ASML开始像1.5纳米制程迈进

对于芯片行业而言，2018年是一个特殊的年份，这一年各大芯片公司如三星台积电纷纷宣布将会量产7nm制程芯片;这一年中国宣布全面介入芯片领域;这一年是EUV光刻成功投入商业化。虽说目前的EUV光刻还存在一定的问题，例如光源功率以及晶圆产能输出还没有达到理想状态，但是可以预见的是，7nm制程工艺已经马上就要到来。

随着摩尔定律的推进，人类在微观世界越走越远，光刻慢慢进入到了诡谲的量子领域，业界怀疑过现在的制程是否已经到达人类的极限。对此，世界上最先进的***制造公司ASML的研究部主管对此有不同的看法，他认为，摩尔定律至少可以推进到2030年，制程可以到达1.5纳米。

ASML公司是全世界在***领域走的最远的公司，2018年宣布量产的7nm制程芯片便是由ASML公司制造的EUV***生产的。之前为了研究极紫外***（EUV），ASML公司投入了数百亿欧元和几十年的研究时间。目前， ASML公司正在研究如何进一步提高***的数值孔径，以优化EUV***的分辨率。

数值孔径NA对于***分辨率的影响，可以用一个公式来说清楚，***的分辨率=k1*λ/NA，k1是常数，不同的***有不同的k1，λ是工作波长，目前的EUV光刻使用的是13.5nm的极紫外光，NA是分辨率的数值孔径。从公式里很清楚地看到，在确定***类型和工作波长之后，数值孔径越大，分辨率越低，制程也就越先进。

不久前，ASML宣布和IMEC比利时微电子中心合作，希望将***数值孔径从0.33提高到0.5，用以制造制程3nm以下的晶体管。此前，ASML公司为提高数值孔径，曾经收购过德国卡尔蔡司公司的半导体子公司。