0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

GaN晶体管与其驱动器的封装集成消除了共源电感

电子设计 来源:电子设计 作者:电子设计 2022-01-26 15:11 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

作者: 德州仪器设计工程师谢涌;设计与系统经理Paul Brohlin

导读:

将GaN FET与它们的驱动器集成在一起可以改进开关性能,并且能够简化基于GaN的功率级设计。

氮化镓 (GaN) 晶体管的开关速度比硅MOSFET快很多,从而有可能实现更低的开关损耗。然而,当压摆率很高时,特定的封装类型会限制GaN FET的开关性能。将GaN FET与驱动器集成在一个封装内可以减少寄生电感,并且优化开关性能。集成驱动器还可以实现保护功能

简介

氮化镓 (GaN) 晶体管的开关性能要优于硅MOSFET,因为在同等导通电阻的情况下,氮化镓 (GaN) 晶体管的终端电容较低,并避免了体二极管所导致的反向恢复损耗。正是由于这些特性,GaN FET可以实现更高的开关频率,从而在保持合理开关损耗的同时,提升功率密度和瞬态性能。

传统上,GaN器件被封装为分立式器件,并由单独的驱动器驱动,这是因为GaN器件和驱动器基于不同的处理技术,并且可能来自不同的厂商。每个封装将会有引入寄生电感的焊线和引线,如图1a所示。当以每纳秒数十到几百伏电压的高压摆率进行切换时,这些寄生电感会导致开关损耗、振铃和可靠性问题。

将GaN晶体管与其驱动器集成在一起(图1b)可以消除共源电感,并且极大降低驱动器输出与GaN栅极之间的电感,以及驱动器接地中的电感。在这篇文章中,我们将研究由封装寄生效应所引发的问题和限制。在一个集成封装内对这些寄生效应进行优化可以减少该问题,并且以高于100V/ns的高压摆率实现出色的开关性能。

poYBAGGKYDWAc8r0AAEfkzOdB9c793.png

图1. 由独立封装内的驱动器驱动的GaN器件 (a);一个集成GaN/驱动器封装 (b)。

pYYBAGGKYDeALiGXAAAho6derI0547.png

图2. 用于仿真的半桥电路的简化图

仿真设置

为了仿真寄生电感效应,我们使用了一个采用直接驱动配置的空乏型GaN半桥功率级(图2)。我们将半桥设置为一个降压转换器,总线电压480V,死区时间50ns时50%占空比(输出电压 [VOUT] = 240V),以及一个8A的电感器电流。这个GaN栅极在开关电压电平间被直接驱动。一个阻性驱动设定GaN器件的接通压摆率。一个电流源只会仿真一个与连续传导模式降压转换器内开关 (SW) 节点所连接的电感负载。

共源电感

高速开关中最重要的一个寄生要素是共源电感(图1a中的Lcs),它限制了器件汲取电流的压摆率。在传统的TO-220封装中,GaN源由焊线流至引线,而汲取电流与栅极电流都从这里流过。这个共源电感在汲取电流改变时调制栅源电压。共源电感会高于10nH(其中包括焊线和封装引线),从而限制了压摆率 (di/dt),并增加开关损耗。

借助图1b中所示的集成式封装,驱动器接地直接焊接至GaN裸片的源焊垫。这个Kelvin源连接最大限度地缩短了电源环路与栅极环路共用的共源电感路径,从而使得器件能够以高很多的电流压摆率来开关。可以将一个Kelvin源引脚添加到一个分立式封装内;然而,这个额外的引脚会使其成为一个不标准的电源封装。Kelvin源引脚还必须从印刷电路板 (PCB) 引回至驱动器封装,从而增加了栅极环路电感。

pYYBAGGKYDmAfUSqAAHnkAMFx6M015.png

图3.不同共源电感情况下的高管接通:红色 = 0nH,绿色 = 1nH,蓝色 = 5nH。E_HS是高管器件的VDS和IDS在运行时间内的积分值(能耗)。

图3显示的是高管开关接通时的硬开关波形。在共源电感为5nH时,由于源降级效应,压摆率减半。一个更低的压摆率会带来更长的转换时间,导致更高的交叉传导损耗,如能耗曲线图中所示。在共源电感为5nH时,能量损耗从53μJ增加至85μJ,增加了60%。假定开关频率为100kHz,功率损耗则会从从5.3W增加至8.5W。

