广明源172nm准分子基材表面活化方案概述

在半导体行业，芯片制造堪称“纳米级的精密雕刻”——在仅几平方厘米的硅片上，构建数十亿个晶体管。每一道制程工艺的精度，直接关系到器件的性能、功耗与良率。

制程中，晶圆表面的表面能、润湿性以及表面洁净度，都会对薄膜沉积、图形转移、键合等关键环节产生直接影响。其中，针对基材表面状态的改性与调控，已成为提升高精度芯片制造制程稳定性与良率的核心手段之一。

诚邀莅临 · 14G22展位

解锁172nm准分子光&半导体制程新应用

- 172nm准分子表面活化方案 -

在本次中国（深圳）国际半导体展上，广明源（展位号：14G22）将展示基于172nm准分子紫外光的半导体基材表面活化解决方案，赋能半导体基材提升表面能和附着力，助力客户实现制程优化与良率提升。

应用方向

适用于薄膜沉积前处理、MEMS封装、3D封装、晶圆键合、倒装芯片键合、引线键合等高精度芯片制造。

技术原理

172nm准分子紫外光照射材料表面时，高能光子解离有机物分子链。同时，激发空气中的氧气，生成氧离子、臭氧、羟基自由基等活性氧物种，与材料表面反应，引入羟基、羧基等极性基团，提升表面自由能，实现表面活化与表面能可控调节。

应用优势

低热效应，适配多种敏感材料；

显著提升表面能，控制水滴角，改善表面张力；

非接触、常压环境，适配异形及大尺寸基材；

无化学残留，保障洁净制程。

应用效果

表面张力测试

三条横线自上而下分别为30，35，40mN/m系数达因笔画横5min后拍照效果。

诚邀莅临

6月4-6日，我们诚挚邀请您莅临中国（深圳）国际半导体展览会 14号馆 14G22展位，现场了解广明源172nm准分子紫外光源及表面改性解决方案，交流半导体先进制程中的光科技应用，共寻合作机遇。