0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

西门子EDA为紫光展锐在DFM改善奠定良好技术基础

西门子EDA 来源:西门子EDA 2024-01-17 10:12 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

“芯片竞争,关键在良率。”看似简单的一句话,当我们深度推敲它,却别有一番天地。有业内行业分析指出,当前影响3nm工艺量产的最大因素是良率只有50%左右,然而大家只在先进工艺节点上才关注芯片的良率问题吗?非也,可以说芯片行业对良率的关注度覆盖所有工艺节点,包括特色工艺,因为它是关联企业成本最直接、最重要的因素。

良率提升,是芯片企业获利能力的关键

我们以国内芯片大厂为例,紫光展锐执行副总裁周晨表示:“产品良率对紫光展锐的获利能力和产品质量管控至关重要,因此紫光展锐的研发部门和Foundry合作伙伴有非常紧密的合作,对先进工艺中缺陷模型、产品可测试性设计、良率改善和爬坡有相当深厚的技术积累。此外,EDA 在帮助产品提升良率方面有非常大的价值。产品良率提升非常依赖完善的工作流程,从DFT、诊断、失效分析、大数据分析以及物理设计等环节都要依赖EDA工具来完成缺陷模型的建立、学习和改善的工作。”

换言之,当前行业中改善良率主要从两个方向切入:一个方向是芯片设计企业对先进工艺的理解,特别是和Foundry 厂的互动如何更好、更快地调整工艺参数,减小缺陷发生的概率和减低对产品良率的影响;另外一个方向是在设计中采取一些创新性的技术,使芯片的物理设计的可制造性得到大幅度提升,这需要设计、工艺和EDA三方的有效协作才能够达成。

携手西门子EDA, 为紫光展锐在DFM改善奠定良好技术基础

EDA作为芯片产业的基石,在良率提升层面的重要性不言而喻。EDA工具对于良率的把控几乎覆盖芯片设计和制造的整个流程,除了芯片前端设计和静态时序验证等功能外,还涉及到后端验证、可测试性设计、光学临近修正等。西门子EDA提供的良率解决方案涵盖硅前、硅中和后硅三个阶段,可实现“端到端”的良率保障。

具体来讲,在硅前和硅中阶段,西门子EDA的Calibre物理验证平台涵盖了Signoff级验证的Design、Mask以及芯片制造过程中所有验证步骤,在提升良率方面的表现得到了业界广泛的认可。以Calibre SONR为例,这是一款基于特征向量的机器学习平台,通过将Calibre机器学习模型与核心Calibre架构集成,来实现全芯片的热点预测和分析、模式减少,以及覆盖率检查等,可大大提高晶圆厂缺陷检测和诊断的生产力和准确性。其中,由于Calibre SONR工具自带一个机器学习数据库,可以以低内存和运行时间要求高效地处理大型数据集,因此OPC(光学邻近效应检测)受益最多,此前OPC需要海量的数据建模,并需要上万颗CPU作为硬件基础进行计算,而通过人工智能和机器学习,OPC的计算量实现大幅降低。

在后硅阶段,我们看到全球前十大半导体厂商中至少有7家正在采用诊断驱动良率分析技术(DDYA)来提升良率,并大大缩短PFA循环时间。而西门子EDA的Tessent工具平台可帮助客户实现最佳的可测试性设计 (DFT)解决方案,通过Tessent Diagnosis提供的版图感知和标准单元感知技术,以及Tessent YieldInsight提供的无监督机器学习技术相结合,找到最可能的缺陷分布并移除低概率怀疑点,提升分辨率和准确性,从而提高芯片良率并实现更优的功耗、性能和面积(PPA)。值得一提的是,近期西门子EDA还推出了Tessent RTL Pro解决方案,进一步扩展了 Tessent 产品组合的设计编辑功能,让客户能够在设计流程早期自动完成测试点、封装器单元和X-bounding 逻辑的分析和插入,从而缩短设计周期,改进设计的可测试性,更好地实现芯片面市“左移”(Shift-left) 工作。

周晨透露:“紫光展锐研发团队和西门子EDA在很多领域都有合作,在良率提升方面更是合作紧密。西门子EDA工具SONR的机器学习能力非常强大,在缺陷模型在物理版图中的匹配起到至关重要的作用。”