栅极环路电感

栅极环路电感包括栅极电感和驱动器接地电感。栅极电感是驱动器输出与GaN栅极之间的电感。在使用独立封装时,栅极电感包括驱动器输出焊线 (Ldrv_out)、GaN栅极焊线 (Lg_gan) 和PCB迹线 (Lg_pcb),如图1a中所示。

基于不同的封装尺寸,栅极电感会从紧凑型表面贴装封装(例如,四方扁平无引线封装)的几纳亨到有引线功率封装(例如TO-220)的10nH以上。如果驱动器与GaN FET集成在同一个引线框架内(图1b),GaN栅极直接焊接到驱动器输出上,这样可以将栅极电感减少至1nH以下。封装集成还可以极大地降低驱动器接地电感(从图1a中的Ldrv_gnd + Ls_pcb到图1b中的Lks)。

降低栅极环路电感对于开关性能有着巨大影响,特别是在关闭期间,GaN栅极被一个电阻器下拉。这个电阻器的电阻值需要足够低,这样的话,器件才不会在开关期间由于漏极被拉高而又重新接通。这个电阻器与GaN器件的栅源电容和栅极环路电感组成了一个电感器-电阻器-电容器 (L-R-C) 槽路。方程式1中的Q品质因数表示为:

poYBAGGKYDuAOdRSAAAHsAPfks0585.png

在栅极环路电感值更大时,Q品质因数增加,振铃变得更高。这个效应用一个1Ω下拉电阻关闭低管GaN FET进行仿真,图4中这个效应的出现时间为9.97μs,其中栅极环路电感变化范围介于2nH到10nH之间。在10nH的情况下,低管VGS在负栅极偏置以下产生12V振铃。这就极大地增加了GaN晶体管栅极的应力。需要注意的一点是,任何FET的栅极上的过应力都会对可靠性产生负面影响。

栅极环路电感还会对关断保持能力产生巨大影响。当低管器件的栅极保持在关闭电压时,并且高管器件接通,低管漏极电容将一个大电流传送到栅极的保持环路中。这电流通过栅极环路电感将栅极推上去。图4在大约10.02µs时的曲线变化便是说明了这一点。随着电感增加,低管VGS被推得更高,从而增加了直通电流,这一点在高管漏电流曲线图中可见 (ID_HS)。这个直通电流使得交叉传导能量损耗 (E_HS) 从53µJ增加至67µJ。

pYYBAGGKYD2AP-guAAIEtSY-dqk370.png

图4. 不同栅极环路电感下的低管关闭和高管接通波形:红色 = 2nH,绿色 = 4nH,蓝色 = 10nH。E_HS是高管能耗。

根据方程式 (1),减轻栅极应力的一个方法就是增加下拉电阻值,反过来减少L-R-C槽路的Q品质因数。图5显示的是用一个10nH栅极环路电感和在1Ω到3Ω之间变化的下拉电阻 (Rpd) 进行的仿真结果。虽然栅极下冲被一个3Ω下拉电阻限制在负偏置电压以下的数伏特内,但是关断保持能力恶化,从而导致更大的直通电流。这一点在漏电流曲线图中很明显。

E_HS能量曲线图显示出,在每个开关周期内有额外的13µJ损耗,与2nH的栅极环路电感和1Ω下拉电阻时53µJ相比,差不多增加了60%(图4)。

假定开关频率为100kHz,高管器件上的功率损耗从5.3W增加至8W,其原因是由高栅极环路电感和高下拉电阻值所导致的直通。这个额外的功率损耗会使得功率器件内的散热变得十分难以管理,并且会增加封装和冷却成本。

pYYBAGGKYECATC2TAAHLSfOED8A334.png

图5. 使用10nH栅极环路电感和下拉电阻时的仿真结果:Rpd = 1Ω(红色)、2Ω(绿色)和3Ω(蓝色)。E_HS是高管能耗。

为了减轻直通电压,可以将栅极偏置为更大的负电压,不过这样做会增加栅极上的应力,并且会在器件处于第三象限时增大死区时间损耗。因此,在栅极环路电感比较高时,栅极应力与器件关断保持能力之间的均衡和取舍很难管理。你必须增加栅极应力,或者允许半桥直通,这会增加交叉传导损耗和电流环路振铃,并且会导致安全工作区 (SOA) 问题。一个集成式GaN/驱动器封装提供低栅极环路电感,并且最大限度地降低栅极应力和直通风险。

