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电子发烧友网>电子资料下载>电子论文>半导体技术论文>0.16微米CMOS工艺技术

0.16微米CMOS工艺技术

2009-12-14 | rar | 444 | 次下载 | 免费

资料介绍

和舰科技自主创新研发的0.16 微米硅片制造工艺技术在原有比较成熟的0.18 微米工艺技
术基础上,将半导体器件及相关绕线尺寸进行10%微缩(实际尺寸为0.162 微米),大大降低了芯片的面积尺寸;且能与现有的0.18 微米制造工艺相互兼容,大幅度缩短,新产品达到量产的时间,具有低成本、高效能、高良率、工艺成熟的优点;可以为客户生产更具有技术和价格竞争力的产品,并填补了国内晶圆厂在该领域的空白。同时公司立足于内需巨大的中国市场,拥有一支优秀的技术团队,除了能为客户提供具有低成本、方便快捷供货的优势外,还可为客户提供完善的前段设计支持、芯片制造、后段测试封装以及失效分析等一站式服务,而未来公司也将继续开发0.153 微米工艺,可大大提高国内外芯片设计公司在市场上的产品竞争力。
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