为争取EUV顶级光刻机供货，三星负责人拜访AMSL荷兰总部游说
据韩媒报道，三星电子副董事长李在镕在本周三（10月14日）亲自飞赴ASML（阿斯麦）荷兰总部会晤。
陪同李在镕的是三星芯片业务负责人Kim Ki-nam，ASML方面CEO Peter Wennink和CTO Martin Van den Brink均出面接待，规格颇高。
据称，双方探讨了的核心是EUV光刻机的供应和装配（5nm），同时也就面向AI等领域的下一代光刻机研发合作交换了意见，讨论中还各自发表了对当前新冠肺炎疫情的看法。
资料显示，三星和ASML在EUV极紫外光刻上的合作可追溯到2000年，三星在2012年的时候还投资入股ASML以加强合作，目前，三星持有ASML 1.5%股份。
另据了解，ASML正在开发NXE-5000，是其现有主力出货EUV光刻机NXE-3400B的完全换代型号。
责编AJX
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
三星电子
+关注
关注
34文章
15891浏览量
182876 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1196浏览量
48733 -
AMSL
+关注
关注
0文章
10浏览量
3341
发布评论请先 登录
相关推荐
热点推荐
中国打造自己的EUV光刻胶标准！
其他工艺器件的参与才能保障芯片的高良率。 以光刻胶为例，这是决定芯片 图案能否被精准 刻下来的“感光神经膜”。并且随着芯片步入 7nm及以下先进制程芯片 时代，不仅需要EUV光刻机
俄罗斯亮剑：公布EUV光刻机路线图，挑战ASML霸主地位？
电子发烧友网报道（文/吴子鹏） 在全球半导体产业格局中，光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”，而极紫外（EUV）光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来，荷兰 ASML 公
国产高精度步进式光刻机顺利出厂
近日，深圳稳顶聚芯技术有限公司（简称“稳顶聚芯”）宣布，其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂，标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
FF任命李隽担任全球供应链负责人
“公司”）今日宣布, 任命李隽为FF与FX全球供应链负责人。李隽将对供应链业务全面负责，并与各区域和各职能团队紧密合作，强化供应商合作关系、提升运营韧性、提升价值链效率。此次任命也体现了公司持续打造世界级供应链组织、支持创新与增
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
发表于 05-07 06:03
成都汇阳投资关于光刻机概念大涨，后市迎来机会
【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一，其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市场对光刻机的需求持续增长，尤
三星与英伟达高层会晤，商讨HBM3E供应
近期，三星电子设备解决方案(DS)部门负责人兼副董事长全永铉(Jun Young-hyun)与英伟达公司CEO黄仁勋，在加利福尼亚州桑尼维尔的英伟达总部举行了一次重要会议。此次会议聚焦于三星
谷歌印度公共政策负责人Sreenivasa Reddy辞职
近日，谷歌发言人证实，公司印度公共政策负责人Sreenivasa Reddy已正式提交辞职申请并离职。这一消息引起了业界的广泛关注。 Sreenivasa Reddy在加入谷歌之前，曾在微软和苹果
如何提高光刻机的NA值
本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值？怎样提高？ 什么是NA值？ 如上图是某型号的光刻机配置，每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA，又名
光刻机的分类与原理
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
组成光刻机的各个分系统介绍
纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统 光源系统是光刻机的心脏，负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源，但随着技术的进步，目前多采用
日本首台EUV光刻机就位
据日经亚洲 12 月 19 日报道，Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司，已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装，设备安装预计在
工商网监
评论