手机在玩游戏时会发热怎么解决-温控设备可以搞定。实际上,不管是日常用到的电子设备,还是工业生产中的大型机器,温度控制都是确保它们稳定运行的关键。总体来说温控设备产业链其实挺有意思的,它从最基础的核心零部件开始,像压缩机、风机这些“幕后英雄”,再到组装成各种类型的温控设备,比如风冷和液冷系统,最后应用到各行各业中,像是数据中心、工业机床、储能设备,甚至半导体制造领域。今天我们就来聊聊温控设备产业链的各个环节。
温控设备产业链的上游主要是核心零部件,包括压缩机、风机、电源设备、变频器件、其他电子元件等,上游厂商比较零散。中游主要是温控设备,分风冷和液冷两个模式,其中风冷温控设备通过空气流动带走热量,使设备表面温度降低;液冷温控设备(俗称冷水机)通过液体循环带走热量,使设备内部温度降低。下游就分布于各行各业,如机房类温控系统(主要应用于运营商、互联网、云计算、金融等领域)、传统工业温控系统(主要应用于通用设备、数控机床、激光设备等)、电化学储能设备和半导体设备等等。

目前的温控细分领域中,从各下游分布看,机房类温控占比68%、传统工业占比25%,电化学储能占比4%,半导体设备占比2%。

据国家工信部统计数据显示,截止去年底我国集成电路产量达到3514亿块,同比增长6.9%。由于半导体制程投入成本大且制造工序多,所以在半导体制程的各环节都对温度有着十分明确的规定和要求。而半导体温控设备的温度控制范围目前可达-70℃~200℃,能够为集成电路制备提供稳定温度环境,提升良品率。 随着下游行业发展速度加快,我国的半导体温控设备市场空间持续扩展。2023年我国半导体温控设备市场规模达到近15亿元,同比增长超过10%。预计未来一段时间,伴随着半导体制造技术不断进步,我国半导体温控设备市场规模还将进一步增长,到2028年预计突破25亿。
接下来来看一下半导体的制造工艺,主要分为两大类:前道工艺(晶圆制造)和后道工艺(封装与测试)。前道工艺涉及硅片加工、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、清洗、抛光、金属化等环节,对应的核心设备包括硅片加工设备、光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、离子注入设备、薄膜沉积设备、机械抛光设备、量测设备等。后道工艺涉及封装设备和测试设备。

据统计,在所有半导体温控设备应用场景中,前三大核心工艺环节是刻蚀、薄膜沉积和涂胶显影,这三个环节分别占比61.25%、17.98%和9.99%,合计占据了总应用的90%。

以上就是今天我想要分享的内容。如果你对半导体制冷相关知识感兴趣,或者对半导体制冷有任何需求,欢迎留言交流~
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