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韩系大厂功率GaN代工进入量产阶段,Fabless要崛起?

Hobby观察 来源:电子发烧友网 作者:梁浩斌 2026-03-25 10:58 次阅读
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电子发烧友网报道(文/梁浩斌)近日业界传出三星电子功率GaN晶圆代工产线即将投产,其8英寸GaN产线已进入量产前准备阶段,预计最早将在今年第二季度实现全面投产。

三星的GaN代工业务布局最早是从2023年开始,在其举办的晶圆代工论坛活动上宣布将在2025年起为消费级、数据中心和汽车应用提供8英寸GaN晶圆代工服务。而在三年后,尽管相比计划略微延后,但三星终于正式进入功率半导体代工市场。

GaN、SiC同步推进,已有首批客户

三星将自己GaN代工业务定位为“交钥匙”的服务,不涉及芯片设计环节。同时三星在外延片上也选择了自研,目前已经研发出适合大规模量产的Si基GaN外延片,将用于后续的量产。

业界消息称,目前三星已经获得首批客户,但由于客户规模有限,三星预计其功率GaN晶圆代工业务的年营收将低于1000亿韩元(约合4.6亿元人民币)。而业内人士推测,三星GaN晶圆代工业务计划的推迟也是受到客户群规模的影响。

另外,除了GaN之外,三星还同步推进SiC代工的业务,并同样预计在2026年内推出。但与GaN代工不同的是,三星SiC代工业务将涵盖从设计到晶圆制造到封装的垂直整合模式,SiC器件产品电压范围覆盖从1200V到1700V,能够满足当前电动汽车以及数据中心高压系统的需求。

在实际应用中,功率GaN器件主要用于1200V以下的场景,1200V及以上则更多采用SiC器件,三星通过GaN和SiC的布局,可以覆盖未来功率半导体的大部分需求,并有望接棒台积电退出GaN留下的市场空缺。同时配合其HBM4内存、以及GPUAI芯片代工等业务,形成完整的电源管理方案。

GaN代工格局再生变,Fabless模式崛起?

去年7月,台积电发表声明表示,经过长期业务的完整评估后,公司决定在未来两年内,也就是2027年7月之前逐步退出氮化镓业务。台积电称:“我们正与客户密切合作,确保顺利过渡,并在此期间继续致力于满足他们的需求。”

一鲸落万物生,就在台积电正式宣布退出GaN代工业务后,纳微半导体作为台积电最大的GaN客户,宣布将与力积电合作,共同推进业内领先的8英寸硅基氮化镓技术生产。纳微半导体在公告中指出,力积电有着先进的180nm CMOS工艺能力,运用更小、更先进的工艺节点,从而在性能、能效、集成度以及成本方面实现全面优化。

纳微半导体表示将通过力积电生产其100V至650V的氮化镓产品组合,以应对超大规模AI数据中心和电动汽车等48V基础设施对氮化镓技术日益增长的需求。根据公告,首批由力积电制造的器件预计在2025年第四季度完成认证。其中,100V系列计划于2026年上半年开始在力积电投产,而650V的器件则将在未来12到24个月内从现有的供应商台积电逐步转移至力积电进行代工生产。

而台积电GaN业务的另一大客户罗姆半导体,在今年3月与台积电签署技术授权协议,将台积电成熟的650V及相关GaN工艺技术授权并转移至罗姆位于日本的滨松工厂,罗姆计划于2027年在内部工厂建立完整的端到端生产体系,也就是将门级驱动 (Gate Driver)、控制IC与GaN功率器件进行更紧密的单片集成或系统封装。

另外,台积电的650V和80V 功率GaN工艺还授权给世界先进和格芯,通过授权费回收早期研发成本,并维持了行业标准的间接影响力。

值得一提的是,近年来不只是三星,韩国本土产业对于GaN代工似乎较为热衷,比如DB HiTek、SK Keyfoundry等都纷纷入局GaN代工领域。

DB HiTek在今年2月宣布650V GaN HEMT工艺进入量产最后阶段,并已开启 MPW(多项目晶圆) 服务供全球客户流片。公司计划在2026年底前推出 200V 低压 GaN 以及针对集成电路优化的GaN BCD工艺,试图在单片集成驱动领域挑战欧美的IDM厂商。

SK Keyfoundry则倾向于汽车应用,今年三月明确了其复合功率半导体路线图,同步推进 SiC MOSFET 与 650V GaN,目前正与韩国本土汽车供应链深度合作,验证其 GaN 工艺在 800V 系统中的 DC-DC 转换可靠性。

目前GaN代工呈现多点开发的格局,新玩家的入局给市场带来了非常大的转变。在台积电退出后,Fabless厂商最担心的是失去高良率、稳定的代工源,而新玩家入局给GaN代工带来更多竞争,未来Fabless厂商可能会获得更大的价格优势,且标准化的工艺平台让Fabless厂商能够专注于电路设计层面的创新。

不过,另一边GaN IDM厂商同样在加快产能布局。全球功率GaN市场份额最高的英诺赛科在去年计划从24年年末的1.3万片/月,提升至2025年年末的2万片/月;英飞凌在2025年7月宣布开始量产全球首批12英寸功率硅基氮化镓晶圆;罗姆则通过技术授权获得了650V GaN工艺,并将其滨松工厂产线从6英寸往8英寸升级。

小结:

功率GaN作为在数据中心800V架构中的重要器件,未来几年的需求增速将进入加速阶段。代工厂的遍地开花,其实也意味着GaN正在加速普及,在更多场景替代硅基功率器件。从时间节点来看,27年将会是功率GaN市场格局出现巨变的节点,更多GaN晶圆代工产能的落地,将会带动GaN市场规模的新一轮增长。
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