固态变压器SST高频DC-DC变换的技术发展趋势及碳化硅MOSFET技术在固态变压器高频DC-DC变换的应用价值深度研究报告
倾佳电子(Changer Tech)是一家专注于功率半导体和新能源汽车连接器的分销商。主要服务于中国工业电源、电力电子设备和新能源汽车产业链。倾佳电子聚焦于新能源、交通电动化和数字化转型三大方向,力推BASiC基本半导体SiC碳化硅MOSFET单管,SiC碳化硅MOSFET功率模块,SiC模块驱动板等功率半导体器件以及新能源汽车连接器。
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1. 绪论
1.1 能源互联网背景下的电力电子变革
全球能源结构的转型正推动电力系统从传统的单向被动输配电网络向双向互动、灵活可控的能源互联网演进。在这一宏大的技术变革中,电力电子变压器(Power Electronic Transformer, PET),亦被称为固态变压器(Solid State Transformer, SST),作为一种集电压变换、电气隔离、能量传递与潮流控制于一体的新型智能电力设备,被视为构建智能电网和交直流混合微电网的“能量路由器”。与仅能进行电压等级变换的传统工频变压器不同,SST通过引入功率半导体器件,实现了对电压、频率、相位和潮流的精确控制,并天然具备交直流接口,极大地促进了分布式可再生能源的接入与消纳。

1.2 高频DC-DC变换的核心地位
SST的拓扑架构通常由输入级(AC-DC整流)、隔离级(DC-DC变换)和输出级(DC-AC逆变或DC-DC输出)三部分级联而成。其中,中间的高频DC-DC隔离级是SST区别于传统变压器的核心特征,也是决定整机功率密度、转换效率及动态响应性能的关键环节。传统变压器依赖硅钢片铁芯在50Hz或60Hz工频下工作,导致体积庞大、重量沉重且缺乏可控性。而SST中的DC-DC级利用高频变压器实现电气隔离,根据电磁感应定律,变压器的体积与工作频率成反比。当工作频率从50Hz提升至数十千赫兹(kHz)甚至上百千赫兹时,变压器的体积和重量可大幅缩减至原来的几分之一甚至几十分之一。因此,高频DC-DC变换技术不仅是SST小型化、轻量化的基础,更是实现高效率能量转换的技术瓶颈所在。

1.3 硅基器件的物理极限与宽禁带半导体的崛起
长期以来,SST的工程化应用受制于硅(Si)基功率器件(如Si IGBT、Si MOSFET)的物理极限。在高压大功率应用场景下,Si IGBT虽然耐压能力强,但存在严重的少子拖尾电流效应,导致关断损耗随频率升高而急剧增加,通常限制了开关频率在20kHz以下,难以充分发挥高频化带来的体积缩减优势。此外,硅材料的窄禁带宽度限制了器件的工作温度和击穿场强,使得高压器件的导通电阻较大,散热系统设计复杂。



碳化硅(SiC)作为第三代宽禁带半导体材料的代表,凭借其禁带宽度大(约3.26eV,是Si的3倍)、击穿电场高(是Si的10倍)、热导率高(是Si的3倍)以及电子饱和漂移速度快(是Si的2倍)等优异物理特性,正在重塑电力电子技术版图。特别是SiC MOSFET的出现,打破了高压与高频不可兼得的桎梏,使得SST中的DC-DC变换级能够在数十kHz甚至100kHz以上的频率下高效运行,同时承受更高的工作电压和温度。
本报告旨在基于前沿的半导体器件数据与技术文档,特别是结合基本半导体(BASIC Semiconductor)最新的碳化硅MOSFET工业模块及分立器件技术资料,深入剖析高频DC-DC变换技术在SST中的发展趋势,并系统论证SiC MOSFET技术在其中的关键应用价值。报告将从器件物理、封装工艺、静态与动态参数特性、系统级仿真对比等多个维度展开详尽的分析与阐述。
2. 固态变压器高频DC-DC变换的技术架构与挑战
2.1 模块化多电平与级联架构
