都够用。

三星，英特尔和台积电疯抢EUV，是因为他们目前就要用。三星和台积电都已经开始攻坚3nm了。而中芯国际，在logic device领域，确实还是第二梯队的，下一代和下下代研发，都不是非EUV不可，DUV完全够用。需要多沉下心来多琢磨光刻工艺。

根据ASML发布的财报，2020年第三季度ASML光刻机净销售额达31亿欧元，中国大陆市场的营收占到21%。第三季度ASML总计净销售额达到约40亿欧元，净收入近11亿欧元。值得一提的是，EUV光刻机的收入占比极高，贡献了66%的光刻机销售额。

今年5月，ASML与无锡高新区签署了战略合作协议，在无锡高新区内扩建升级阿斯麦光刻设备技术服务（无锡）基地。此前，ASML已在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司，为客户提供服务和咨询，其中深圳是其在亚洲最大的软件研发中心。

ASML垄断着全球光刻机市场，但核心资本仍握在美国手里。所以，虽然消息是好消息，但现实情况可能是，DUV可解燃眉之急，自研之路仍要走。

责任编辑：xj原文标题：光刻机可以卖给中国？

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