我国CMP抛光材料国产化进程加快，国内CMP材料市场迎来发展机遇

化学机械抛光（CMP）是化学腐蚀与机械磨削相结合的一种抛光方法，是集成电路制造过程中实现晶圆表面平坦化的关键工艺。从CMP材料的细分市场来看，抛光液和抛光垫的市场规模占比最大。从全球企业竞争格局来看，全球抛光液和抛光垫市场长期被美国和日本企业所垄断。未来，随着国内半导体市场不断增长和国家政策对“半导体和集成电路”产业的支持，我国CMP抛光材料国产化、本土化的供应进程将加快。

1、抛光液和抛光垫是主要CMP材料

化学机械抛光（CMP）是化学腐蚀与机械磨削相结合的一种抛光方法，是集成电路制造过程中实现晶圆表面平坦化的关键工艺。CMP抛光材料具体可分为抛光液、抛光垫、调节器、清洁剂等。目前，抛光液和抛光垫的市场规模占比最大，2018年，抛光液和抛光垫占CMP抛光材料市场的比重分别为49%和33%。

2019年，全球抛光垫和抛光液的市场规模分别为7亿美元和12亿美元，较2018年有所增长。

2、全球市场被美、日企业垄断

在企业竞争格局中，全球抛光液和抛光垫市场长期被美国和日本企业所垄断，例如，在抛光液市场，美国Cabot公司的市场占有率达33%;在抛光垫市场，美国DOW公司的市场份额达79%。在我国，抛光液的进口依赖局面已由安集科技公司打破，鼎龙股份的抛光垫产品也在持续开拓市场。

3、国内CMP材料市场迎来发展机遇

由于工艺制程和技术节点不同，每片晶圆在生产过程中都会经历几道甚至几十道CMP抛光工艺。随着未来芯片尺寸不断减小的趋势，CMP抛光的步骤将不断增加，对CMP材料的需求也将不断增加。鉴于中国大陆已是全球最大的半导体市场，半导体材料作为半导体产业的重要组成，未来的发展潜力巨大。

同时，随着国家政策对“半导体和集成电路”产业的支持，我国半导体材料国产化、本土化的供应进程将加快。2019年12月，据工信部发布的《重点新材料首批次应用示范指导目录（2019年版）》显示，在集成电路应用领域，CMP抛光液和CMP抛光垫均有入选：

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