0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML公布新一代EUV光刻机

工程师 来源:快科技 作者:快科技 2020-10-16 14:27 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

荷兰ASML(阿斯麦)公布了截止9月30日的三季度财报数据。

当季销售收入为40亿欧元,净利润高达11亿欧元(约合87亿元人民币)。2020年前三季度,ASML总共实现净销售额97.24亿欧元,较去年同期77.83亿欧元提高近25%;净利润22.03亿欧元同样大幅提升51%

ASML预估四季度的收入在36到38亿欧元,毛利率50%左右,2020全年的营收应该至少能达到133亿欧元。

据悉,当季ASML共获得60台光刻机的销售收入,总额31亿欧元,其中EUV光刻机14台,但收入占比达到了66%。

地区方面,中国台湾贡献了光刻机收入的47%,看来台积电支付了一大笔EUV机器的货款。韩国厂商贡献了26%,中国大陆企业贡献了21%。

另外,当季ASML还接到了累计29亿欧元的新订单,并出货了10台EUV光刻机,型号以3400B为主。

展望2021年,ASML表示谨慎乐观,并给出较低两位数的预期收入增长判断。

同时,ASML还公布了光刻机产品的最新进展。

其中TWINSCAN NXE:3600D作为其目前研发中的最先进光刻机系统,终于敲定最终规格。

具体来说,30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产率,并改进机器匹配套准精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出货交付,客户还需要一定时间等待,价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。

目前,ASML已经投产的最先进光刻机是3400C,但主力出货型号是3400B。参数方面,3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小时可曝光125片晶圆。

另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了软件升级。全新的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2050i已经在三季度结束验证,四季度早期开始正式出货。

据悉,在截止9月30日的单季度,ASML共获得60台光刻机收入,出货了10台EUV光刻机。

ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中还谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况。

Roger Dassen指出,在中国业务方面,去年中国本土客户为ASML创造了约8亿欧元的销售额,今年将会更多,预计超过10亿欧元。

关于美国有可能对中芯国际采取限制措施,Roger Dassen表示,ASML今年客户以逻辑工艺领域为主,中芯国际则是ASML的主要逻辑工艺领域客户。

“我们不会对特定的客户情况进行推测或评论,但总的来说,我们会在法律和法规要求的范围内尽最大的能力继续为客户提供服务。”Roger Dassen如是说。

Roger Dassen进一步指出,ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释,当然也知道这些与特定的中国客户密切相关,但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统,且无需出口许可证。

不过,如果涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统,ASML则需要为此申请出口许可证。

责任编辑:haq

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 中芯国际
    +关注

    关注

    27

    文章

    1447

    浏览量

    67584
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48724
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    734

    浏览量

    43335
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    中国打造自己的EUV光刻胶标准!

    电子发烧友网报道(文/黄山明)芯片,直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ,而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够,还需要光刻
    的头像 发表于 10-28 08:53 5824次阅读

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML
    的头像 发表于 10-04 03:18 9356次阅读
    俄罗斯亮剑:<b class='flag-5'>公布</b><b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飙升!ASML光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光刻机龙头企业
    的头像 发表于 07-24 09:29 7221次阅读
    AI需求飙升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 723次阅读

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这
    发表于 06-29 06:39 1813次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。 只有对聚焦电极改进才是最佳选择,以下介绍该进后的电极工作原理。通过把电子束压缩到中心线达到缩束的目的,使电子束分布在条直线
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场对光刻机的需求持续增长,尤
    的头像 发表于 04-07 09:24 1133次阅读

    EUV光刻技术面临新挑战者

      EUV光刻有多强?目前来看,没有EUV光刻,业界就无法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻机
    的头像 发表于 02-18 09:31 1879次阅读
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技术面临新挑战者

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 955次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每光刻机
    的头像 发表于 01-20 09:44 2244次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    飞利浦将旗下MEMS代工厂Xiver出售,该厂为ASML光刻机提供组件

    近日,飞利浦已将其位于荷兰埃因霍温的 MEMS 晶圆厂和代工厂出售给个荷兰投资者财团,交易金额不详。该代工厂为 ASML 光刻机等公司提供产品,并已更名为 Xiver。 该 MEMS 代工厂已被
    的头像 发表于 01-16 18:29 2449次阅读

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5702次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高
    的头像 发表于 01-07 10:02 4131次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    日本首台EUV光刻机就位

    本月底完成。 Rapidus 计划 2025 年春季使用最先进的 2 纳米工艺开发原型芯片,于 2027 年开始大规模生产芯片。 EUV 机器结合了特殊光源、镜头和其他技术,可形成超精细电路图案。该系统体积小,不易受到振动和其他干扰。 ASML 是全球唯
    的头像 发表于 12-20 13:48 1403次阅读
    日本首台<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>就位