苹果将加入FaceID和摄像元件求真全面屏设计
近日，美国专利商标局（USPTO）公布了苹果的一份新专利。根据专利信息显示：为了保证视觉效果最大化，苹果将在新一代设备屏幕中，加入Face ID和摄像元件，以达到“真全面屏”设计。
据悉，苹果早在今年6月就已向美国专利商标局申请了：屏幕进化的独家方案，其中最终要的一点就是，如何降摄像元件隐藏于玻璃盖板之中。
该专利技术还显示，受限于LCD屏幕材质显示原因，目前该项技术无法在LCD屏幕材质中应用，也暗示出苹果今后机型将全部采用OLED屏幕。
目前全面屏进化形势依然没有停止，从最早的改变屏幕比例，从16：9到最终的19：9，再到“刘海屏”，“珍珠屏”，最现在的采用滑轨设计。
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原文标题：没刘海真好：苹果将在新iPhone中搭载屏下摄像技术
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