0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

蓝膜在封装切割过程中的常见异常及处理办法

西斯特精密加工 2021-12-06 10:08 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

半导体封装

半导体封装是指通过多道工序,使芯片产生能满足设计要求具有独立电气性能的过程。

封装过程可概括为:来自晶圆前道工艺的晶圆通过划片工艺后,被切割为小的晶粒;然后将切割好的晶粒用固晶机按照要求固定在相应的引线框架上,在带有氮气烤箱固化;再用焊线机将超细的金属导线接合焊盘连接到基板引脚上,并构成所需要的电路;然后使用塑封机将独立的晶片用环氧树脂封装加以保护。这就是半导体封装过程。

在封装之后还要进行一系列操作,进行成品测试,最后入库出货。

胶膜在封装过程中的应用

封装前的晶圆切割和封装后的基板切割,是整个封装过程中不可缺少的重要工序,切割品质好坏会直接影响到客户满意度和公司效益。

切割过程中影响品质的因素有很多,切割机、切割参数、切割刀片、表面活性剂、冷却液、胶膜等,前面已经分析刀片、工艺、冷却水在切割过程中的应用,本文将分享胶膜中的一种——蓝膜的应用。

切割胶带分类

1eedee84-5524-11ec-a27f-dac502259ad0.png

蓝膜的分类及应用

蓝膜又名电子级胶带,主要用于玻璃,铝板,钢板的保护,因其性价比高同时适用于芯片切割,后面被应用到芯片切割中, 现在已经是国内晶圆切割主流的晶圆切割胶带之一。

目前,国内出货量最大蓝膜供应商在日东,日东蓝膜产品成熟稳定,性价比高,出货量大;

1efeb6ba-5524-11ec-a27f-dac502259ad0.png

SPV 224&214

1f33169e-5524-11ec-a27f-dac502259ad0.png

SPV 680

1f470ea6-5524-11ec-a27f-dac502259ad0.png

V8-A

不同粘性和要求的蓝膜,适用于不同的客户,目前市场常见的蓝膜以224和225为主。以日东蓝膜为例,下表简单介绍不同系列的蓝膜及其应用场景。

1f788274-5524-11ec-a27f-dac502259ad0.png

常见异常及处理方法

在封装切割过程中,经常会遇到一些切割相关的品质问题,引起的原因很多,膜的选型不当也会造成品质问题,常见异常有:背崩,飞料,拉丝,残胶,气泡,沾污。

下表主要从膜的角度去分析常见的异常和对应的处理方法。

1f98a234-5524-11ec-a27f-dac502259ad0.png

为了达到良好的切割效果,就必须要对切割过程中所使用的辅材有着清晰的认知,当对蓝膜性能及应用有了更多了解,才能根据切割工艺需求选择最为适合的产品,才能有效提高生产品质、效率以及较少生产成本,为客户提供更优质的切割方案。

西斯特科技

深圳西斯特科技有限公司 (简称SST西斯特) ,以“让一切磨削加工变得容易”为主旨,倡导磨削加工系统方法论,2015年创立于中国深圳,植根于技术创新的精神,屹立于追求梦想、创造价值的企业文化。

基于对客户现场的深度解读、创新性的磨具设计和磨削系统方法 论的实际应用,西斯特的磨削理念可服务于航空航天、医疗器械、集成电路、磁性材料、汽车与船舶制造、蓝宝石与功能陶瓷等领域的磨削加工,并为半导体制造消费电子制造、汽车制造等行业提供高端磨具产品。

西斯特科技始终以先进的技术、高性能的产品、优质服务的理念,带领产业革命,创造无限可能。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    339

    文章

    31471

    浏览量

    267634
  • 封装
    +关注

    关注

    128

    文章

    9380

    浏览量

    149213
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    C++程序异常处理机制

    1、什么是异常处理? 有经验的朋友应该知道,正常的C和C++编程过程中难免会碰到程序不按照原本设计运行的情况。 最常见的有除法分母为零,
    发表于 12-02 07:12

    博捷芯精密划片机电阻片切割的应用

    一、应用背景与需求分析厚电阻片作为电子电路实现电阻功能的核心元件,广泛应用于通信、汽车电子、工业控制、消费电子等众多领域。其生产过程中切割工序是决定产品精度、性能及良率的关键环节
    的头像 发表于 11-25 17:10 661次阅读
    博捷芯精密划片机<b class='flag-5'>在</b>厚<b class='flag-5'>膜</b>电阻片<b class='flag-5'>切割</b><b class='flag-5'>中</b>的应用

    氩离子的抛光与切割技术

    观察和成分分析提供理想的样品表面。氩离子切割技术氩离子切割技术的核心在于利用宽离子束对样品进行精确切割切割过程中,一个坚固的挡板被用于遮
    的头像 发表于 10-29 14:41 540次阅读
    氩离子的抛光与<b class='flag-5'>切割</b>技术

    硅片超声波清洗机操作过程中常见问题及解决办法

    半导体制造领域,硅片超声波清洗机是关键的设备之一。其主要功能是通过超声波震动,将硅片表面的微小颗粒和污染物有效清除,确保其表面洁净,实现高质量的半导体生产。然而,实际操作过程中,硅片超声波清洗机
    的头像 发表于 10-21 16:50 2248次阅读
    硅片超声波清洗机操作<b class='flag-5'>过程中常见</b>问题及解决<b class='flag-5'>办法</b>

    红外测温技术气瓶充装过程中的应用

    气瓶充装过程中,温度异常可能引发瓶体爆裂、气体泄漏等严重事故,直接威胁人员与生产安全。而红外测温技术的应用,正成为实时监控温度、防范风险的“利器”。
    的头像 发表于 08-26 15:54 1083次阅读

    静力水准仪测量过程中遇到误差如何处理?