GaN器件保护

将驱动器与GaN晶体管安装在同一个引线框架内可以确保它们的温度比较接近,这是因为引线框架的导热性能极佳。热感测和过热保护可以置于驱动器内部,使得当感测到的温度超过保护限值时,GaN FET将关闭。

一个串联MOSFET或一个并联GaN感测FET可以被用来执行过流保护。它们都需要GaN器件与其驱动器之间具有低电感连接。由于GaN通常以较大的di/dt进行极快的开关,互联线路中的额外电感会导致振铃,并且需要较长的消隐时间来防止电流保护失效。集成驱动器确保了感测电路与GaN FET之间尽可能少的电感连接,这样的话,电流保护电路可以尽可能快的做出反应,以保护器件不受过流应力的影响。

poYBAGGKYEKAD0sQAAH5zInDEvY000.png

图6. 一个半桥降压转换器(通道2)中的高管接通时的SW节点波形。

开关波形

图6是一个半桥的开关波形;

这个半桥包含2个集成式驱动器的GaN器件,采用8mm x 8mm四方扁平无引线 (QFN) 封装。通道2显示SW节点,此时高管器件在总线电压为480V的情况下,以120V/ns的压摆率被硬开关。这个经优化的驱动器集成式封装和PCB将过冲限制在50V以下。需要说明的一点是,捕捉波形时使用的是1GHz示波器和探头。

结论

GaN晶体管与其驱动器的封装集成消除了共源电感,从而实现了高电流压摆率。它还减少了栅极环路电感,以尽可能地降低关闭过程中的栅极应力,并且提升器件的关断保持能力。集成也使得设计人员能够为GaN FET搭建高效的过热和电流保护电路。

审核编辑:何安

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 电源管理
    +关注

    关注

    117

    文章

    8664

    浏览量

    148258
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    氮化镓GaN FET/GaN HEMT 功率驱动电路选型表

    PC5012 是一款 700V、1.2Ω 的氮化镓(GaN)功率场效应晶体管(FET),集成了单通道低端驱动器,专为高速应用中的氮化镓高电子迁移率
    发表于 03-17 16:26 3次下载

    PC5200 700V_10A GaN HEMT驱动器数据手册

    晶体管(HEMT)是一种高性能增强型氮化镓高电子迁移率晶体管,可实现优异的高频和高效率运行。该氮化镓功率高电子迁移率晶体管结合了最高的 dv/dt 免疫性和行业标准的低轮廓、低电感、底
    发表于 03-16 17:57 1次下载

    LMG2650:650V 95mΩ GaN半桥集成驱动器的卓越之选

    LMG2650:650V 95mΩ GaN半桥集成驱动器的卓越之选 在电源管理和功率转换领域,氮化镓(GaN)技术正以其卓越的性能逐渐崭露头角。今天,我们就来深入探讨一款由德州仪器(T
    的头像 发表于 03-01 15:05 723次阅读

    CGH40006P射频晶体管

    CGH40006P射频晶体管CGH40006P是Wolfspeed(原CREE)推出的一款 6W 射频功率氮化镓高电子迁移率晶体管GaN HEMT),采用 28V 电源轨设计,具备 DC 至
    发表于 02-03 10:00

    深入了解LMG1020:高性能低侧GaN和MOSFET驱动器

    它在高速应用场景中能发挥怎样的作用。 文件下载: lmg1020.pdf 一、产品概述 LMG1020是一款专为氮化镓(GaN)场效应晶体管(FET)和逻辑电平MOSFET设计的单通道、低侧驱动器,适用于高速应用,如激光雷达(L
    的头像 发表于 01-08 16:20 569次阅读

