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PN结的基本结构

CHANBAEK 来源: 古道矽风 作者: 古道矽风 2023-11-30 18:22 次阅读

半导体器件有四种基本结构,而PN结无疑是最常见,也是最重要的结构。

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PN结的基本结构

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PN结由P型半导体和N型半导体组成,为方便起见,考虑理想的均匀掺杂,并且P区和N区的交界处杂质浓度突变。考虑完全电离的情况,P区多子为空穴,N区多子为电子,空穴和电子浓度就等于掺杂浓度,这时候对于P区和N区都是电中性的。

在交界面处,电子和空穴就有一个很大的浓度梯度,由于两边载流子浓度不同,N区电子会向P区扩散,P区空穴会向N区扩散,电子和空穴的扩散破坏了N区和P区的电中性,N区失去了电子,施主离子带正电;P区失去空穴,受主离子带负电。正负电荷之间会产生电场,由N区指向P区,称为内建电场,电子受这个电场力的影响会向N区移动。

由于浓度梯度的存在,多数载流子受到了一个”扩散力“,产生扩散电流,随着载流子的扩散,浓度梯度逐渐变小,扩散力降低,同时内建电场的建立,电场力逐渐增加,产生漂移电流,由于两个力方向相反,最终会达到一个稳定的动态平衡状态,扩散电流和漂移电流相互抵消,此时流过PN结的净电流为零。

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在PN结交界处的净正电荷和净负电荷区域,这两个区域称为空间电荷区,由于内建电场的作用,电子和空穴会被扫出空间电荷区,里面没有可移动的电荷,所以也被称为耗尽区。后面研究能带图时,还会看到载流子在通过耗尽区时相当于越过一个势垒,所以耗尽区也可以称为势垒区。

在平衡态的PN结两端外加电压,就会破坏扩散力和电场力的平衡。正偏时,外加电场会抵消内建电场,此时扩散作用占优,P区的空穴和N区的电子就容易扩散至另一边,形成源源不断的扩散电流,由于两边的浓度梯度很大,所以PN结正偏电流很大。反偏时,外加电场和内建电场叠加,会进一步减小扩散作用,由于耗尽区载流子浓度很低,漂移电流很小,所以PN结反偏电流很小。

思考

在PN结从初始状态到建立动态平衡的这个阶段,有净电流产生吗?

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