Gigaphoton推出KrF激光器G300K，可提高生产性及削减成本

运用了传统技术的GIGANEX系列新产品、高输出、高可靠性、低价格机型

2020年4月14日、半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社（总部：栃木县小山市、董事长兼总经理：浦中克己）宣布，采用半导体制造光刻光源技术的GIGANEX系列新产品、KrF激光器“G300K”已于3月出厂。

“GIGANEX系列新产品、G300K能够满足客户的广泛需求，并为提高生产性及削减成本做出贡献。广泛领域的客户对半导体制造以外领域的GIGANEX系列新技术解决方案寄于了厚望。今后我们将继续努力，让GIGANEX系列产品运用于全新应用领域，并为新一代产业界的发展做出贡献。”

KrF激光器“G300K”是以本公司光刻光源KrF激光器技术为基础，将微烧蚀等“加工优化”作为理念，在保持高稳定性、99%以上运转率以及高输出的同时，实现了低价格的机型。从而为提高半导体制造后端工序中微烧蚀通孔加工工序的生产性以及降低成本提供了帮助。

由多个芯片构成的新一代半导体封装不仅需要更小的外部尺寸，同时还需要维持较高的动作频率、带宽等，提高电力效率，保持低制造成本。近年来，为满足这些要求，封装技术的细化受到人们关注，因此，层间连接通孔的微小化也势在必行。由于可以高速且低成本地进行加工，因此有机绝缘膜的微烧蚀通孔加工备受瞩目，但具有有利于微细化的短波长以及兼备高输出、高产量的248nm波长KrF准分子激光“G300K”可谓是作为光源的最佳选择。

Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“GIGANEX系列新产品、G300K能够满足客户的广泛需求，并为提高生产性及削减成本做出贡献。广泛领域的客户对半导体制造以外领域的GIGANEX系列新技术解决方案寄于了厚望。今后我们将继续努力，让GIGANEX系列产品运用于全新应用领域，并为新一代产业界的发展做出贡献。”

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