用于氧化石墨烯的多模态表征与激光还原图案化的共聚焦显微技术

氧化石墨烯（GO）是制备导电还原氧化石墨烯（rGO）的重要前驱体，在柔性电子、储能等领域应用广泛。激光还原因无掩模、局部精准的优势成为 GO 图案化关键技术，但传统方法难以实时观察还原过程，制约机理研究与工艺调控。下文，光子湾科技将详解基于共聚焦显微镜（CLSM）的原位多模态表征与激光还原集成方法。

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氧化石墨烯（GO）薄片的多模态共聚焦成像

通过旋涂法制备GO薄膜，利用共聚焦显微镜进行透射、反射与荧光多模态成像。透射模式下，GO因吸光呈现暗色；反射模式下则因折射率差异形成清晰对比；荧光成像则基于GO在可见光区的微弱发光特性。共聚焦显微镜的多模态成像不仅提供高对比度与大范围观测能力，还可清晰分辨GO薄片的分布与结构特征，为后续还原过程监测奠定基础。

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原位激光还原与大范围实时监测

a.石墨烯片的透射模式光学图像。b.共焦反射模式图像（激光功率3.4%，从三维堆叠中获取最大投影）。C.二氧化碳薄膜的光致发光图像（激光功率64%）。比例尺：20 微米。

研究采用共聚焦显微镜内置的488 nm激光进行光热还原，同时利用405 nm激光（3.4%功率）进行高分辨率透射/反射成像，实现还原过程的原位追踪。荧光信号随扫描次数增加而逐渐减弱，表明GO向rGO的转化。透射图像中GO区域逐渐变暗，反射图像中部分薄片因折射率增加而变亮，表面也出现因粗糙化导致的暗点。通过共聚焦显微镜图像分析，量化了各像素点的相对还原程度，并发现还原行为与GO薄片厚度密切相关：厚层GO在首次扫描后即快速还原，随后出现烧蚀现象；薄层GO则呈现逐步还原与区域扩展的过程。

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高倍率下单层GO还原过程追踪

a.不同次数激光缩减扫描后获得的代表性透射模式图像。b.对应的百分比转换色图，显示基于a中透射显微照片计算的相对缩减程度。

通过共聚焦显微镜高倍物镜对单层GO薄片进行还原过程追踪。厚层GO在数次扫描后出现明显吸光增强，随后逐渐形成多孔结构；薄层GO则表现为透射率平稳下降，无结构损伤。共聚焦显微镜反射成像进一步证实还原过程中表面形貌的变化，包括粗糙化与孔隙形成。该结果与大范围统计观察一致，支持光热还原机制及其对厚度的依赖性。

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激光还原氧化石墨烯（GO）的微观结构

激光还原区边界处GO和rGO的扫描电子显微镜图像

利用扫描电子显微镜观察激光还原区域的微观结构，可见GO与rGO边界清晰。rGO区域呈现疏松、粗糙的石墨状结构，与原始GO的光滑表面形成对比。部分区域出现裂纹，归因于激光局域热应力。拉曼光谱显示，rGO区域的D/G峰强度比增加，表明缺陷结构增多，与还原过程中碳骨架重组与气体逸出有关。

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多尺度图案化能力展示

共聚焦显微镜系统具备从毫米至亚微米尺度的图案化能力。通过其图像拼接功能实现毫米级图案加工；利用高倍物镜与数字变焦，在单个GO薄片上实现微米级选择性还原；通过线扫描模式，制备出线宽约530 nm的rGO导线，接近所用激光波长极限。该分辨率与以往需使用超快脉冲激光的系统相当，体现了共聚焦显微镜在低功率连续激光下的高精度加工优势。

本研究成功将共聚焦显微镜用于GO的原位多模态表征与激光还原图案化。共聚焦显微镜系统整合了成像与加工功能，实现了对还原过程的实时观测与定量解析，揭示了还原行为对薄片厚度的依赖性。该方法在低功率（<5 mW）连续激光下实现了高分辨率（530 nm）图案化，并制备出具有良好导电性（1.4×10³ S·m⁻¹）的rGO结构，为石墨烯基材料的可控制备与器件集成提供了高效、灵活的原位研究平台。

光子湾3D共聚焦显微镜

光子湾3D共聚焦显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面，可应对多样化测量场景，能够快速高效完成亚微米级形貌和表面粗糙度的精准测量任务，提供值得信赖的高质量数据。

 

超宽视野范围，高精细彩色图像观察

提供粗糙度、几何轮廓、结构、频率、功能等五大分析技术

采用针孔共聚焦光学系统，高稳定性结构设计

提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能

光子湾共聚焦显微镜以原位观察与三维成像能力，为精密测量提供表征技术支撑，助力从表面粗糙度与性能分析的精准把控，成为推动多领域技术升级的重要光学测量工具。

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