政策利好，欧莱新材IPO推动公司可持续高质量发展

高性能溅射靶材行业是国家重点支持和鼓励发展的行业，国家产业政策对行业发展具有积极的促进作用。目前国家多个部门已经通过各类文件多层次、多角度、多领域对高性能溅射靶材行业予以全产业链、全方位的指导，相继出台了《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》《广东省培育前沿新材料战略性新兴产业集群行动计划（2021-2025年）》《“十四五”原材料工业发展规划》等多项支持我国高性能溅射靶材行业发展的产业政策，为广东欧莱高新材料股份有限公司（下称“欧莱新材”）等行业内企业的经营发展提供了有力的支持和良好的环境。

资料显示，欧莱新材主营业务为高性能溅射靶材的研发、生产和销售，主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等。面对行业发展机遇，欧莱新材积极冲击科创板IPO，计划募资5.77亿元，分别用于高端溅射靶材生产基地项目（一期）、高纯无氧铜生产基地建设项目、欧莱新材半导体集成电路靶材研发试制基地项目、补充流动资金。

对于未来的发展规划，欧莱新材在IPO招股书表示，公司将巩固并提升在平面显示用溅射靶材领域的领先地位。欧莱新材将紧密围绕市场发展趋势和下游客户需求，持续改良生产工艺，提升产品综合性能，拓展在高世代显示面板生产线中的产品应用，通过优化现有生产布局，扩大生产制造规模，就近为下游客户提供全方位的产品配套服务，进一步提升在平面显示用溅射靶材的市场占有率。

其次，欧莱新材将积极布局上游高纯金属材料，实现关键技术领域的创新与突破，提升高性能溅射靶材的持续稳定供应能力。公司将加大高纯金属材料的研发投入力度，深入研究高纯金属材料提纯技术与生产工艺，建设高纯金属材料生产基地，实现高导电率、低氧含量高纯金属材料的量产供货能力，向上游延伸产品价值链，进一步提高公司产品质量的稳定性和一致性。

同时，欧莱新材还将凭借现有市场基础和客户资源，不断拓展高性能溅射靶材的下游应用领域。公司将建立半导体集成电路靶材研发试制基地，开展半导体集成电路晶圆制造用溅射靶材的研发试制，实现半导体集成电路用溅射靶材的产业化应用。此外，公司将持续推动产品技术创新和生产工艺革新，以ITO靶、铜靶等溅射靶材为依托，研制适配于异质结电池、新型复合铜箔的溅射靶材，开发出更多具有较高技术含量和附加值的产品，丰富公司产品的下游应用场景。

有业内人士分析指出，在国家政策利好的背景下，国内高性能溅射靶材行业将迎来新的发展机遇。若欧莱新材成功上市，并将规划落实，将能持续受益于行业发展，推动企业可持续高质量发展。

审核编辑 黄宇