考虑到SST通常直接接入中高压配电网(如10kV、35kV),而单个功率半导体器件的耐压有限(目前主流商用SiC MOSFET最高约为3.3kV,大规模应用集中在1200V-1700V),因此,模块化级联架构成为SST的主流选择。其中,级联H桥(Cascaded H-Bridge, CHB)和模块化多电平换流器(Modular Multilevel Converter, MMC)是最常见的拓扑结构。
在这种架构下,SST被分解为多个独立的功率单元(Power Energy Building Block, PEBB),每个单元承担一部分电压。例如,在10kV输入的SST中,输入级可能由多个AC-DC模块串联组成,每个模块的直流母线电压通常稳定在800V至1000V之间。这正是1200V及1700V电压等级功率器件的最佳应用区间。每个PEBB单元内部包含一个高频DC-DC变换器,用于实现电压等级的变换和电气隔离。这种模块化设计不仅降低了对单器件耐压的要求,还通过冗余设计提高了系统的可靠性。
2.2 核心DC-DC拓扑分析:DAB与LLC
在高频DC-DC隔离级中,双有源桥(Dual Active Bridge, DAB)变换器和LLC谐振变换器是两种最具代表性的拓扑,它们对开关器件提出了截然不同的性能要求。
双有源桥(DAB)变换器:DAB通过控制原副边全桥电路的移相角来调节功率流的大小和方向。其天然具备能量双向流动的能力,非常适合需要接入储能或分布式电源的SST应用。DAB的主要挑战在于实现全范围的零电压开通(ZVS)。在轻载或电压不匹配的工况下,ZVS范围会缩小,导致开关管面临硬开关应力。这就要求功率器件具备极低的开关损耗和优异的反向恢复特性,以应对硬开关或非理想软开关工况。
LLC谐振变换器:LLC利用谐振槽路实现原边开关管的ZVS和副边整流管的零电流关断(ZCS),具有极高的峰值效率。然而,LLC通常用于单向功率传输,且其频率调节范围较宽,对磁性元件的设计挑战较大。在SST应用中,为了追求极致效率,LLC常被用于定频工作的DC变压器(DC Transformer, DCT)模式。
无论是DAB还是LLC,为了减小变压器体积,开关频率fsw通常设计在20kHz以上,甚至高达100kHz-500kHz。在高压大功率工况下,这已远远超出了传统Si IGBT的能力范围。
2.3 高频化带来的技术挑战
SST向高频化发展虽然带来了体积红利,但也引发了一系列技术挑战,这些挑战直接指向了功率器件的性能短板:
开关损耗激增:开关损耗与频率成正比。如果器件的单次开关能量损耗(Eon+Eoff)过大,高频运行将导致结温急剧升高,甚至热失控。
dv/dt与di/dt应力:高频开关意味着极高的电压变化率(dv/dt)和电流变化率(di/dt)。这不仅产生强烈的电磁干扰(EMI),还可能通过米勒电容误导通桥臂对侧的开关管,造成直通短路。
体二极管反向恢复:在DAB等拓扑的死区时间内,负载电流需通过MOSFET的体二极管续流。Si器件体二极管的反向恢复电荷(Qrr)巨大,会导致巨大的反向恢复损耗和振荡。
散热管理:随着功率密度的提升,单位体积内的热耗散大幅增加,要求器件封装具备极低的热阻和极高的热稳定性。
3. 碳化硅MOSFET器件技术深度解析
针对SST面临的上述挑战,基于第三代半导体技术的SiC MOSFET提供了近乎完美的解决方案。本章将结合基本半导体(BASIC Semiconductor)的产品数据,深入剖析SiC MOSFET的关键技术特性。


3.1 导通电阻与耐压的突破性权衡
在功率半导体物理中,击穿电压与比导通电阻之间存在着著名的“硅极限”关系(Ron,sp∝VB2.5)。SiC材料凭借高临界击穿场强,改变了这一比例系数,使得在相同的耐压等级下,SiC MOSFET的漂移区厚度仅为Si器件的十分之一,掺杂浓度却可高出两个数量级。这意味着SiC MOSFET可以在实现高耐压的同时,保持极低的导通电阻。
