从依赖进口到自主破局：四方光电气体传感器助推半导体产业关键跨越

10月28日，《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十五个五年规划的建议》正式发布。《建议》在“加快高水平科技自立自强”部分明确提出，要完善新型举国体制，采取超常规措施，全链条推动包括集成电路、高端仪器在内的重点领域关键核心技术攻关取得决定性突破。这一部署，不仅再次确立了集成电路产业的战略高度，更强调了高端仪器在保障国家产业链安全中的关键作用。

响应政策号召，前瞻布局半导体国产替代

近年来，国家相继出台系列政策，全力支持集成电路全产业链的创新发展，提升自主可控能力。作为国内气体传感器与高端科学仪器的上市企业，四方光电股份有限公司(以下简称“四方光电”)及旗下全资子公司四方光电(武汉)仪器有限公司(以下简称“四方仪器”)积极响应国家政策号召，依托在气体传感领域的深厚技术积淀和敏锐产业洞察，前瞻性布局半导体精密制造领域，已构建起完整的技术研发和产业化体系，特别是在红外(NDIR)、氧化锆等传感原理上，具备了从核心传感器到高端分析仪器的全链条自主研发能力。

针对半导体制造中对气体环境极其严苛的监控需求，四方光电持续技术攻坚，打破国外垄断，自主研发推出红外气体传感器和微量氧分析仪等多款创新产品，精准解决行业核心痛点，为中国半导体产业的高质量发展提供坚实可靠的国产化技术支撑。

聚焦核心技术，以创新产品直击行业痛点

01.红外气体传感器：精准判定清洁终点，推动绿色制造

在薄膜沉积(CVD/ALD)工艺中，腔室清洁是保障工艺稳定性的关键步骤。传统基于经验时间的控制方法，为避免清洁不彻底往往采取过度清洁策略，造成了NF₃等昂贵工艺气体的巨大浪费。

四方光电推出的 Gasboard-2060红外气体传感器，直击这一痛点。该产品通过实时、精准监测清洁过程中副产物如SiF₄的浓度变化，能够精准、智能地判定清洁终点。这帮助客户在实现精准工艺控制的同时，有效降低运营成本，践行绿色制造理念。

02.微量氧分析仪：0.1ppm级精度，守护工艺环境纯净

在半导体制造中，氧污染是影响芯片良率的“隐形杀手”。即便微量氧气(低至ppm级)也足以引发不必要的氧化反应，导致集成电路和硅片缺陷，破坏薄膜结构的完整性，严重影响产品的均匀性和可靠性。

四方光电自主研发的 Gasboard-3050系列低浓度氧气分析仪，最低分辨率达0.1 ppm，量程覆盖0–10 ppm至100% O₂，搭载经现场长期验证的氧化锆传感器，具备优异的再现性与高速响应特性，能对工艺气体及设备腔室中的氧含量进行精准监测，从而有效帮助客户从源头控制氧污染，为提升产品良率提供可靠保障。

赢得市场信赖，国产力量获头部客户认可

凭借卓越的产品性能与稳定的质量表现，四方光电的半导体行业气体监测方案已成功打入国内多家主流半导体制造企业与设备厂商的供应链，并获得头部客户的持续采购与良好评价。客户反馈证实，四方光电的产品在稳定性及使用寿命等关键指标上，已达到同类进口产品水平，真正实现了国产化替代。

与此同时，四方光电积极参与SEMICON China、CSEAC半导体设备年会等全球顶级半导体行业盛会，通过展会平台与产业界深入交流，持续扩大品牌影响力，展示了中国企业在高端科学仪器领域的创新实力与进取精神。

展望“十五五”新征程，高端仪器与集成电路产业的命运紧密交织在一起。四方光电将继续秉持技术自立的初心，紧密围绕国家战略与产业需求，不断攻坚高端气体分析领域的“卡脖子”难题，以更多创新、可靠的传感解决方案，赋能中国半导体产业的提质增效与自主可控。

审核编辑 黄宇