0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

泛林集团推三款开创性的选择性刻蚀产品 此前宣布季度股息1.5美元每股

工程师 来源:泛林集团 作者:泛林集团 2022-03-22 14:35 次阅读

泛林集团推三款开创性的选择性刻蚀产品

泛林集团深信创新不仅来自于创新者,更需要共同合作、精确细致和努力交付才能实现创新。我们助力第四次工业革命,也是世界领先半导体企业值得信赖的伙伴。

日前泛林集团推出三款开创性的选择性刻蚀产品:Argos®、Prevos™和Selis®。这些突破性产品旨在补充和扩展泛林集团行业领先的刻蚀解决方案组合,使芯片制造商能够以超高的选择性和埃米级的精度刻蚀和修改薄膜,以实现最先进的集成电路IC)性能并加速其3D路线图。

甚至可以说Argos、Prevos和Selis选择性刻蚀提升到新的水平,泛林集团全新的精密选择性刻蚀和表面处理设备组合有望加速芯片制造商的3D逻辑和存储路线图,这是半导体行业一次重大的进化式飞跃。

· Argos能提供革命性全新选择性表面处理方式,其创新的MARS™(亚稳态活性自由基源)可以产生非常温和的自由基等离子体,这是先进逻辑应用中高度选择性表面改性所必需的。

· Prevos采用化学蒸汽反应器,用于极低能量下高精度的选择性刻蚀。泛林集团开发了一种全新专有化学催化剂,专门用于要求极高选择性的应用,如天然氧化物突破、精密修整和凹槽。

· Selis通过使用低能量自由基源控制等离子体,将能量调谐提升到一个全新的水平。它还具有极低的能量处理模式,专为选择性必须超高的极端应用而设计,例如对于形成GAA结构非常关键的SiGe选择性刻蚀步骤。这个过程十分精确,Selis可以在不损坏关键硅层的前提下刻蚀SiGe层。

泛林集团(Lam Research)是一家为半导体行业提供创新晶圆制造设备和服务的全球供应商。Lam 的设备和服务使客户能够构建更小、性能更好的设备。泛林集团也会参与很多行业会议,泛林集团执行副总裁兼首席财务官道格·贝廷格参加了之前摩根士丹利技术、媒体和电信会议。

Lam Research Corporation 宣布季度股息

Lam Research Corporation 日前宣布,其董事会已批准季度股息1.50 美元每股普通股。将支付股息2022 年 4 月 6 日记录在案的持有人2022 年 3 月 16 日。 未来的股息支付须经董事会审查和批准。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5321

    文章

    10742

    浏览量

    353431
  • 晶圆
    +关注

    关注

    52

    文章

    4529

    浏览量

    126449
  • 刻蚀
    +关注

    关注

    1

    文章

    151

    浏览量

    12540
  • 泛林集团
    +关注

    关注

    0

    文章

    54

    浏览量

    11744
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    微软和谷歌财报超预期 谷歌史上首次发放季度股息

    微软和谷歌财报超预期 谷歌史上首次发放季度股息 全球企业都希望抓住当前人工智能蓬勃发展的契机,把自身产品与人工智紧密结合,在这AI浪潮下谷歌、微软的营收与利润都取得了超预期的成绩。 根据谷歌、微软
    的头像 发表于 04-26 17:56 194次阅读

    Atomera一季度净亏损480万美元,现金等资产仅余1930万

    数据显示,2024年一季度,公司录得净亏损额480万美元,相当于每股基本及稀释后股份亏损0.19美元,而2023年同期则亏损500万美元
    的头像 发表于 04-26 16:37 93次阅读

    谷歌第一财季营收增长15%至805.4亿美元

    值得注意的是,Alphabet宣布将向股东分红,此举标志着其上市20年来初次实施,预示着谷歌已经完全走出新冠疫情阴霾,恢复了强劲的增长势头。此外,Alphabet将于6月17日派发每股20美分的季度
    的头像 发表于 04-26 10:05 197次阅读

    供应SIT1145AQ-带选择性唤醒及故障保护的低功耗 CAN FD 总线收发器

    帧的远程唤醒,兼容 ISO 11898- 2:2016 标准的选择性唤醒帧远程唤醒 ➢ 唤醒源诊断识别功能 ➢ 总线端口±58V 耐压 ➢ ±12V 接收器共模输入电压 ➢ IO 口支持 3.3V 或
    发表于 02-20 09:10

