0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

新一代EUV极紫外光光罩传送盒G/GP Type同时获全球最大半导体设备商ASML认证

MZjJ_DIGITIMES 来源:lp 2019-03-20 10:21 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

已逾“而立之年”的SEMICON China,即将在妍妍春日的3月20日-22日登场。每年SEMICON China都是中国首要的半导体行业盛事之一,当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商无一缺席。

中国是世界半导体产品的主要消费国之一,市场规模占到亚太区总量的一半以上。近几年来,国家对集成电路产业发展的政策、投资不断加大支持力度,为产业快速发展形成支撑。伴随AI5G、电动车、生物辨识、物联网等新技术崛起,全球各大半导体大厂对于新进技术的投入仍不遗余力。家登近年大量投入先进载具及其相关设备产品研发生产,今年也将在SEMICON China盛会上展示更加进步的先进载具系列产品。

国内知名关键性贵重材料之保护、传送及储存解决方案整合服务商家登日前正式发布新一代EUV极紫外光光罩传送盒G/GP Type同时获全球最大半导体设备商ASML认证,G/GP Type 版本可用于NXE:3400B,家登加速进入EUV微影技术先进裂程,大量制造全面启航。

耗时近两年,家登专注资源与ASML合作开发新版本的EUV极紫外光传送盒,目标锁定为更高更严密的防污染、防缺陷性能。本次认证的G/GP Type EUV极紫外光传送盒规格与条件定更为严谨,在ASML的协助下历经各种专业测试,家登全数通过功能性、抗缺陷性及远距运送等各项测试,正式取得ASML认证。G/GP TypeEUV极紫外光传送盒可用于微影技术IC大量制造ASML最新曝光机NXE3400B及现有机台上。此外,家登同时提供G-Type(无光罩护膜)及GP-Type(有光罩护膜)两种版本,满足客户不同性能与规格要求,成为客户在先进制程上提高良率与效率的首选伙伴。

家登G/GP Type EUV极紫外光传送盒取得认证将为家登带来新一波营运高峰,世界各大晶圆制造厂新一代ASML曝光机将于近年陆续安装完成,直接带动家登EUV G/GP Type极紫外光传送盒需求急速攀升,为满足相较去年与今年全球大客户大量需求家登G/GP Type EUV极紫外光传送盒取得认证必为家登带来新一波营运高峰。世界各大晶圆制造厂新一代ASML曝光机于今年已陆续安装完成,直接带动家登EUV G/GP Type极紫外光传送盒需求急速攀升,为满足相较去年与今年全球大客户后续大量的订单需求,家登树谷厂及南科厂生产基地已做好全面量产准备,新增人员、机台及产品线均已到位,随时可以提供全球大客户从试产到2019全面量产的EUV G/GP Type产品需求,并可以提供全球客户即时且迅速的支援与服务。

G/GP Type EUV极紫外光传送盒通过ASML认证直接带来的订单效益,伴随半导体市场客户需求,家登产能满载至2019年Q1,此波半导体需求为家登带来营运动力,家登半导体本业的营运效能及技术表现将在EUV极紫外光光罩传送盒的带领下再创高峰,伴随全球半导体技术走向先进制程,2019年家登整体营运表现值得期待。

规模年年扩张的2019 SEMICON China即将展开,超过1000家厂商,数百亿产值之新商机等待着相遇与媒合机会。家登在此盛会中,除展示更加进步的先进载具系列产品,更抓紧每个了解客户的机会,积极谨慎地推进布局国内市场。

家登精密定位为“关键性贵重材料之保护、传送及储存解决方案整合服务商”,主力产品为光罩传载解决方案及晶圆传载解决方案,目前为高阶光罩传载解决方案的市场领导者。产品应用横跨半导体、LCD、LED、太阳能光电MEMS(微电子机械系统)以及GaAs(砷化钾)等等重要领域。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5446

    文章

    12470

    浏览量

    372723
  • 半导体
    +关注

    关注

    336

    文章

    29999

    浏览量

    258459
  • 物联网
    +关注

    关注

    2939

    文章

    47330

    浏览量

    408043

原文标题:【新品】SEMICON China家登获ASML认证EUV极紫外光光罩传送盒登场

文章出处:【微信号:DIGITIMES,微信公众号:DIGITIMES】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而紫外
    的头像 发表于 10-04 03:18 9398次阅读
    俄罗斯亮剑:公布<b class='flag-5'>EUV</b>光刻机路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    BASiC基本半导体新一代G3)SiC MOSFET特点及设计要点

    BASiC基本半导体新一代G3)SiC MOSFET技术深度分析与应用设计指南 倾佳电子(Changer Tech)是家专注于功率半导体
    的头像 发表于 09-19 17:34 998次阅读
    BASiC基本<b class='flag-5'>半导体</b><b class='flag-5'>新一代</b>(<b class='flag-5'>G</b>3)SiC MOSFET特点及设计要点