周晨表示,紫光展锐在去年一颗量产芯片中使用了西门子EDA的SONR技术。得益于SONR强大和创新的机器学习能力,在版图上执行了几百处的改动。根据回片测试结果显示,良率确实有实质性的改善,为紫光展锐以后的先进工艺DFM(可制造型设计)改善奠定了良好的技术基础。而紫光展锐也和西门子EDA研发部门进行了有效的互动,对SONR的产品技术改进提出了自己的意见,并被采纳,在DFM提高领域取得了开创性的成果。

对此,周晨表示:“紫光展锐和西门子EDA的协作完全是业界的强强联合,通过取长补短,开创了互利共赢的合作模式。”

良率高、产品好,紫光展锐稳健发展

在高良率和技术创新壁垒加持下,紫光展锐的成长迅猛,根据Counterpoint最新发布的2023年第二季度全球智能手机AP/SoC芯片出货量的市场份额数据显示,紫光展锐成为今年季度环比增长最快的芯片企业。

周晨从两个维度对紫光展锐的成长进行了分析:“一方面,在5G4G产品双管齐下的策略下,紫光展锐坚持技术创新,在过去一段时间实现了很多技术成果转化,在5G领域形成了梯队化的产品矩阵,并在4G智能机平台T612/T616/T619中突破了1.08亿像素,构成了产品的独特亮点,这对市场用户来说是极具吸引力的;另一方面,紫光展锐与西门子EDA等合作伙伴携手,实现了面向多板块的技术应用性的提高,在5G NTN、5G新通话、5G RedCap等领域取得了持续性的突破,并推出了首款车规级5G智能座舱芯片平台A7870和面向行业解决方案的P7885,以及首颗5G NTN卫星通信通用SoC芯片V8821。”

周晨强调:“未来,我们将继续与西门子EDA等合作伙伴共建生态,在消费电子物联网领域持续深耕的基础上,进一步布局汽车电子、智能显示等业务,描绘出紫光展锐强劲的第二增长曲线。”

写在最后

芯片企业想要盈利,良率保障是关键,正如紫光展锐为何能成为国内半导体行业的领头羊,同样也经历了良率提升的考验,而在迎接挑战、加速创新的路上,EDA工具功不可没。与西门子EDA的强强联合更是合作共赢的制胜关键。

审核编辑:汤梓红
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 西门子
    +关注

    关注

    98

    文章

    3272

    浏览量

    119742
  • eda
    eda
    +关注

    关注

    72

    文章

    3053

    浏览量

    181508
  • 紫光展锐
    +关注

    关注

    16

    文章

    893

    浏览量

    42342

原文标题:良率提升,EDA功不可没 — 西门子EDA对话紫光展锐

文章出处:【微信号:Mentor明导,微信公众号:西门子EDA】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    2025西门子EDA技术峰会圆满落幕

    近日,西门子 EDA 年度技术峰会“2025 Siemens EDA Forum”在上海成功举办。这场汇聚西门子全球技术专家、产业伙伴与核心
    的头像 发表于 09-05 17:22 3858次阅读

    西门子EDA与北京开源芯片研究院达成战略合作

    近日,西门子EDA与北京开源芯片研究院宣布达成战略合作:西门子EDA的Tessent Embedded Analytics解决方案现已全面支持以“昆明湖”
    的头像 发表于 09-05 17:19 4568次阅读
    <b class='flag-5'>西门子</b><b class='flag-5'>EDA</b>与北京开源芯片研究院达成战略合作

    AI 时代,西门子 EDA 走出这三步棋

    已经高达 5.4 亿美元。与此同时,摩尔定律增速放缓、制程复杂度剧增、3D IC 等异构集成技术的普及,以及系统设计的多域协同需求,正成为行业发展的主要挑战。   2025 年西门子 ED
    发表于 09-03 08:34 5350次阅读
    AI 时代,<b class='flag-5'>西门子</b> <b class='flag-5'>EDA</b> 走出这三步棋

