0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻技术再次升级了

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2023-06-01 10:12 次阅读

最近,美国对中国尖端科学技术的镇压越来越明显,其中半导体芯片领域是重点镇压对象。在这种情况下,中国为了半导体产业的成长,应该继续确保核心技术。本文将从美国对中国尖端技术的压迫、荷兰和中国的光板出口、以及中国自身掌握核心技术等三个方面进行讨论。

美国一直将中国视为本国的战略竞争对手,加大对中国的施压已成为一项长期战略。在高科技领域,美国对中国的镇压尤为明显,而半导体芯片领域是更重点的压迫对象。

中国在半导体芯片制造方面仍落后于美国。早在上世纪60年代,美国就开始占据世界半导体市场的绝对主导地位。随着技术的不断发展,半导体芯片的制造越来越精细化。从最初的65纳米工程到现在的7纳米技术开发,美国一直处于领先地位。

光刻技术是芯片制造中不可缺少的一部分,它可以将光通过透镜系统投射到硅片上,投影出的光形成芯片的基本结构。光角机械设备是半导体芯片制造的关键工具。美国利用光加工技术的优势,加大对中国半导体芯片制造产业的施压力度,试图压制中国半导体产业的快速增长。

但是,中国的半导体芯片领域仍然具有很大的增长潜力,中国的投资和收购合并(m&a)计划也让美国感到害怕。因此,美国对中国尖端科学技术的镇压今后将持续加剧。

荷兰asml目前是光控领域的世界垄断者之一,技术和技术的出口已成为全球半导体芯片生产的核心供应链,尤其是在中国市场。但由于美国不允许荷兰向中国出口最先进的光刻技术,荷兰与中国的光板出口关系始终不稳定。

荷兰于2018年同美国和中国签署了有关***器技术出口的三方协议,但美国担心荷兰的出色技术被中国利用到防卫产业中。美国的这种担忧也有一定的道理。中国政府最近在半导体领域表现出积极的姿态是事实。

然而,2020年,荷兰asml世界最大的摄影师终于在美国的“厚道”推动下,向中国出口asml最新型号的海洋摄影师。因此,asml颠覆了荷兰的态度,占据了全世界销售额的60%等,引领着市场。这种态度变化的原因是,中国市场在asml全球业务中的重要性逐年增加,市场需求日益增加,因此asml市场价值上升,欧洲、荷兰、上市企业asml应该重新审视这个问题。

半导体芯片在现代社会已经是非常基础的技术,涉及网络通信、金融、医疗等很多领域。在这种情况下,掌握芯片核心技术是一件非常重要的事情。目前,中国已经在半导体芯片生产领域取得重大突破,但要继续努力保障半导体产业的发展。

与此相关,中国2014年公布了“《中国制造2025》项目”,其目标是利用本国产业的创新力量,全面提升中国制造业,该项目的重点之一是半导体芯片制造。但与美国的垄断地位相比,中国的半导体芯片产业仍面临巨大挑战。因为核心技术的不足往往会阻碍企业的发展。

因此,中国应该坚定不移地确保核心技术的独立,不让外部设备动摇。与此同时,中国还需要大力提高自主研发能力,确保自身的技术命脉,确保更多自身的知识产权和科研人才,实现科研与产业的紧密结合。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 纳米技术
    +关注

    关注

    2

    文章

    194

    浏览量

    25656
  • 光刻技术
    +关注

    关注

    1

    文章

    131

    浏览量

    15642
  • 半导体芯片
    +关注

    关注

    60

    文章

    890

    浏览量

    69800
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    绕开EUV光刻,下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围

    电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造技术,首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业,光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最
    的头像 发表于 07-16 01:50 3100次阅读
    绕开EUV<b class='flag-5'>光刻</b>,下一代纳米压印<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>从存储领域开始突围

    升级STM32CubeMX到6.10版本,结果侧面升级和安装SDK库点击无效怎么解决?

    升级STM32CubeMX到6.10版本,结果侧面升级和安装SDK库点击无效,账户登录也点击出不来,重装6.9.2版本就都可以。
    发表于 03-08 06:27

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 743次阅读

    光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

    光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻
    发表于 11-13 18:14 695次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>胶黏度如何测量?<b class='flag-5'>光刻</b>胶需要稀释吗?

    光学光刻技术有哪些分类 光刻技术的原理

    光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻
    发表于 10-24 11:43 339次阅读
    光学<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>有哪些分类 <b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>的原理

    芯片和线路板的光刻技术不同?差别在哪里?

    线路板的光刻技术
    的头像 发表于 09-21 10:20 686次阅读
    芯片和线路板的<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>不同?差别在哪里?

    光刻技术概述及其分类

    光刻是一种图像复制技术,是集成电路工艺中至关重要的一项工艺。简单地说,光刻类似照相复制方法,即将掩膜版上的图形精确地复制到涂在硅片表面的光刻胶或其他掩蔽膜上面,然后在
    的头像 发表于 08-07 17:52 1761次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>概述及其分类

    次时代EUV光刻已箭在弦上!

    半导体技术的未来通常是通过光刻设备的镜头来看待的,尽管高度挑战性的技术问题几乎永无休止,但光刻设备仍继续为未来的工艺节点提供更好的分辨率。
    的头像 发表于 07-28 17:41 1162次阅读
    次时代EUV<b class='flag-5'>光刻</b>已箭在弦上!

    3D IC对光刻技术的新技术要求

    中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解,本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中,除
    的头像 发表于 06-30 10:06 280次阅读
    3D IC对<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>的新<b class='flag-5'>技术</b>要求

    基于机器学习的逆向光刻技术

    中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解,本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中,除
    的头像 发表于 06-29 10:02 354次阅读
    基于机器学习的逆向<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>

    光刻对准原理与精度控制

    中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解,本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中,除
    的头像 发表于 06-26 17:00 865次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>对准原理与精度控制

    193i光刻技术再次走向舞台中心

    与此相关的是打印弧形特征而不是直线特征的能力。Levinson说:”你用曲线特征得到的工艺窗口要比直线近似的好。有一些障碍,人们正在努力解决这些问题。但是使用曲线特征是最近的日本Photomask[2023]会议的最大话题之一,当然也是2月份的[SPIE]高级光刻和图案会议的一个话题。“
    的头像 发表于 06-19 11:45 556次阅读
    193i<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b><b class='flag-5'>再次</b>走向舞台中心

    一文看懂EUV光刻

    极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术
    发表于 06-06 11:23 743次阅读
    一文看懂EUV<b class='flag-5'>光刻</b>

    EUV光刻技术优势及挑战

    EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟,预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
    发表于 05-18 15:49 1907次阅读
    EUV<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>优势及挑战

    一文讲透光刻胶及芯片制造关键技术

    在集成电路制造领域,如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”,光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
    发表于 05-13 11:28 1240次阅读
    一文讲透<b class='flag-5'>光刻</b>胶及芯片制造关键<b class='flag-5'>技术</b>