中图共聚焦显微镜大倾角超清纳米测量应用场景案例
共聚焦显微镜可以在非常小的区域内进行高分辨率成像,用途广泛。特别在材料科学研究中,适合用于观察材料的表面形貌结构。
中图共聚焦显微镜以针孔共聚焦技术为原理,广泛用于半导体制造及封装工艺检测中,对大倾角的产品有更好的成像效果,在满足精度情况下使用场景更具有兼容性。
中图共聚焦显微镜对半导体材料表面进行微纳米级测量,大倾角超清纳米测量,最大可测角度70°,这种高精度的测量技术可以帮助研究人员和工程师更好地了解材料的表面形貌,从而优化制造工艺;对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像,通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析,从而获取反映器件表面质量的2D、3D参数。这对于实现器件表面形貌3D测量非常关键,有助于发现和解决制造过程中的问题,提高半导体器件的性能和可靠性。
中图共聚焦显微镜大倾角超清纳米测量,能够观察材料表面和内部的微观结构,在半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等领域中,共聚焦显微镜能够对面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行高精度的测量和分析。
应用场景
镭射槽
光伏
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