根据基本半导体提供的技术资料,其推出的SiC MOSFET模块在导通性能上表现优异:
62mm大功率模块:型号BMF540R12KA3(1200V/540A)实现了惊人的2.5mΩ典型导通电阻(@25∘C,VGS=18V)。即使在175∘C的极限结温下,其导通电阻也仅上升至4.3mΩ。相比之下,同电压等级的Si IGBT虽然在大电流下具有较低的饱和压降,但在部分负载(SST常见的运行工况)下,由于存在固有的门槛电压(VCE(sat)0),其导通损耗远高于呈现纯阻性特性的SiC MOSFET。
34mm紧凑型模块:型号BMF160R12RA3(1200V/160A)在保持半桥拓扑的小型化封装中,实现了7.5mΩ的超低电阻。
更高电压等级:资料显示,基本半导体还推出了1400V耐压的SiC MOSFET(如B3M010140Y)。这一耐压等级的推出对SST具有重要战略意义。在1000V直流母线系统中,1200V器件的电压余量(Margin)仅为20%,在考虑关断电压尖峰和宇宙射线失效风险时显得捉襟见肘;而1700V器件虽然安全,但导通电阻通常大幅增加。1400V器件恰好填补了这一空白,在保证可靠性的同时,提供了比1700V器件更优的导通性能,是中压SST直流环节的理想选择。
3.2 动态开关特性与高频能力
SST的核心竞争力在于高频。SiC MOSFET作为单极性器件,没有少数载流子积聚效应,因此不存在IGBT特有的拖尾电流,这从根本上降低了开关损耗。
3.2.1 极低的开关能量损耗
数据分析显示,SiC MOSFET的开关损耗比同规格IGBT低一个数量级。以基本半导体Pcore™2 E2B封装的BMF240R12E2G3模块为例,在VDC=800V、ID=240A的工况下:
开通损耗 (Eon) :7.4 mJ
关断损耗 (Eoff) :1.8 mJ
总开关损耗 (Etotal) :9.2 mJ
作为对比,中提供的仿真数据显示,某国际知名品牌的1200V IGBT模块在类似工况下的总损耗高达数十毫焦耳。这种巨大的损耗差异使得SiC MOSFET能够轻松工作在50kHz以上,而IGBT通常被限制在20kHz以下。在SST中,这意味着可以将数十公斤重的中频变压器替换为几公斤重的高频变压器,且不再需要庞大的水冷系统,风冷即可满足散热需求。
3.2.2 栅极电荷与驱动功率
高频开关对驱动电路提出了严峻考验。器件的栅极电荷(Qg)决定了驱动电路所需的平均功率(Pdrv=Qg×Vgs×fsw)。
基本半导体的BMF360R12KA3(1200V/360A)模块,其总栅极电荷QG仅为880nC 。对于一颗360A的巨型芯片而言,这一数值极低。低QG不仅降低了驱动损耗,还允许更快的开关速度,从而进一步压缩开关过程中的电压电流重叠区域,降低开关损耗。
3.3 体二极管性能与可靠性隐患的消除
在DAB等软开关拓扑中,体二极管的性能至关重要。虽然SiC MOSFET自身的体二极管反向恢复特性远优于Si器件,但SiC体二极管属于双极性结构,长期通过大电流可能诱发基面位错(BPD)扩展为层错(Stacking Faults),导致器件导通电阻漂移和正向压降增大,这种现象被称为“双极性退化”。
3.3.1 模块内置SBD技术
为了彻底解决这一隐患并进一步提升性能,基本半导体在其Pcore™2 E2B系列及部分其他模块中采用了**集成碳化硅肖特基二极管(SBD)**的技术路线。
零反向恢复:SBD是多数载流子器件,理论上不存在反向恢复电流。集成SBD后,反向恢复损耗几乎可以忽略不计。
