全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机

“11月29日，中科院光电技术研究所宣布国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，成为全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机。”

这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。

该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。

超分辨率光刻镜头

项目副总设计师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。

项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况

本次“超分辨光刻装备研制”通过验收，是中国科学院光电技术研究所多年的技术积累结晶。

该光刻机制造的相关器件已在如下科研院校的重大研究任务中取得应用。

中国航天科技集团公司第八研究院；

电子科技大学太赫兹科学技术研究中心；

四川大学华西医院；

中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室。

中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备

“ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”

如此低成本的光刻机，一旦量产，结合中国经济上的庞大需要，再结合中国庞大的理工人才，一个低成本的光刻工具，将造就一条极其庞大完备的芯片产业链。

不过，就此鼓吹中国打破ASML在高端光刻机上的垄断未免为时过早。

ASML公司简介

ASML，中文名称为阿斯麦（中国大陆）、艾司摩尔（中国***）。是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML一家独大，占有大约80%的市场份额。

台积电、三星、英特尔等国际半导体巨头都是其客户，并且也都开始试验使用这种EUV设备生产芯片，以便能在更小芯片面积内，布局数量更多的晶体管，从而让计算设备速度更快。

毕竟目前该光刻机制造的相关器件主要还是用于专用领域和特殊领域，距离商业化量产还需一段时日。

不过无论如何，这种关键技术，都是一种战略资源，可以不先进，也可以不成熟，但是“有它或者无它“，对国家安全的影响却是有天壤之别的。

其实在美国封杀中兴之际，ASML就声称将于2019年为中芯国际交付一台EUV光刻机。那时我们就推断，西方国家判断我国的光刻机技术即将取得突破。

现在来看，果是如此。

西方总是会在我们掌握了技术的“前一天”，很及时地送上并不过时的技术。

但是我们并不能因此而自废武功，自主研发的脚步一刻不能停下。不能让“运十“悲剧重演。