    西门子发布关于美国解除近期对中国EDA出口限制的声明

    (EDA) 软件及技术的管制限制现已不再适用 。 据此,遵守适用出口管制法律法规的前提下,西门子已恢复对出口管制分类编号 (ECCNs)
    的头像 发表于 07-03 19:01 2349次阅读

    新思科技(Synopsys)、西门子、楷登电子(Cadence)三大巨头恢复对华EDA销售

    新思科技(Synopsys)、西门子、楷登电子(Cadence)三大芯片设计软件巨头正式恢复对华供货;意味着美国已正式取消对中国芯片设计软件(EDA)出口限制。 据外媒彭博社报道,美国商务部已通知
    的头像 发表于 07-03 16:22 2461次阅读
    新思科技(Synopsys)、<b class='flag-5'>西门子</b>、楷登电子(Cadence)三大巨头恢复对华<b class='flag-5'>EDA</b>销售

    美取消对中国芯片设计软件出口限制 西门子已恢复中国客户对其软件和技术的全面访问

    据央视新闻报道,美国已取消对中国芯片设计软件的出口限制。 据悉,在当地时间的7月2日德国西门子证实了该消息,德国西门子称收到美国政府通知已取消对中国芯片设计软件的出口限制;可以出口。目前德国西门子
    的头像 发表于 07-03 11:22 2219次阅读

    西门子推出用于EDA设计流程的AI增强型工具集

    西门子数字化工业软件于 2025 年设计自动化大会 (DAC 2025) 上宣布推出用于 EDA 设计流程的 AI 增强型工具集,并在大会期间展示 AI 技术如何助力 EDA 行业提升
    的头像 发表于 06-30 13:50 2745次阅读

    西门子EDA或暂停对中国大陆客户支持

    据业内传,德国西门子公司的电子设计自动化(EDA)部门可能暂停对中国大陆地区的支持与服务。   此举被指基于美国商务部工业安全局(BIS)的通知,要求西门子与其中国大陆的客户“脱钩”
    发表于 05-28 18:03 2578次阅读

    西门子再收购EDA公司 西门子宣布收购Excellicon公司 时序约束工具开发商

    开发、验证及管理时序约束的软件纳入西门子EDA的产品组合。此次收购将帮助西门子提供实施和验证流程领域的创新方法, 使系统级芯片  (SoC) 设计人员能够优化功耗、性能和面积 (PPA),加快设计速度,增强功能约束和结构约束的正
    的头像 发表于 05-20 19:04 1275次阅读
    <b class='flag-5'>西门子</b>再收购<b class='flag-5'>EDA</b>公司  <b class='flag-5'>西门子</b>宣布收购Excellicon公司  时序约束工具开发商

    西门子伺服电机简明样本

    西门子伺服电机简明样本
    发表于 04-14 15:36 2次下载

    西门子EDA工具如何助力行业克服技术挑战

    西门子EDA工具以其先进的技术和解决方案,全球半导体设计领域扮演着举足轻重的角色。本文将从汽车IC、3D IC和EDA AI三个方向,深入
    的头像 发表于 03-20 11:36 1906次阅读

    西门子EDA亮相2025玄铁RISC-V生态大会

    日前,“开放·连接” 2025 玄铁 RISC-V 生态大会在北京举行。西门子 EDA 携 Veloce CS 系列硬件辅助验证系统精彩亮相,芯片开发者带来了高效、智能的验证方案。
    的头像 发表于 03-19 17:35 1934次阅读

    西门子EDA新一代平台版本升级

    电子系统设计领域迎来重要革新:西门子 EDA 下一代电子系统设计平台 Xpedition 2409 与 HyperLynx 2409 新版本正式发布,持续升级全系列解决方案,助力工程师实现效率跃升。
    的头像 发表于 02-27 16:06 916次阅读

    西门子EDA将参加2025玄铁RISC-V生态大会

    2025 玄铁 RISC-V 生态大会将于 2025 年 2 月 28 日北京举行,西门子 EDA 将参加此次大会,展示 RISC-V 最新研究成果、探讨未来发展方向。
    的头像 发表于 01-17 15:27 2196次阅读

    西门子变频器图纸

    西门子变频器图纸
    发表于 01-07 18:19 16次下载