近日,第十九届全国离子色谱学术报告会在安徽合肥成功举办。本次会议由中国仪器仪表学会分析仪器分会离子色谱专家组主办,汇聚了国内外离子色谱领域的专家学者、技术负责人及企业代表,共同探讨离子色谱技术的最新研究进展与应用实践。SGS微电子服务技术经理River Lee受邀远程出席会议,并发表题为《离子色谱在半导体及电子行业的应用》的专题报告。
此次报告聚焦半导体行业核心痛点——离子污染防控。River在报告中指出,随着半导体及电子行业对产品洁净度与可靠性的要求日益提升,离子污染已成为影响产品质量与良率的关键因素之一。他从实际案例出发,系统介绍了离子色谱技术在半导体厂房环境、超纯水、制程化学品、封装材料、PCB/PCBA等关键环节中的离子污染检测与监控方法,并结合SEMI、IPC、JEDEC等行业标准,详细阐述了各类样品的前处理技术与离子色谱分析流程。
River强调,离子色谱作为一种高灵敏度、高选择性的分析手段,在痕量离子检测方面具有不可替代的优势,尤其在AMC(空降分子污染)、UPW(超纯水)品质控制、封装材料离子释放评估等方面,已成为行业标配技术。他还分享了SGS在半导体及电子行业多年积累的检测经验与解决方案,展示了离子色谱在保障产品可靠性、提升制程稳定性方面的重要作用。
SGS凭借专业的半导体产业完整解决方案,可为海内外客户提供从原料入厂、生产过程到成品出货的全链条离子污染检测服务,涵盖阴离子、阳离子及弱有机酸等多类污染物分析,助力企业规避产品风险、符合行业合规要求。
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原文标题:SGS专家受邀出席第十九届全国离子色谱学术报告会并发表专题报告
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