西门子EDA Calibre 平台获台积电先进N3E和N2工艺认证
作为台积电的长期合作伙伴西门子EDA一直在加强对台积电最新制程的支持 ,根据西门子EDA透露的消息显示,sign-off 物理验证解决方案—— Calibre® nmPlatform,现已获得台积电的 N3E 和 N2 工艺认证,该套解决方案包括 Calibre® nmDRC 软件、Calibre® YieldEnhancer™ 软件、Calibre® PERC™软件、Calibre® xACT™软件和 Calibre® nmLVS 软件。
此外西门子的 Analog FastSPICE 平台也已经获得台积电 N5A、N3E 和 N2 工艺认证。而且 mPower 数字软件的 N3E 工艺认证也在进行当中。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
台积电
+关注
关注
44文章
5787浏览量
174702 -
西门子
+关注
关注
98文章
3271浏览量
119732 -
eda
+关注
关注
72文章
3053浏览量
181458
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
新思科技旗下Ansys仿真和分析解决方案产品组合已通过台积公司认证
新思科技近日宣布,其旗下的Ansys仿真和分析解决方案产品组合已通过台积公司认证,支持对面向台积公司最先
看点:台积电2纳米N2制程吸引超15家客户 英伟达拟向OpenAI投资1000亿美元
给大家分享两个热点消息: 台积电2纳米N2制程吸引超15家客户 此前有媒体爆出苹果公司已经锁定了台
2025西门子EDA技术峰会圆满落幕
近日,西门子 EDA 年度技术峰会“2025 Siemens EDA Forum”在上海成功举办。这场汇聚西门子全球技术专家、产业伙伴与核心客户的行业盛会,以“AI 驱动半导体变革”为
西门子发布关于美国解除近期对中国EDA出口限制的声明
(EDA) 软件及技术的管制限制现已不再适用 。 据此,在遵守适用出口管制法律法规的前提下,西门子已恢复对出口管制分类编号 (ECCNs) 为 3D991 和 3E991 的软件与技
力旺NeoFuse于台积电N3P制程完成可靠度验证
力旺电子宣布,其一次性可编程内存(One-Time Programmable, OTP)NeoFuse已于台积电N3P制程完成可靠度验证。N3
西门子EDA断供中国将如何冲击国内芯片产业?
作为全球领先的EDA工具供应商,西门子EDA旗下的Calibre系列产品占据其总营收的40%。在芯片设计的sign-off(签核)环节,该工具被超过90%的IC设计公司采用,市场份额预
发表于 05-29 09:12
•2007次阅读
Cadence携手台积公司,推出经过其A16和N2P工艺技术认证的设计解决方案,推动 AI 和 3D-IC芯片设计发展
:CDNS)近日宣布进一步深化与台积公司的长期合作,利用经过认证的设计流程、经过硅验证的 IP 和持续的技术协作,加速 3D-IC 和先进节
西门子与台积电合作推动半导体设计与集成创新 包括台积电N3P N3C A14技术
西门子和台积电在现有 N3P 设计解决方案的基础上,进一步推进针对台积
发表于 05-07 11:37
•1244次阅读
西门子EDA工具如何助力行业克服技术挑战
西门子EDA工具以其先进的技术和解决方案,在全球半导体设计领域扮演着举足轻重的角色。本文将从汽车IC、3D IC和EDA AI三个方向,深入
西门子EDA新一代平台版本升级
电子系统设计领域迎来重要革新:西门子 EDA 下一代电子系统设计平台 Xpedition 2409 与 HyperLynx 2409 新版本正式发布,持续升级全系列解决方案,助力工程师实现效率跃升。
英特尔18A与台积电N2工艺各有千秋
TechInsights分析,台积电N2工艺在晶体管密度方面表现突出,其高密度(HD)标准单元的晶体管密度高达313MTr/mm²,远超英特
苹果M5芯片量产,采用台积电N3P制程工艺
工艺——N3P。与前代工艺相比,N3P在性能上实现了约5%的提升,同时在功耗方面降低了5%至10%。这一显著的进步意味着,搭载M5芯片的设备将能够提供更强大的处理能力,同时拥有更出色的

西门子EDA Calibre 平台获台积电先进N3E和N2工艺认证
评论