EUV光刻技术竞争激烈，三星7纳米EUV制程已完成新思科技物理认证，台积电紧追其后

在晶圆代工市场，台积电与三星的竞争始终是大家关心的戏码。三星虽然有高通等VIP客户，但在7纳米制程节点，高通预计会转投台积电，三星要想受更多客户的青睐，只能从制程技术着手了。这也是三星为什么跳过非EUV技术的7纳米制程，直接上7纳米LPP EUV制程技术的原因。如今，三星终于公布了7纳米LPP制程已完成新思科技（Synopsys）物理认证，意味着7纳米EUV制程将可全球量产了。

目前全球前几大晶圆代工厂商，英特尔10纳米制程还没搞定，距离7纳米制程最遥远。台积电7纳米制程量产比较顺利，会有苹果、海思、高通、NVIDIA、AMD等客户陆续流片、量产。台积电第一代7纳米制程，使用的还是传统多重曝光技术，必须到2019年第2代7纳米制程才会使用EUV光刻技术。

格罗方德也走与台积电相似路线，预计2018年量产7纳米DUV制程还是传统的深紫外光刻技术。对此，号称频率可达5GHz的AMD 7纳米Zen 2处理器会使用格罗方德的7纳米制程技术，2019年初问世，2020年再下一代才是7纳米EUV制程技术。

相对其他竞争对手，三星在EUV技术最积极。三星直接跳过第一代非EUV光刻7纳米制程，直接使用加入EUV技术的7纳米LPP制程，预定2018下半年正式量产。日前，新思科技与三星已联合宣布，三星使用的7纳米LPP制程技术完成IC验证器的认证。

三星完成这次认证之后，7纳米LPP制程就可立即提供认证的技术资料，包括DRC设计规则检查、LVS布局与原理图、金属填充技术档等予相关客户，意味着三星的7纳米LPP制程正式进入量产阶段。

目前EUV光刻技术竞争激烈，各家大厂抢EUV光刻机也成为重要目标之一。根据之前消息，ASML的EUV光刻机，台积电订购了约10台，三星订购约6台，英特尔订购3台，而格罗方德的EUV订单数量不详，中国中芯国际也订了1台EUV光刻机，将用于7纳米制程技术研究，预计2019年初交货。各家厂商都有EUV光刻机的情况下，似乎未来7纳米节点要胜出，就必须比较各家的技术与管理能力了。