    水准仪测量过程中遇到误差如何处理1、环境干扰处理温度骤变是常见干扰源。单日温差大于8℃时,液位漂移可达0.04毫米。此时应重新校准基准值—
    的头像 发表于 08-14 13:01 1132次阅读
    静力水准仪<b class='flag-5'>在</b>测量<b class='flag-5'>过程中</b>遇到误差如何<b class='flag-5'>处理</b>?

    切割液多性能协同优化对晶圆 TTV 厚度均匀性的影响机制与参数设计

    TTV 均匀性提供理论依据与技术指导。 一、引言 晶圆切割工艺,TTV 厚度均匀性是衡量晶圆质量的关键指标,直接影响芯片制造的良率与性能。切割液作为
    的头像 发表于 07-24 10:23 782次阅读
    <b class='flag-5'>切割</b>液多性能协同优化对晶圆 TTV 厚度均匀性的影响机制与参数设计

    晶圆切割深度动态补偿的智能决策模型与 TTV 预测控制

    摘要:本文针对超薄晶圆切割过程中 TTV 均匀性控制难题,研究晶圆切割深度动态补偿的智能决策模型与 TTV 预测控制方法。分析影响切割深度与 TTV 的关键因素,阐述智能决策模型的构建思路及 TTV
    的头像 发表于 07-23 09:54 742次阅读
    晶圆<b class='flag-5'>切割</b>深度动态补偿的智能决策模型与 TTV 预测控制

    基于多传感器融合的切割深度动态补偿与晶圆 TTV 协同控制

    一、引言 晶圆制造领域,晶圆总厚度变化(TTV)均匀性是决定芯片性能与良品率的关键指标。切割过程中切割深度的精准控制直接影响 TTV 。然而,受切削力波动、刀具磨损、工件材料特性差异等因素
    的头像 发表于 07-21 09:46 895次阅读
    基于多传感器融合的<b class='flag-5'>切割</b>深度动态补偿与晶圆 TTV 协同控制

    晶圆切割深度补偿 - 切削热耦合效应对 TTV 均匀性的影响及抑制

    ;而切削热作为切割过程中的必然产物,会显著影响晶圆材料特性与切割状态 。深度补偿与切削热之间存在复杂的耦合效应,这种效应会对 TTV 均匀性产生重要影响,深入研究
    的头像 发表于 07-18 09:29 698次阅读
    晶圆<b class='flag-5'>切割</b><b class='flag-5'>中</b>深度补偿 - 切削热耦合效应对 TTV 均匀性的影响及抑制

    切割深度动态补偿技术对晶圆 TTV 厚度均匀性的提升机制与参数优化

    一、引言 晶圆制造过程中,晶圆总厚度变化(TTV)是衡量晶圆质量的关键指标,直接影响芯片制造的良品率与性能。切割过程中,受切削力、振动、刀具磨损等因素影响,切割深度难以精准控制,导致
    的头像 发表于 07-17 09:28 758次阅读
    <b class='flag-5'>切割</b>深度动态补偿技术对晶圆 TTV 厚度均匀性的提升机制与参数优化

    晶圆切割振动 - 应力耦合效应对厚度均匀性的影响及抑制方法

    一、引言 半导体晶圆制造流程里,晶圆切割是决定芯片质量与生产效率的重要工序。切割过程中,振动与应力的耦合效应显著影响晶圆质量,尤其对厚度均匀性干扰严重。深入剖析振动 - 应力耦合效应对晶圆厚度均匀
    的头像 发表于 07-08 09:33 992次阅读
    晶圆<b class='flag-5'>切割</b><b class='flag-5'>中</b>振动 - 应力耦合效应对厚度均匀性的影响及抑制方法

    自动对刀技术对碳化硅衬底切割起始位置精度的提升及厚度均匀性优化

    的重要意义。 一、引言 碳化硅衬底是第三代半导体器件的核心基础材料,其切割质量直接影响器件性能与成品率。碳化硅衬底切割过程中,起始位置精度不足会导致切割路径偏
    的头像 发表于 06-26 09:46 921次阅读
    自动对刀技术对碳化硅衬底<b class='flag-5'>切割</b>起始位置精度的提升及厚度均匀性优化

    切割进给量与碳化硅衬底厚度均匀性的量化关系及工艺优化

    引言 碳化硅衬底加工过程中切割进给量是影响其厚度均匀性的关键工艺参数。深入探究二者的量化关系,并进行工艺优化,对提升碳化硅衬底质量、满足半导体器件制造需求具有重要意义。 量化关系分析
    的头像 发表于 06-12 10:03 834次阅读
    <b class='flag-5'>切割</b>进给量与碳化硅衬底厚度均匀性的量化关系及工艺优化

    什么是晶圆贴

    是指将一片经过减薄处理的晶圆(Wafer)固定在一层特殊的胶膜上,这层通常为蓝色,业内常称为“ ”。贴
    的头像 发表于 06-03 18:20 2006次阅读
    什么是晶圆贴<b class='flag-5'>膜</b>