抑制双极性退化:在续流阶段,电流主要流经低压降的SBD,而不是MOSFET的体二极管,从而避免了双极性退化效应。根据的实验数据,内置SBD的模块在运行1000小时后,RDS(on)的变化率控制在3%以内,而普通SiC MOSFET的变化率高达42%。这一特性对于要求20年以上使用寿命的电网级SST设备至关重要。
低压降:集成SBD后,二极管的正向导通压降显著降低,减少了死区时间内的损耗。
4. 适应高频SST需求的先进封装技术
芯片技术的进步必须配合封装技术的革新才能落地。对于SST而言,封装不仅要解决散热问题,还要解决高压绝缘、高频寄生参数控制以及长期可靠性问题。
4.1 陶瓷基板材料的代际更替:Si3N4的应用
绝缘陶瓷基板是功率模块散热路径上的核心组件。传统的氧化铝(Al2O3)和氮化铝(AlN)基板在SST应用中显现出局限性。
Al2O3 :热导率低(约24 W/mK),机械性能一般,难以满足高功率密度散热需求。
AlN:热导率虽高(约170 W/mK),但机械强度差,脆性大。SST作为户外设备,面临巨大的昼夜温差和负荷波动,AlN基板在剧烈的温度循环中极易发生铜层剥离或陶瓷开裂。
趋势:氮化硅(Si3N4)AMB基板。
基本半导体在中明确指出,其工业级SiC模块广泛采用了高性能Si3N4 AMB(活性金属钎焊)基板。
综合性能最优:Si3N4的热导率约90 W/mK,虽低于AlN,但其抗弯强度高达700 N/mm2 ,是AlN的两倍以上。极高的机械强度允许基板做得更薄(如0.32mm),从而补偿了热导率的不足,使得总热阻与AlN相当甚至更低。
可靠性跃升:实验数据显示,在经历1000次严苛的温度冲击测试后,Al2O3和AlN基板均出现了铜箔分层失效,而Si3N4基板保持完好。这直接决定了SST能否实现免维护运行。
4.2 互连工艺革命:银烧结技术
芯片与基板之间的连接传统上使用锡铅焊料。然而,SiC器件理论工作结温可达200∘C以上,传统焊料在高温下会发生蠕变,导致热阻增加、失效。
资料(B3M013C120Z)和表明,先进的SiC模块已引入**银烧结(Silver Sintering)**工艺。
熔点高:烧结银层的熔点高达960∘C,远超工作温度,彻底消除了焊料熔化或蠕变的风险。
热/电导率极高:银的热导率和电导率远优于锡铅合金。
应用效果:采用银烧结技术的BMF540R12KA3模块,其结-壳热阻(Rth(j−c))低至0.07 K/W 。这种极致的热管理能力使得SST在承受短时过载(如电网故障穿越)时具有更大的安全边界。
4.3 低杂散电感封装设计
在di/dt高达数千A/us的高频开关过程中,仅10nH的杂散电感就能产生数十伏的电压尖峰。
基本半导体通过优化内部布局,推出了低感封装产品:
Pcore™2 E2B:杂散电感控制在20nH以下。
62mm低感系列:如BMF360R12KA3,杂散电感约为30nH,远低于传统62mm模块的电感水平。
这种低感设计不仅降低了关断过电压,减少了吸收电路(Snubber)的损耗和体积,还提升了高频开关的安全性。
5. 重点SiC MOSFET模块参数深度横评
为了给SST设计人员提供量化的选型参考,本章对基本半导体几款代表性模块进行数据横评。这些数据直接反映了当前SiC技术在SST应用中的前沿水平。

5.1 34mm半桥模块系列:SST功率单元的基石
该系列模块尺寸统一,电流覆盖范围广,非常适合模块化SST的灵活配置。
表5-1:34mm封装SiC MOSFET模块关键参数对比
| 型号 | 额定电流 (TC=80/75∘C) | RDS(on) (Typ. @25∘C) | RDS(on) (Typ. @175∘C) | 总栅极电荷 QG | 结壳热阻 Rth(j−c) | 数据来源 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| BMF60R12RB3 | 60 A | 21.2 mΩ | 37.3 mΩ | 168 nC | 0.70 K/W | |
