中微公司董事长尹志尧博士荣膺2024年度中国经济新闻人物

由中国经济传媒协会主办、新浪财经和第一财经承办的第十届“企业家之夜”活动于2025年1月15日在北京成功举办，活动现场揭晓了十位对中国经济贡献卓著的企业家。凭借突出的行业贡献和杰出的影响力，中微公司董事长兼总经理尹志尧博士荣膺2024年度中国经济新闻人物(十大经济年度人物)。

尹志尧博士在发表获奖感言时讲到，这个奖对我是一个意外的惊喜，感谢主办方对我的信任和肯定。感谢20年前和我一起从硅谷回国、创办中微公司的十五个奠基人;感谢一起团结奋斗的2500多名员工;感谢众多的客户和供应厂商对我们的信任和支持;感谢各级政府领导、各位股东和社会各界的支持;特别感谢我的夫人对我的大力支持和精心照顾。集成电路和半导体设备是千百万人集成的努力，不是依靠几个领军人物可以成功的。我们一定会继续努力，把我们国家的集成电路和数码产业发展好。中微公司的精神是“攀登勇者，志在巅峰”、“自强不息，厚德载物”，我们的口号是：“芯片越做越小，我们越战越强!”

在活动现场，尹志尧博士还亲自指挥来自其母校北京市第四中学的合唱团演唱了《中微之歌》，歌曲热烈激昂、铿锵有力，承载着中微人的理想和追求，表达了中微人的精神和志向。

作为中微公司的主要创始人，尹志尧博士自2004年公司成立以来一直担任董事长兼总经理。尹志尧博士参与并领导了集成电路设备业界一半以上成功的等离子体刻蚀设备开发，是几代等离子体刻蚀技术及设备的主要发明人和工业化应用的推动者之一，也是100余项美国专利和300余项其他国家专利的主要发明人，曾获得包括“白玉兰纪念奖”、“全球半导体行业十大领军明星”、福布斯中国最佳CEO等在内的诸多知名荣誉奖项。

在尹志尧博士的领导推动下，中微公司瞄准世界科技前沿，致力于开发微观加工所需的高端关键设备，通过持续的突破创新，公司开发的一系列设备，已在性能上达到国际先进水平，部分产品在其细分领域全球领先。其中，刻蚀设备技术能力达到5纳米及更先进工艺水平，MOCVD设备在Mini LED氮化镓基设备领域市场占有率遥遥领先，LPCVD设备出货量已突破100个反应台。同时，多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI等多款新产品研发进展顺利，并已布局光学和电子束量检测设备，开发多种泛半导体微观加工设备。

未来，公司将继续瞄准世界科技前沿，不断开发更多的高端设备产品，持续锻造并提升经营管理能力，坚持三维发展战略，践行“四个十大”的企业文化，实现高速、稳定、健康和安全的高质量发展，尽早在规模上和竞争力上成为国际一流的半导体设备公司!

关于中微半导体设备(上海)股份有限公司

中微半导体设备(上海)股份有限公司(证券简称：中微公司，证券代码：688012)致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类，包括十几种细分刻蚀设备已可以覆盖大多数刻蚀的应用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国内和国际一线客户，从65纳米到5纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用。中微公司最近十年着重开发多种导体和半导体化学薄膜设备，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI设备，并取得了可喜的进步。中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备早已在客户生产线上投入量产，并在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。此外，中微公司也在布局光学和电子束量检测设备，并开发多种泛半导体微观加工设备。这些设备都是制造各种微观器件的关键设备，可加工和检测微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。在美国TechInsights(原VLSI Research)近五年的全球半导体设备客户满意度调查中，中微公司三次获得总评分第三，薄膜设备三次被评为第一。