0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

国望光学引入两家机构入股 将推动国产中高端光刻机整机研发和量产速度

半导体动态 来源:工程师吴畏 2019-08-16 17:18 次阅读

8月14日,记者从经开区企业北京国望光学科技有限公司获悉,其增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资,国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械研究所作为战略投资者,两家机构以无形资产作价10亿元入股,这意味着经开区在推动国产光刻机核心部件研发和生产方面迈出实质性步伐。

光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。

根据2015年新修订的《中华人民共和国促进科技成果转化法》规定,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国科学院上海光学精密机械研究所,通过无形资产作价入股形成的股权分别以50%的比例奖励给研发团队,该项目也成为北京市国有企业首个根据上述法规通过引进无形资产作价入股,并实现职务科技成果转化为股权奖励的增资项目。

国望光学2018年6月落户经开区,注册资本20亿元,主营业务为光刻机最核心的部件——光学系统的研发和生产。通过北交所增资就是要寻找技术实力一流的战略投资方,推动国产中高端光刻机整机研发和量产速度。

集成电路产业已经成为我国长期坚持推动的国家战略任务,经开区作为全国集成电路产业聚集度最高、技术水平最先进的区域,现已形成以中芯国际、北方华创为龙头,包括设计、晶圆制造封装测试、装备、零部件及材料等完备的集成电路产业链,产业规模占到北京市的1/2。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    445

    文章

    47298

    浏览量

    407605
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1106

    浏览量

    46246
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机巨头ASML要搬离荷兰?

    据荷兰《电讯报》3月6日报道,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划搬离荷兰。
    的头像 发表于 03-08 14:02 167次阅读

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 371次阅读

    三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

    根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月,英特尔
    的头像 发表于 02-23 17:27 555次阅读

    光刻机结构及IC制造工艺工作原理

    光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
    发表于 01-29 09:37 329次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>结构及IC制造工艺工作原理

    狂加工一年!ASML把欠中国的600亿光刻机,成功交付了

    一系列环节如制造、封装、测试等。   在这其中,制造过程显得尤为关键,而高端光刻机则是制造过程中不可或缺的设备。 光刻机在微电子制造过程中扮演核心角色,其要求具备高度精密的光学系统、复
    的头像 发表于 01-17 17:56 276次阅读

    荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机

    在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
    的头像 发表于 01-03 15:22 539次阅读

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 397次阅读

    匀胶速度影响光刻胶的哪些性质?

    匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
    的头像 发表于 12-15 09:35 436次阅读
    匀胶<b class='flag-5'>速度</b>影响<b class='flag-5'>光刻</b>胶的哪些性质?

    光刻各环节对应的不同模型种类

    光学模型是基于霍普金斯(Hopkins)光学成像理论,预先计算出透射相交系数(TCCs),从而描述光刻机光学成像。光学模型中,经过优化的光
    发表于 12-11 11:35 274次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>各环节对应的不同模型种类

    光刻胶国内市场及国产化率详解

    KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150
    发表于 11-29 10:28 275次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b>胶国内市场及<b class='flag-5'>国产</b>化率详解

    解码中国产***:为何研发之路如此崎岖?

    光刻机是半导体制造行业的“心脏”,也是集成电路制造过程中不可或缺的关键设备。尽管国在半导体领域取得了显著进展,但在光刻机的自主研发方面仍面临诸多挑战。本文旨在分析国产
    的头像 发表于 08-30 09:42 2091次阅读
    解码中<b class='flag-5'>国产</b>***:为何<b class='flag-5'>研发</b>之路如此崎岖?

    芯片制造的国产化任重道远

    芯片制造的国产化任重道远,比如在EDA工具的国产化、光刻机等,国产化都还有很长的路要走。有统计数据显示,目前阶段我国在清洗、热处理、去胶设备的国产
    发表于 08-09 11:50 4171次阅读

    深紫外光刻复杂照明光学系统设计

    。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向,对照明系统关键单元进
    的头像 发表于 07-17 11:02 588次阅读
    深紫外<b class='flag-5'>光刻</b>复杂照明<b class='flag-5'>光学</b>系统设计

    音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

    光刻机是芯片智造的核心设备之一,也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此,荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻,但其实不同
    的头像 发表于 04-06 08:56 673次阅读
    音圈电机模组在主流<b class='flag-5'>光刻</b>掩模台系统中的应用

    GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍

    GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提
    的头像 发表于 03-23 18:55 7484次阅读
    GTC 2023 NVIDIA将加速计算<b class='flag-5'>引入</b>半导体<b class='flag-5'>光刻</b> 计算<b class='flag-5'>光刻</b>技术提速40倍