浮栅晶体管主要是应用于于非易失性存储器之中,比如nand flash中的基本单元,本文介绍了浮栅晶体管的组成结构以及原理。

上图就是浮栅晶体管大致的组成图,是在NMOS的基础上在控制栅极下的绝缘层之间加入了一层浮栅层,用于储存电子。 其中与沟道接近的绝缘层二氧化硅厚度比较薄,电子在比较大的电场作用下,会隧穿进入浮栅层。

在写入电子时,在控制栅极施加相对于衬底的高压时,离子阱的电子被吸引并隧穿进入浮栅层被存储在其中,如果撤销电压之后,因为浮栅层被绝缘层包裹,浮栅层电子还是存储在这个部位,此状态计为逻辑0。

在擦除电子时,需要在衬底加一个相对于栅极的高压,浮栅层存储的电子就会在电场作用下隧穿回到下面的P型半导体里。此状态计为逻辑1。 浮栅晶体管巧妙的使用了物理里非常奇特的量子隧穿,用电场控制电子的存储,是一类很重要的存储器件。 END 转载内容仅代表作者观点 不代表中国科学院半导体所立场
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原文标题:半导体器件:浮栅晶体管
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浮栅晶体管的组成结构以及原理
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