据韩媒报道,三星电子副董事长李在镕在本周三(10月14日)亲自飞赴ASML(阿斯麦)荷兰总部会晤。
陪同李在镕的是三星芯片业务负责人Kim Ki-nam,ASML方面CEO Peter Wennink和CTO Martin Van den Brink均出面接待,规格颇高。
据称,双方探讨了的核心是EUV光刻机的供应和装配(5nm),同时也就面向AI等领域的下一代光刻机研发合作交换了意见,讨论中还各自发表了对当前新冠肺炎疫情的看法。
资料显示,三星和ASML在EUV极紫外光刻上的合作可追溯到2000年,三星在2012年的时候还投资入股ASML以加强合作,目前,三星持有ASML 1.5%股份。
另据了解,ASML正在开发NXE-5000,是其现有主力出货EUV光刻机NXE-3400B的完全换代型号。
责编AJX
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
三星电子
+关注
关注
34文章
15896浏览量
183226 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1201浏览量
49029 -
AMSL
+关注
关注
0文章
10浏览量
3373
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准!
其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。 以光刻胶为例,这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及以下先进制程芯片 时代,不仅需要EUV光刻机
俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?
电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公
AI需求飙升!ASML新光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光
垄断 EUV 光刻机之后,阿斯麦剑指先进封装
电子发烧友网综合报道 当全球半导体产业陷入 “先进制程竞赛” 的白热化阶段,极紫外(EUV)光刻机作为高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成为决定产业格局的核心力量。荷兰阿斯麦(ASML)作为全球唯一
泽攸科技 | EBL和EUV光刻机有何区别?如何影响半导体行业?
从技术路径上看,电子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一类问题的解法。电子束光刻本质上是一种直接写入技术,利用聚焦电子束在抗蚀剂上逐点曝光,通过电磁控制精确描绘图形。这种方式不依赖掩
三星电子相关业务负责人一行到访谷东智能参观交流
12月23日,三星电子相关业务负责人一行到访谷东智能,围绕增强现实(AR)近眼显示核心光学技术及整机解决方案展开深入交流。来访团队包括三星电子CSS 部门长Richard Hwang、LEDoS中国
爆!三星退出SATA SSD业务!
SATA SSD业务。爆料者称已获得多个分销和零售渠道的消息来源证实。未来三星将重心转向为人工智能行业供货,其大部分产量将用于满足人工智能行业对高带宽内存HBM等的需求。 笔者采访到闪存市场相关负责人
国产高精度步进式光刻机顺利出厂
近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
FF任命李隽担任全球供应链负责人
“公司”)今日宣布, 任命李隽为FF与FX全球供应链负责人。李隽将对供应链业务全面负责,并与各区域和各职能团队紧密合作,强化供应商合作关系、提升运营韧性、提升价值链效率。此次任命也体现了公司持续打造世界级供应链组织、支持创新与增
三星玄龙骑士电竞显示器G75F亮相2025德国科隆国际游戏展, 顶级游戏实机演示震撼全场
,以及与多家主流游戏发行商、开发商及头部游戏工作室的最新合作成果。 “我们非常荣幸能在科隆国际游戏展这样的全球顶级游戏盛会上发布最新产品并公布全新游戏合作,”三星电子视觉显示事业部执行副总裁兼企业业务团队负责人 Hoon Chu
中科院微电子所突破 EUV 光刻技术瓶颈
极紫外光刻(EUVL)技术作为实现先进工艺制程的关键路径,在半导体制造领域占据着举足轻重的地位。当前,LPP-EUV 光源是极紫外光刻机所采用的主流光源,其工作原理是利用波长为 10.
ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动
电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
发表于 06-29 06:39
•2152次阅读
回收三星S21指纹排线 适用于三星系列指纹模组
深圳帝欧电子回收三星S21指纹排线,收购适用于三星S21指纹模组。回收三星指纹排线,收购三星指纹排线,全国高价回收三星指纹排线,专业求购指纹
发表于 05-19 10:05
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
发表于 05-07 06:03
为争取EUV顶级光刻机供货,三星负责人拜访AMSL荷兰总部游说
评论