· 美国国际贸易委员会(ITC)全体委员会在针对英诺赛科的专利侵权案中做出裁决,裁定英飞凌胜诉
· ITC下令对英诺赛科在美国销售的氮化镓产品实施进口及销售禁令
· 此项裁决再次凸显了英飞凌行业领先专利组合的价值
【2026年5月8日,德国慕尼黑讯】 美国国际贸易委员会(ITC)全体委员会维持了其于2025年12月作出的初步裁定,确认英诺赛科(Innoscience)侵犯了英飞凌的一项氮化镓(GaN)技术专利,并下令对英诺赛科实施进口和销售禁令。ITC委员会的最终裁决及其颁布的相关禁令仍需经过为期60天的美国总统审查期后生效。

英飞凌300mm GaN技术
英飞凌科技高级副总裁、氮化镓系统业务线负责人Johannes Schoiswohl表示:“此项裁决再次印证了英飞凌在知识产权方面的坚实基础,也彰显了我们坚决捍卫专利组合、维护市场公平竞争的决心和承诺。凭借业界领先的300毫米氮化镓制造能力,我们在推动规模化创新方面具备独特优势,能够为客户提供加速低碳化与数字化进程所需的性能、质量及成本优势。”
该裁决是又一项积极的结果,进一步彰显了英飞凌在氮化镓技术领域所作贡献的价值。在德国进行的相关诉讼中,英飞凌正在慕尼黑第一地方法院(Landgericht München I)就三项专利和一项实用新型专利的侵权问题提起诉讼。早在2024年8月,慕尼黑法院就已裁定英诺赛科侵犯了英飞凌指控的首项专利。另一项专利和一项实用新型专利的庭审将于2026年6月举行。
英飞凌是氮化镓市场领先的垂直整合器件制造商(IDM),拥有行业内最广泛的知识产权组合,涵盖约450个氮化镓专利家族。氮化镓在实现高性能、高能效的功率系统中起着关键作用,其应用范围覆盖可再生能源系统、人工智能数据中心、工业自动化以及电动汽车(EV)等领域。凭借更高的功率密度、更快的开关速度以及更低的能耗,氮化镓半导体能支持更紧凑的设计,有效降低能耗和减少热量产生。作为功率系统的领导者,英飞凌在硅(Si)、碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)这三种关键半导体材料领域都处于行业领先地位,并持续推动技术进步。
关于英飞凌
英飞凌科技股份公司是全球功率系统和物联网领域的半导体领导者。英飞凌以其产品和解决方案推动低碳化和数字化进程。该公司在全球拥有约57,000名员工(截至2025年9月底),在2025财年(截至9月30日)的营收约为147亿欧元。英飞凌在法兰克福证券交易所上市(股票代码:IFX),在美国的OTCQX国际场外交易市场上市(股票代码:IFNNY)。
英飞凌中国
英飞凌科技股份公司于1995年正式进入中国大陆市场。自1995年10月在无锡建立第一家企业以来,英飞凌的业务取得非常迅速的增长,在中国拥有约3,000多名员工,已经成为英飞凌全球业务发展的重要推动力。英飞凌在中国建立了涵盖生产、销售、市场、技术支持等在内的完整的产业链,并在销售、技术应用支持、人才培养等方面与国内领先的企业、高等院校开展了深入的合作。
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