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中国有望独立生产EUV光刻机,打破ASML垄断

2021-02-27 09:59 次阅读

ASML对光刻机的垄断

一提起ASML这家公司,就少不了对光刻机问题的讨论,因为截至目前,ASML仍然是全球最领先的光刻机厂商。普通的DUV光刻机就不多说了,ASML每年都能卖出去很多台,而在更先进的EUV光刻机方面,ASML更是占据了绝对垄断的地位。

EUV与DUV光刻机最大的区别就在于前者使用的光源是极紫外光,而后者的光源就比较普通了,为深紫外光。可能很多人都不明白极紫外光和深紫外光到底有什么不同,如果从实际应用的角度来看,由极紫外光刻机生产出来的芯片要比深紫外光刻机更高端。

举个简单的例子,在如今的半导体行业,7nm和5nm 制程的芯片代表着最高工艺水平,而要想成功量产出这两款芯片,必须得到EUV光刻机的支持。换而言之,ASML制造出的EUV光刻机是生产7nm和5nm,甚至是3nm芯片的核心设备,无法被代替。

正因于此,对于全球的芯片制造产业来说,ASML扮演着一个非常重要的角色。如果未来某天ASML无法再保证DUV或者是EUV光刻机的正常供应,那么像台积电、三星等世界顶尖的芯片代工厂都会受到不利的影响,半导体行业的发展也会陷入瓶颈。

中国有望独立生产EUV光刻机,打破ASML垄断

作为人类能生产出的最顶尖的机器设备,光刻机的重要性已经不需要再多说了,ASML仅凭这一项业务就能在半导体市场站稳脚跟,并且还享有很大的话语权。尤其是在我们国内市场,国产芯片之所以迟迟无法崛起,就是因为缺少光刻机的支持。

虽然国内也有一家光刻机厂商,名为上海微电子,但是目前它能生产出的最先进的光刻机精度只有22nm,与ASML相比还有一定的差距。所以就如今的情况来看,如何突破到更高精度的光刻机,是国内芯片事业实现自主化目标的首要问题。

清华大学正式宣布好消息

光刻机的精度主要取决于光源的波长和功率,这意味着只要国内攻克了极紫外光技术,就很有可能独立生产出EUV光刻机,打破ASML的垄断。那么现在国内有没有可能掌握极紫外光技术呢?答案是肯定的!

2月25日,据国内最新消息显示,ASML也没料到,关于光刻机问题,清华大学正式宣布好消息!据了解,在经过长时间的刻苦钻研后,清华大学的研发团队在新型加速器光源“稳态微聚束”领域取得了重大突破,或许能帮助国产公司攻克极紫外光的难题!

所谓的加速器光源指的就是,光子通过加速可以实现从太赫兹到极紫外光之间不同的波长,可以为光刻机的研究提供最基本的技术支持。只要光源问题彻底解决了,那么国内的光刻机研究就会迈向下一个阶段,国产EUV光刻机的诞生也不只是说说而已。

毫无疑问,对于国产芯片事业而言,清华大学宣布的这项技术成果是一个非常好的消息,如果运用得当,将成为国内芯片产业全面崛起的“催化剂”。而ASML对此肯定高兴不起来,它也没料到,国产光刻机和光源技术能取得这么大的进步。

从清华大学的突破中不难看出,如今国内对芯片和半导体行业的重视程度非常高,无论是众多国产企业还是各大研究机构,都投身到了这项伟大的事业中。相信将来不仅仅是清华大学,会有越来越多的好消息传来,国产芯片的崛起不只是一个梦想!

写在最后

虽然EUV光刻机的难度超出了普通人的想象,而且常年被ASML垄断,别的公司或国家根本不了解其核心技术,但是在国内不断地努力下, 再难的技术都会被攻克,EUV光刻机也不例外。等到那个时候,ASML将彻底失去优势地位,国产光刻机会让全世界刮目相看!
责任编辑:tzh

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