近日,宁波冠石半导体光掩模版项目顺利封顶,该项目坐落于宁波前湾新区,自2023年5月16日签约至今年的10月1日正式动工,仅用了短短的8个月。
据了解,该项目预计总投资额接近20亿元,其中已初步投入16亿元,占地约68.8亩,整个建设周期预定60个月,主要致力于45-28nm成熟制程半导体光掩膜板的研发和生产。
资料显示,宁波冠石半导体正是专注于半导体光掩模版生产的产业头部企业,产品主要适用于45-28nm的半导体光掩模版的大规模制造。
光掩模版作为光刻工艺中所必需的图形转换工具或模板,其作用类似于相机中的“底片”,是显示面板驱动IC(简称“DDIC”)生产过程中的关键材料之一。冠石科技指出,本项目建成并达产后,将与公司现有的业务形成良好的协同效应,以满足现有客户的潜在需求。
早在去年5月份,冠石科技就与宁波前湾新区管理委员会签署了合作协议,确定将项目落户该区域。宁波前湾新区管委会承诺将全力协助冠石科技申报省市重点项目,以及积极争取各项国家、省级、市级政策优惠。
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