    TPS7H60x3-SP:太空级氮化镓场效应晶体管栅极驱动器的性能与应用解析

    - SP系列辐射加固(RHA)氮化镓(GaN)场效应晶体管(FET)栅极驱动器,以其出色的性能和多样化的功能,成为太空级转换设计的理想之选。 文件下载: tps7h6003-sp.
    的头像 发表于 01-07 10:45 496次阅读

    意法半导体GaN栅极驱动器助力打造运动控制解决方案

    了解专为N沟道增强模式GaN晶体管打造的高压半桥栅极驱动器的最新技术成果。此类器件具有无与伦比的效率和可靠性,堪称SMPS、电池充电器、适配器、泵、压缩机等各种消费类和工业应用的理想选择。意法半导体
    的头像 发表于 12-03 10:03 959次阅读

    NSBCMXW系列偏置电阻晶体管(BRT)技术解析与应用指南

    ,该网络由一个系列基极电阻和一个基极-发射极电阻组成。BRT将所有组件集成到单个设备中,从而消除了单个组件。使用BRT可以降低系统成本和电路板空间。NSBCMXW组件采用XDFNW3封装,具有卓越的散热性能。这些
    的头像 发表于 11-22 09:44 1168次阅读
    NSBCMXW系列偏置电阻<b class='flag-5'>晶体管</b>(BRT)技术解析与应用指南

    深入解析onsemi偏置电阻晶体管(BRT)NSBAMXW系列技术特性与应用

    安森美 (onsemi) NSBAMXW PNP偏置电阻晶体管 (BRT) 设计用于替换单个设备和相关外部偏置电阻网络。 这些PNP偏置电阻晶体管集成了单个晶体管和一个单片偏置网络,该
    的头像 发表于 11-21 16:22 944次阅读
    深入解析onsemi偏置电阻<b class='flag-5'>晶体管</b>(BRT)NSBAMXW系列技术特性与应用

    ‌UCC21330 隔离双通道栅极驱动器总结

    该UCC21330是一个隔离式双通道栅极驱动器系列,具有可编程死区时间和宽温度范围。它采用 4A 峰值电流和 6A 峰值吸收电流设计,可驱动功率 MOSFET、SiC、GaN 和 I
    的头像 发表于 10-11 16:20 2627次阅读
    ‌UCC21330 隔离双通道栅极<b class='flag-5'>驱动器</b>总结

    突破功率密度边界:TI LMG342xR030 GaN FET技术解析与应用

    Texas Instruments LMG342xR030 GaN场效应晶体管(FET)集成驱动器和保护功能,可使设计人员在电子设备系统中实现新的功率密度和效率水平。
    的头像 发表于 09-19 11:06 973次阅读
    突破功率密度边界:TI LMG342xR030 <b class='flag-5'>GaN</b> FET技术解析与应用

    LMG3612 650V GaN功率FET技术解析与应用指南

    和保护功能 集成在8mm x 5.3mm QFN封装中。LMG3612 GaN FET具有低输出电容电荷,可减少电源转换开关所需的时间和能量。该
    的头像 发表于 08-13 15:13 1256次阅读
    LMG3612 650V <b class='flag-5'>GaN</b>功率FET技术解析与应用指南

    LMG3616 650V GaN功率FET技术解析与应用指南

    8mmx5.3mm的QFN封装中,该GaN FET简化了设计且减少了元件数量。LMG3616 GaN FET具有可编程开启转换速率,可提供EMI和振铃控制。晶体管的内部栅极
    的头像 发表于 08-13 14:56 1107次阅读
    LMG3616 650V <b class='flag-5'>GaN</b>功率FET技术解析与应用指南

    Texas Instruments LMG2100R026 GaN半桥功率级数据手册

    Texas Instruments LMG2100R026 GaN半桥功率级集成了栅极驱动器和增强型氮化镓(GaN)场效应晶体管。93V连续
    的头像 发表于 07-11 14:40 1106次阅读
    Texas Instruments LMG2100R026 <b class='flag-5'>GaN</b>半桥功率级数据手册

    下一代高速芯片晶体管解制造问题解决了!

    可能超过初始版本的潜在优势。 改进的可制造性 除了引入外壁之外,这种变化还带来了两个重要优势:更简单的制造和更好的栅极集成度。栅极电极现在可以连接两种类型的晶体管,而无需跨越势垒,从而简化了电路设计
    发表于 06-20 10:40