据日经报道,日本信越化学将斥资300亿日元(约2.85亿美元),把光刻胶的产能提高20%,以扩充对半导体关键材料的供应。
根据报道,信越化学将会在日本和台湾地区兴建工厂,位于台湾地区云林工厂将先完成,预计2020年2月开始量产,届时信越化学将得以在台湾地区生产可与极紫外光(EUV)光刻技术兼容的光刻胶,以满足台积电等台厂客户的需求。
日本的工厂将建在新泻县,预计2022年开始运作。届时台湾地区的光刻胶将增产50%,日本的增产20%,同时也会陆续招募新员工。新建的两座工厂除了满足台湾台湾地区和日本的需求之外,还能够为中国大陆和韩国提供服务。
光刻胶是半导体供应链的关键材料,随着半导体应用的日益广泛,光刻胶市场将在未来五年成长60%,达到2500亿日元的规模,目前全球的光刻胶生产还是以日本的为主,其掌握着80%的市占率,光是信越化学一家就占到了20%~30%,另外JSR和TOK也在日本和海外生产EUV光刻胶,住友化学和Fujifilm也在这方面虎视眈眈。
责任编辑:lq
-
半导体
+关注
关注
336文章
29999浏览量
258464 -
台积电
+关注
关注
44文章
5787浏览量
174800 -
EUV
+关注
关注
8文章
614浏览量
88532
原文标题:【产业动态】信越化学拟斥资2.85亿美元在日本和台湾地区建厂
文章出处:【微信号:gh_c8682fd6f974,微信公众号:半导体促进会】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
中国打造自己的EUV光刻胶标准!
光刻胶剥离工艺
光刻胶旋涂的重要性及厚度监测方法
国产百吨级KrF光刻胶树脂产线正式投产
国产光刻胶突围,日企垄断终松动
针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量
低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

日本信越化学将斥资300亿日元,把光刻胶的产能提高20%
评论