| BMF80R12RA3 | 80 A | 15.0 mΩ | 26.7 mΩ | 220 nC | 0.54 K/W | |
| BMF120R12RB3 | 120 A | 10.6 mΩ | 18.6 mΩ | 336 nC | 0.37 K/W | |
| BMF160R12RA3 | 160 A | 7.5 mΩ | 13.3 mΩ | 440 nC | 0.29 K/W |
深度洞察:
线性扩展性:从60A到160A,导通电阻与额定电流呈现完美的线性反比关系,表明芯片并联工艺的高度成熟。设计者可以在同一拓扑、同一散热设计下,通过更换模块直接通过功率倍增。
高温性能:在175∘C极限温度下,电阻增长系数约为1.7-1.8倍。这一温漂系数优于部分竞品,说明其载流子迁移率在高温下保持较好,有利于高温工况下的效率维持。
热阻大幅降低:随着电流等级提升,芯片面积增加,热阻从0.70降至0.29 K/W。这意味着大电流模块不仅导通损耗低,散热效率也更高,适合高功率密度SST设计。
5.2 62mm大功率模块系列:MW级SST的核心

对于兆瓦(MW)级SST,需要单模块处理更大电流。
表5-2:62mm封装SiC MOSFET模块关键参数对比
| 型号 | 额定电流 | RDS(on) (@25∘C) | 开通损耗 Eon | 关断损耗 Eoff | 测试条件 | 数据来源 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| BMF360R12KA3 | 360 A | 3.7 mΩ | 7.6 mJ | 3.9 mJ | 600V, 360A | |
| BMF540R12KA3 | 540 A | 2.5 mΩ | 14.8 mJ | 11.1 mJ | 600V, 540A |
深度洞察:
能效标杆:BMF540R12KA3的2.5mΩ电阻意味着在300A负载下,导通压降仅0.75V。相比之下,300A的IGBT压降通常接近2V。仅导通损耗一项,SiC就减少了60%以上。
开关损耗微乎其微:在540A的巨大电流下,单次开关总损耗仅约26mJ。若以20kHz运行,开关损耗功率仅520W。对于一个处理300kW-500kW功率的模块,这仅占0.1%-0.2%。这正是SST能够实现99%以上转换效率的物理基础。
6. 系统级应用价值仿真与验证
单纯的器件参数对比不足以完全展示SiC在SST中的颠覆性价值。本章结合资料中的系统级仿真数据,从应用层面进行验证。
6.1 效率与频率的博弈:SiC vs. IGBT
展示了一组H桥拓扑(典型DC-DC结构)的对比仿真,直接揭示了SiC与IGBT在不同频率下的性能差异。
仿真条件:直流电压VDC=540V,输出功率Pout=20kW。
对比对象:
方案A:BASIC SiC MOSFET BMF80R12RA3 (1200V, 15mΩ)。
方案B:某主流品牌高速IGBT (1200V, 100A)。
表6-1:H桥拓扑不同频率下损耗对比分析
深度洞察与SST应用推演:
频率红利:SiC方案在70kHz下的总损耗,竟然不到IGBT在20kHz下损耗的一半。这意味着在SST中,我们可以将工作频率提升3-4倍,从而将高频变压器的体积缩小60%-70%,同时不仅不牺牲效率,反而提升了效率。
热管理红利:损耗从596W降至240W,意味着散热器的热阻要求大幅降低。原本可能需要复杂水冷的系统,现在只需简单的强迫风冷,极大降低了SST的辅助系统成本和维护难度。
6.2 输出能力的提升
在电机驱动仿真中(可类比为SST的DC-AC级或DC-DC级),进一步展示了BMF540R12KA3与800A IGBT模块的对比。
