智测电子 TC Wafer 晶圆有线测温系统 半导体高精度多点测温方案
在半导体制造的核心制程中,晶圆表面温度直接决定工艺良率与产品品质。智测电子深耕半导体测温领域,推出TC Wafer 晶圆有线测温系统,采用热电偶 / RTD 双传感方案、多温区高精度测量、全制程适配能力,为 RTP、CVD、PVD 等热驱动工艺提供稳定、精准、可定制的晶圆测温解决方案,成为半导体加工设备核心晶圆测温系统配套利器。

一、核心技术优势 打造高精度晶圆测温标准
智测电子 TC Wafer晶圆有线测温系统以硬件 + 软件一体化方案,实现晶圆温度测量全维度精准采集,满足半导体制程严苛要求。
宽温域高精度测温,适配各类工艺场景系统支持 **-50℃~350℃、-50℃~700℃、-50℃~1200℃三档测温范围,搭配 T 型、K 型热电偶,全量程精度达±0.5℃±0.1% 读数 **,分辨率≤0.01℃,无论是低温曝光后烘烤还是高温快速热处理,都能实现无偏差晶圆温度监测。
多点同步测温,精准呈现温度分布支持1~68 个测温点自由配置,搭配 12 路微型插座 / 17×4 路 DB 快接两款晶圆测温模块,单模块最高 68 通道热电偶输入,采样频率≥1Hz / 通道,同步采集晶圆表面各区域温度,精准绘制温度分布图,解决制程温度不均痛点,是专业级晶圆多点测温设备。
多材质全尺寸定制,覆盖主流晶圆规格晶圆基材支持硅片、蓝宝石、碳化硅等材质,尺寸覆盖 50mm、100mm、150mm、200mm、300mm 全规格,可实现300mm 晶圆测温、200mm 晶圆测温、碳化硅晶圆测温、蓝宝石晶圆测温等定制需求。绝缘材料选用耐高温、抗腐蚀材质,适配复杂工艺环境。
高真空环境适配,稳定应对严苛工况配备聚酰亚胺扁平电缆真空贯通件,可在10⁻⁷Torr 高真空环境下稳定工作,完美适配离子注入、气相沉积等真空制程,是专业真空环境晶圆测温、高真空晶圆测温系统。
智能采集软件,数据可视化高效分析搭载ZCDAQ TEMP 温度采集软件,实现温度数据实时采集、记录、统计分析,自动生成温度趋势图、多点温度分布图。支持 Modbus 通讯协议,配备 RJ45、USB、RS485、蓝牙 5.0 接口,数据传输稳定,兼容多设备联动。

二、高规格硬件模块 保障晶圆测温稳定性
系统标配两款高精度晶圆测温模块,采用 35mm 标准导轨安装,兼顾便捷性与工况适配性,核心参数对标半导体高端制程要求:
表格
| 模块类型 | 12 路微型插座测温模块 | 17×4 路 DB 快接测温模块 |
|---|---|---|
| 型号 | 618A / TC / MPJ*12 | 618A / TC / DB17 |
| 测温探头 | K 型 / T 型热电偶 | K 型 / T 型热电偶 |
| 测量范围 | -270~1372℃/-270~400℃ | -270~1372℃/-270~400℃ |
| 测量精度 | ±1.1℃/±0.6℃±0.1% 读数 | ±1.1℃/±0.5℃±0.1% 读数 |
| 接口类型 | MPJ 微型热电偶插座 | DB37(17CH) |
| 核心特性 | 12 通道固定,运行 / 故障指示灯 | 17×1~4 通道可扩展,模块化设计 |
两款模块均自带运行 / 故障指示灯,实时反馈设备状态,降低运维成本,为产线连续运行提供可靠保障。
三、全场景覆盖 适配半导体全制程晶圆测温
智测电子晶圆热电偶测温系统凭借多温区、高真空、抗腐蚀特性,广泛应用于半导体及光伏行业各类热驱动工艺,适用场景包括:
快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)RTP 晶圆测温、RTA 晶圆测温
曝光后烘烤(PEB)、化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)CVD/PVD 晶圆测温
离子注入、晶圆键合温度监测
太阳能电池制备、晶圆热处理等高温、真空、高精度制程
针对晶圆键合工艺,系统可定制晶圆直径,精准捕捉键合过程温度变化,实现温度响应快速、准确、可靠,助力工艺良率提升。
四、定制化服务 提供专属半导体晶圆测温方案
智测电子作为专业晶圆测温设备厂家,针对不同产线需求提供全维度定制服务:
晶圆尺寸、基材材质按需定制,适配不同设备;
测温点数、传感器引线长度自由配置;
真空贯通带长度定制,适配各类真空设备安装;
硬件 + 软件一体化方案可与客户产线无缝对接。
从标准产品到定制化半导体晶圆测温解决方案,智测电子以 “精准测温,赋能制程” 为核心,凭借技术研发实力、高规格产品品质、全方位定制服务,为半导体制造企业提供稳定可靠的半导体晶圆测温系统,助力高端制程工艺升级与良率提升。
智测电子 TC Wafer 晶圆有线测温系统—— 半导体制造高精度晶圆测温系统优选,以专业技术赋能半导体制程温度精准管控!
审核编辑 黄宇
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