    【「AI芯片:科技探索与AGI愿景」阅读体验】+半导体芯片产业的前沿技术

    的解决漏电流问题,在源和漏之间的电流路径的沟道中控制平面的数量被增加到3个,以抑制漏电流。 GAA:结构中有4个控制平面,与FinFET相比,漏电流问题进步减小,在先进的逻辑半导体
    发表于 09-15 14:50

    中科院微电子所突破 EUV 光刻技术瓶颈

    紫外光刻(EUVL)技术作为实现先进工艺制程的关键路径,在半导体制造领域占据着举足轻重的地位。当前,LPP-EUV 光源是
    的头像 发表于 07-22 17:20 826次阅读
    中科院微电子所突破 <b class='flag-5'>EUV</b> 光刻技术瓶颈

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    ASML紫外光刻(EUV)技术基础上的革命性升级。通过将光学系统的数值孔径(NA)从 0.33 提升至 0.55,其分辨率从 13.5nm(半节距)跃升至 8nm(半节
    发表于 06-29 06:39 1836次阅读

    一代半导体被淘汰了吗

    半导体产业的百年发展历程中,“第一代半导体是否被淘汰”的争议从未停歇。从早期的锗晶体管到如今的硅基芯片,以硅为代表的第一代半导体材料,始终
    的头像 发表于 05-14 17:38 783次阅读
    第<b class='flag-5'>一代</b><b class='flag-5'>半导体</b>被淘汰了吗

    麦科信评CIAS2025金翎奖【半导体制造与封测领域优质供应

    麦科信评CIAS2025金翎奖【半导体制造与封测领域优质供应】 苏州举办的2025CIAS动力·能源与半导体创新发展大会上,深圳麦科信科技有限公司凭借在测试测量领域的技术积累,入选
    发表于 05-09 16:10

    北方华创跃居全球半导体设备供应第六位

    根据CINNO Research数据,2024年全球大半导体设备供应的总收入将超过1100亿美元,年增长率约为10%。2024年十大半导体
    的头像 发表于 03-12 15:54 1267次阅读

    石墨烯成为新一代半导体的理想材料

    )等二维材料因结构薄、电学性能优异成为新一代半导体的理想材料,但目前还缺乏高质量合成和工业应用的量产技术。 化学气相沉积法(CVD)存在诸如电性能下降以及需要将生长的TMD转移到不同衬底等问题,增加了工艺的复杂性。此外,在
    的头像 发表于 03-08 10:53 1118次阅读

    保密通信之紫外光无线通信!

    紫外光通信的应用场景十分广泛,它正逐渐渗透到我们生活的各个角落。在军事领域,紫外光通信可用于战场短距离保密通信。在战场上,士兵们可以利用紫外光通信设备,在不暴露自身位置的情况下,安全地
    的头像 发表于 02-21 13:32 918次阅读
    保密通信之<b class='flag-5'>紫外光</b>无线通信!

    纳米压印光刻技术旨在与紫外光刻(EUV)竞争

    芯片制造、价值1.5亿美元的紫外EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻扫描
    的头像 发表于 01-09 11:31 1134次阅读

    无尘车间半导体制造设备的振动标准

    半导体制造设备对振动极为敏感,不同的设备及工艺对振动标准要求也有所不同。般来说,无尘车间半导体制造设备
    的头像 发表于 01-02 15:29 2039次阅读
    无尘车间<b class='flag-5'>半导体</b>制造<b class='flag-5'>设备</b>的振动标准

    清洗EUV掩膜版面临哪些挑战

    本文简单介绍了紫外光EUV)掩膜版的相关知识,包括其构造与作用、清洗中的挑战以及相关解决方案。
    的头像 发表于 12-27 09:26 1215次阅读

    日本首台EUV光刻机就位

    据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得紫外 (EUV) 光刻设备半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安
    的头像 发表于 12-20 13:48 1417次阅读
    日本首台<b class='flag-5'>EUV</b>光刻机就位

    罗姆的SoC用PMIC被无晶圆厂综合性半导体制造商Telechips的 新一代座舱电源参考设计采用

    罗姆生产的SoC用PMIC*1被无晶圆厂车载半导体综合制造Telechips Inc.(总部位于韩国板桥,以下简称“Telechips”)的新一代座舱用SoC*2“Dolphin3
    的头像 发表于 12-16 09:25 834次阅读
    罗姆的SoC用PMIC被无晶圆厂综合性<b class='flag-5'>半导体制造商</b>Telechips的 <b class='flag-5'>新一代</b>座舱电源参考设计采用