结果:在结温限制(Tj≤175∘C)条件下,540A额定电流的SiC模块在6kHz下能输出556.5A的有效电流,而额定电流更大的800A IGBT模块仅能输出446A。
启示:这打破了唯“额定电流”论的选型传统。由于SiC的低损耗特性,其电流降额(Derating)曲线非常平缓。在SST实际应用中,工程师可以用标称电流较小的SiC模块替换标称电流较大的IGBT模块,从而在降低系统成本的同时提升性能。
7. 固态变压器高频DC-DC技术的未来发展趋势
综合上述器件技术与应用分析,SST高频DC-DC变换技术呈现以下明确的发展趋势:
7.1 全面SiC化与高压化
在10kV/35kV直挂式SST中,1200V和1700V SiC MOSFET将全面取代Si IGBT,成为主流选择。随着1400V甚至3300V更高电压等级SiC器件的成熟,SST的级联级数将减少,系统复杂度降低,可靠性进一步提升。
7.2 频率迈向100kHz+时代
目前SST的开关频率主要集中在20kHz-50kHz区间。随着Pcore™2 E2B等低感封装和低栅极电荷器件的普及,DC-DC级的开关频率将向100kHz甚至更高迈进。这将推动磁性元件材料(如纳米晶、非晶合金)和绕组技术(利兹线、PCB绕组)的同步革新,最终实现SST功率密度突破3kW/L- 5kW/L的目标。
7.3 智能化与集成化
未来的SiC模块将不仅仅是功率开关,而是集成了驱动、保护、传感的智能功率模块(IPM)。基本半导体在模块中集成NTC温度传感器只是第一步,未来集成电流传感、过温保护甚至在线健康监测(Health Monitoring)功能将成为标配,以满足智能电网对设备自诊断和高可靠性的要求。
7.4 极致的可靠性设计
针对电网设备长寿命的要求,Si3N4 AMB基板和银烧结技术将成为SST专用功率模块的标准配置。此外,针对SiC体二极管退化问题的解决方案(如内置SBD)将成为行业规范,彻底消除双极性退化带来的可靠性隐患。
8. 结论
深圳市倾佳电子有限公司(简称“倾佳电子”)是聚焦新能源与电力电子变革的核心推动者:
倾佳电子成立于2018年,总部位于深圳福田区,定位于功率半导体与新能源汽车连接器的专业分销商,业务聚焦三大方向:
新能源:覆盖光伏、储能、充电基础设施;
交通电动化:服务新能源汽车三电系统(电控、电池、电机)及高压平台升级;
数字化转型:支持AI算力电源、数据中心等新型电力电子应用。
公司以“推动国产SiC替代进口、加速能源低碳转型”为使命,响应国家“双碳”政策(碳达峰、碳中和),致力于降低电力电子系统能耗。
本次研究通过对基本半导体SiC MOSFET产品线及SST应用场景的深度剖析,得出以下核心结论:
SiC MOSFET是SST高频化的唯一解:在1200V以上的高压应用中,只有SiC MOSFET能同时满足高频(>20kHz)、高压和高效率的需求,彻底解决了Si IGBT在SST应用中的频率瓶颈。
技术成熟度已达商用节点:从低导通电阻(2.5mΩ)到先进封装(Si3N4、银烧结),再到内置SBD解决可靠性痛点,SiC功率模块在性能和可靠性上已完全具备支撑电网级SST大规模应用的能力。
系统价值巨大:通过提升频率和降低损耗,SiC技术不仅提升了SST的电能转换效率,更重要的是通过减小磁性元件和散热系统体积,大幅降低了SST的系统总拥有成本(TCO),为其在智能电网、数据中心供电及轨道交通中的普及铺平了道路。
建议:对于SST研发企业,建议在下一代产品定义中,全面转向基于SiC MOSFET的高频架构,并重点关注器件的封装可靠性(如Si3N4基板),以构建具有核心竞争力的能源互联网关键装备。
审核编辑 黄宇
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