钙钛矿/硅叠层太阳能电池是突破单结电池效率极限的重要方向,但目前高效器件多依赖硅异质结底电池与含铟透明导电氧化物(如ITO)作为复合层。然而,铟的稀缺性限制了其大规模应用,且产业界更倾向于采用已占主导地位的TOPCon技术。为此,急需开发适用于TOPCon底电池、可工业化沉积的无铟复合层材料。美能QE量子效率测试仪可用于精确测量太阳电池的EQE与光谱响应,帮助优化界面工程和背接触设计,从而提升电池的量子效率和整体性能。
本研究对比了掺铝氧化锌(AZO)和掺锌氧化锡(ZTO)与ITO的性能,发现溅射沉积虽会对TOPCon造成损伤,但可通过退火修复。系统分析表明,ZTO在材料特性、空穴传输层兼容性及钙钛矿单结电池性能上均与ITO相当,而AZO则导致严重效率损失。最终在叠层电池中证实,采用ZTO复合层可实现与ITO相近的效率,且ZTO可采用直流溅射旋转靶材工艺,具备工业化可行性,为无铟复合层在TOPCon基全织构叠层电池中的应用提供了有效解决方案。
实验方法简述
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n‐TOPCon欧姆衬底:采用磷掺杂、织构化的4英寸硅片,经热氧化生长隧穿氧化层,PECVD沉积掺磷a‐Si,900°C退火形成TOPCon,随后通过PECVD沉积SiNx进行氢化。TCO通过直流溅射沉积,厚度30 nm(正面)和200 nm(背面),之后进行300°C退火,背面蒸镀Ag,激光切割成2.5×2.5 cm²。
TOPCon²底电池:采用硼掺杂、正面织构化、背面平面的4英寸硅片,分别制备n‐TOPCon正面和p‐TOPCon背面,退火和氢化后,沉积TCO(ITO或ZTO),退火,背面蒸镀Ag。
钙钛矿电池制备:TCO/TOPCon衬底经UV‐臭氧处理,旋涂Me‐4PACz作为空穴传输层,热共蒸发PbI₂和CsI形成无机骨架,旋涂有机组分(FABr/FAI)并退火,部分样品采用PDAI钝化。随后热蒸发C₆₀作为电子传输层,ALD沉积SnOx,直流溅射ITO前电极,热蒸发Ag栅线和MgFₓ减反射层。
表征方法:XRD、霍尔效应、接触角、AFM、KPFM、EQE、JV测试(LED太阳模拟器)、Suns‐VOC测试。
TCO在TOPCon上的溅射沉积
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(a)欧姆型n‑TOPCon样品结构(b) 三种TCO在氢化后、溅射后以及固化退火后的iVOC 值(c)所有TCO在固化退火前后与n‑TOPCon的接触电阻率
本研究采用欧姆型n‐TOPCon衬底,其具有织构化随机金字塔表面,两侧均制备有n‐TOPCon并经过氢化处理。TCO通过直流溅射沉积在两侧,其中ZTO和ITO使用旋转靶材,AZO使用平面靶材。工艺经过优化,以最小化对TOPCon钝化质量的损伤,同时保持低接触电阻率。
通过光致发光测量计算的空间平均隐含开路电压(iVOC)用于评估溅射损伤。初始氢化后的iVOC约为740 mV。溅射ZTO和ITO后,iVOC降至约710 mV,而AZO溅射造成的损伤最大,iVOC低于690 mV。经过300°C、5分钟的热板退火处理后,所有三种TCO的钝化质量均得到显著恢复,iVOC回升至720–730 mV。该退火过程通过修复硅界面处的悬挂键实现再钝化。
接触电阻率测量显示,AZO的接触电阻率最低(10–50 mΩ·cm²),退火后基本不变;ITO约为100 mΩ·cm²,退火后升至约300 mΩ·cm²;ZTO约为250 mΩ·cm²,退火后升至约430 mΩ·cm²。所有样品的接触电阻率均远低于影响叠层电池填充因子的阈值(约1 Ω·cm²),因此适合用于后续钙钛矿电池研究。
TCO材料特性及其对空穴传输层沉积的影响

(a)对沉积态和退火态TCO进行XRD测量以评估其结晶度(b)霍尔效应范德堡法测量得到的方阻Rsheet、迁移率μ和载流子浓度N
不同TCO的表面粗糙度差异显著:ZTO和ITO为无定形结构,表面较平坦;AZO结晶度较高,表面较粗糙。XRD测量表明,ZTO在退火前后均保持无定形状态;AZO在沉积态即显示出ZnO的(002)衍射峰,退火后无明显变化;ITO在沉积态为无定形,退火后出现对应于In₂O₃立方方铁锰矿结构(222)面的结晶峰。
霍尔效应测试结果显示,ITO具有最佳的横向导电性,方阻低于1 kΩ,退火前后变化不大。ZTO的方阻较高(沉积态约4 kΩ),退火后因载流子浓度增加而降低。AZO在沉积态时方阻约为1 kΩ,但退火后载流子浓度和迁移率均显著下降,方阻升至约40 kΩ。