    康谋产品 | 为ADAS/AD开创的次世代AutoGI仿真工具

    康谋aiSim5作为开创性ADAS/AD仿真模拟工具,配备高度优化的传感器模拟,提供确定且可重复的环境模拟支持,为下一代仿真工具设定了新的标准。
    的头像 发表于 01-29 17:50 284次阅读
    康谋<b class='flag-5'>产品</b> | 为ADAS/AD<b class='flag-5'>开创</b>的次世代AutoGI仿真工具

    Broadcom上季度营收92.95亿美元,同比增长4%

    季度末,该公司的现金和现金等价物为141.89亿美元,上季度末为120.55亿美元。在第四季度,该公司创造了48.28亿
    的头像 发表于 12-08 11:45 279次阅读

    半导体前端工艺(第四篇):刻蚀——有选择性刻蚀材料,以创建所需图形

    半导体前端工艺(第四篇):刻蚀——有选择性刻蚀材料,以创建所需图形
    的头像 发表于 11-27 16:54 349次阅读
    半导体前端工艺(第四篇):<b class='flag-5'>刻蚀</b>——有<b class='flag-5'>选择性</b>地<b class='flag-5'>刻蚀</b>材料,以创建所需图形

    先进能源工业上季度销售额4.10亿美元,净收益3370万美元

    在2023年的第三季度,Advanced Energy持续营运,创造了7270万美元的现金流动,并支付了380万美元季度股息。另外,在20
    的头像 发表于 11-01 14:11 233次阅读

    什么是刻蚀选择性刻蚀选择比怎么计算?受哪些因素的影响呢?

    刻蚀(或蚀刻)是从晶圆表面去除特定区域的材料以形成相应微结构。但是,在目标材料被刻蚀时,通常伴随着其他层或掩膜的刻蚀
    的头像 发表于 10-07 14:19 2674次阅读
    什么是<b class='flag-5'>刻蚀</b>的<b class='flag-5'>选择性</b>?<b class='flag-5'>刻蚀</b><b class='flag-5'>选择</b>比怎么计算?受哪些因素的影响呢?

    芯片制造的刻蚀工艺科普

    在半导体制程工艺中,有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺,如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉,“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料,从而创建所需的微细图案。半导体“
    发表于 09-24 17:42 1177次阅读
    芯片制造的<b class='flag-5'>刻蚀</b>工艺科普

    刻蚀工艺主要分为哪几种类型 刻蚀的目的是什么?

    PVP可以在刻蚀过程中形成一层保护性的膜,降低刻蚀剂对所需刻蚀材料的腐蚀作用。它可以填充材料表面的裂缝、孔洞和微小空隙,并防止刻蚀剂侵入。这样可以减少不需要的蚀刻或损伤,提高
    的头像 发表于 08-17 15:39 3686次阅读

    AMD公布第二季度财报:营收53.59亿美元

    加利福尼亚州圣克拉拉市—2023年8月1日—AMD(NASDAQ: AMD)今日公布2023年第二季度营业额达54亿美元,毛利率46%,经营亏损2,000万美元,净收入2,700万美元
    的头像 发表于 08-04 10:23 368次阅读

    半导体前端工艺:刻蚀——有选择性刻蚀材料,以创建所需图形

    在半导体制程工艺中,有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺,如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉,“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料,从而创建所需的微细图案。半导体“
    的头像 发表于 06-15 17:51 1292次阅读
    半导体前端工艺:<b class='flag-5'>刻蚀</b>——有<b class='flag-5'>选择性</b>地<b class='flag-5'>刻蚀</b>材料,以创建所需图形

    可燃气体报警器价格一览:如何选择性价比最高的产品

    可燃气体报警器价格一览:如何选择性价比最高的产品
    的头像 发表于 06-05 16:27 763次阅读
    可燃气体报警器价格一览:如何<b class='flag-5'>选择性</b>价比最高的<b class='flag-5'>产品</b>?

    金属湿法刻蚀

    但是,HCl为基体的刻蚀溶液,会严重地侵蚀Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe,使金属硅化物阻值升高。这就要求有一种刻蚀剂是无氯基体,而且对Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe无伤害、对金属选择性又高。这就是目前常用的高温硫
    的头像 发表于 05-29 10:48 1743次阅读
    金属湿法<b class='flag-5'>刻蚀</b>