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国产光刻机加快研发 有望打破垄断格局

半导体动态 来源:工程师吴畏 2019-08-12 16:22 次阅读
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我国正加速实现中高端光刻机的国产化。近日,亦庄企业北京国望光学科技有限公司增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资,国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械研究所作为战略投资者,两家机构以无形资产作价10亿元入股,对应持股比例为33.33%。这意味着北京在推动国产光刻机核心部件生产方面迈出实质性步伐,将加快突破国产中高端光刻机制造“卡脖子”技术难题。

光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。光刻机工作原理跟照相机类似,不过它的底片是涂满光刻胶的硅片,各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上,光刻胶的曝光部分与硅片进行反应,将其永久刻在硅片上,这就是芯片生产最重要的步骤。由于制造光刻机具有极高的技术和资金门槛,目前全球光刻机市场基本被荷兰的阿斯麦、日本的尼康和佳能三家企业垄断。

国望光学2018年6月落户北京经济技术开发区,是北京亦庄国际投资发展有限公司的全资子公司,注册资本20亿元,主营业务为光刻机核心部件生产。

“国产光刻机制作工艺和全球顶尖工艺还有一定差距,国望光学的成立就是要推动国产中高端光刻机整机研发和量产。”亦庄国投相关负责人说,此次通过北交所增资就是要寻找技术实力一流的战略投资方。

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