阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用

近日，比利时微电子研究中心（IMEC）与全球光刻技术领军企业阿斯麦（ASML）共同宣布，在荷兰费尔德霍芬正式启用联合High-NA EUV光刻实验室。

这一实验室的启用标志着High-NA EUV技术向大批量生产迈出了重要一步。实验室的核心设备为一台先进的原型高数值孔径EUV扫描仪，以及与之相配套的一系列处理和计量工具。这些设备将用于研究、开发和验证High-NA EUV光刻技术，以满足未来半导体制造对更高精度和更小尺寸的需求。

IMEC与阿斯麦的此次合作，不仅将推动High-NA EUV技术的进一步发展，还将为半导体行业带来更加先进的制造技术和解决方案。通过共同研发，双方将致力于解决半导体制造中的技术难题，推动半导体行业的持续创新和发展。