(a)沉积态和退火态TCO层以及经过UV‑臭氧处理和HTL沉积后的接触角测量结果(b)平面硅衬底上退火态TCO在有/无 HTL情况下的功函数平均值
接触角测试表明,各TCO在退火前后的疏水性无显著差异,接触角约为60°。经15分钟UV‐臭氧处理后,所有TCO表面变得更亲水,其中ZTO表面甚至完全铺展。沉积Me‐4PACz空穴传输层后,所有样品的接触角均升至约80°,表明自组装单分子层覆盖均匀且取向良好。开尔文探针力显微镜测量显示,沉积空穴传输层后,各TCO的功函数均显著提升,最终值介于5.19 eV(ZTO)至5.28 eV(AZO)之间,有利于形成良好的能带对齐。
钙钛矿单结太阳能电池
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在织构化欧姆型n‑TOPCon衬底上制备的钙钛矿单结太阳能电池样品结构示意图
为研究不同TCO对钙钛矿形成和电池性能的影响,在织构化的欧姆型n‐TOPCon衬底上制备了钙钛矿单结电池。结果显示,采用AZO的电池虽然具有较高的iVOC和VOC,但由于短路电流密度和填充因子极低,效率很差。JV曲线在短路电流密度附近出现陡降,通常与分流有关,但伪JV曲线和高伪填充因子表明实际分流电阻很高,因此问题可能源于接触层载流子迁移率较低。

(a) jSC、(b) iVOC、(c) VOC、(d) FF和pFF、(e)效率。每组测量四个电池,分别进行正向和反向JV扫描
相比之下,采用ITO和ZTO的电池均表现出良好性能。ZTO衬底上的电池VOC最高,且与iVOC接近,表明选择性损失小。填充因子方面,ITO略优于ZTO,这与霍尔测试中ZTO迁移率较低导致导电性较差的观察一致。退火处理对ITO和ZTO衬底上电池性能的影响不明显,但ZTO在沉积态时可使VOC提高20 mV,而退火后该增益消失。总体而言,ZTO与ITO在单结电池中表现相当,而AZO不适用于该结构。
钙钛矿/硅叠层太阳能电池
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(a)叠层电池结构示意图:TOPCon底电池正面和背面TCO分别为ITO或ZTO,顶部为全织构钙钛矿电池(b) JSC、(c) VOC、(d) FF、(e) PCE
基于上述结果,选择ZTO作为有潜力的无铟复合层材料,在TOPCon底电池上制备了完整的叠层电池。底电池采用p型FZ硅片,正面为110 nm n‐TOPCon,背面为50 nm p‐TOPCon,TCO层正面厚度30 nm,背面厚度150 nm。分别制备了正面和背面均为ITO或ZTO的两种电池,背面蒸镀1 μm银,顶部钙钛矿电池采用含PDAI钝化层的混合工艺。
JV测试结果表明,采用ZTO和ITO复合层的叠层电池性能相近,包括短路电流密度、开路电压和填充因子均无明显差异。虽然本批次电池性能略低于前述单结电池,这归因于简化的器件结构和暗周边区域钝化质量较差,但ZTO与ITO之间并无性能差距。

具有TOPCon² 底电池以及ITO或ZTO复合层的钙钛矿/硅叠层太阳能电池的EQE和反射率测量结果
外量子效率和反射率测量进一步证实了两者的光学性能相当。在300–1000 nm波长范围内,EQE曲线形状和反射率非常接近。在1100 nm以上波长,ZTO电池的反射率略高,表明其寄生吸收更少或陷光效果更好,但这对叠层电池的整体光学性能影响不大。
本文系统研究了在织构化n‐TOPCon上溅射沉积不同TCO对全织构钙钛矿/硅叠层太阳能电池的影响。重点对比了无铟替代材料AZO和ZTO与含铟ITO的性能。单结电池测试表明,ITO和ZTO均能实现良好性能,而AZO导致严重的性能损失。溅射过程会对TOPCon钝化造成损伤,但300°C退火可基本恢复。退火对TCO材料性能的影响各异:ZTO保持无定形,ITO发生部分结晶,AZO结晶度较高。霍尔测试显示ZTO导电性和迁移率低于ITO,这可能解释了单结电池中填充因子的微小差异。接触角和功函数测量表明,各TCO上空穴传输层的性质相似,但这些参数并不能完全预测电池性能。最终,在TOPCon底电池的叠层器件中,ZTO复合层实现了与ITO相近的效率。因此,ZTO是一种可行的无铟复合TCO材料,可采用直流溅射旋转靶材工艺,适用于工业化生产,且无效率损失。
美能QE量子效率测试仪
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美能QE量子效率测试仪可以用来测量太阳能电池的光谱响应,并通过其量子效率来诊断太阳能电池存在的光谱响应偏低区域问题。它具有普遍的兼容性、广阔的光谱测量范围、测试的准确性和可追溯性等优势。
兼容所有太阳能电池类型,满足多种测试需求
光谱范围可达300-2500nm,并提供特殊化定制
氙灯+卤素灯双光源结构,保证光源稳定性
原文参考:Indium-Free Recombination Junctions on Tunnel Oxide Passivating Contacts for Fully Textured Perovskite/Silicon Tandem Solar Cells
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无铟复合结在钙钛矿/硅叠层电池中的应用:AZO、ZTO与ITO在TOPCon钝化接触底电池上的性能对比
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