昨(20)日,三星电子副会长李在镕视察了该公司首条基于极紫外光刻(EUV)技术的晶圆生产线V1。期间,李在镕再次明确,将在2030年使三星电子成为逻辑芯片领域的世界第一。
据BusinessKorea报道,三星电子指出,李在镕在昨日参观了该工厂的EUV生产线后,与DS业务部门的总裁进行了实地会晤。三星设备解决方案部门(DS)包括半导体和显示器两大重要产品线,此次会晤似乎也显示出李在镕势在必得的决心。
据了解,V1产线于2018年2月动工,投资约60亿美元,若未来全线建成,预计总投资将达到20万亿韩元。
“V1包含了紫外光线(Ultra Violet)和胜利(Victory)的意思,”三星电子的一位高管称。“我们计划根据未来的市场情况对V1线进行额外投资。”
与此同时,三星电子判断,掌握EUV工艺对于紧跟台积电至关重要。因为利用短波紫外线光源在晶圆上雕刻半导体电路,与ArF方法相比,先进的工艺可以制造出更精细的电路,适用于10纳米以下的超精细工艺,是制备高性能、低功耗半导体的关键。
在三星电子该条V1产线上,除了生产7纳米芯片外,还将生产5纳米和3纳米半导体。据悉,从2月初开始量产的7纳米产品将于3月份交付全球客户。
李在镕当天还对员工们表示,“去年,我们播下了成为系统半导体龙头的目标的种子,而今天,我们率先实现了这一目标。”
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