台积电魏哲家与ASML高层会面，是否有意购买高数值孔径极紫外光机台？

台积电近期突然改变态度，对于采购艾司摩尔高数值孔径极紫外光刻机（High-NA EUV）事宜产生浓厚兴趣。

此前，该公司首席执行官魏哲家曾明确表示，过早引入High-NA EUV并无太大经济效益，直到日前其秘密访问ASML总部，使市场猜测台积电是否因此事发生重大转变。

据wccftech等多个科技媒体联合报道及韩国商业情报媒体《Business Korea》的透露，有知情者透露，魏哲家并未出席于23日召开的台积电2024年技术论坛台湾场，而是选择在26日前往ASML荷兰总部以及工业激光制造商创浦（TRUMPF）的德国总部进行访问。

金融分析师丹·奈斯泰德（Dan Nystedt）在28日的文章中指出，台积电可能已经开始积极寻求购买High-NA EUV设备，原因在于魏哲家的此次行程并非参加台湾举办的技术论坛，而是选择访问ASML和创浦这两家重要的设备供应商。

业内人士据此推测，台积电有意购买High-NA EUV设备，因为这种设备对于生产2纳米以下芯片至关重要。值得注意的是，ASML已于去年年底向英特尔交付了第一台High-NA EUV设备。

分析认为，台积电管理层此次访问ASML，无疑是为了巩固其在全球半导体行业中的领导地位。

按照原计划，台积电将在2026年下半年实现1.6纳米制程的大规模量产后，才考虑引进High-NA EUV设备。然而，High-NA EUV设备的价格高达3.8亿美元，相当于新台币123亿元，比现有的EUV设备高出近一倍。

在此背景下，台积电的主要竞争对手英特尔和三星电子也纷纷采取行动。英特尔希望借助High-NA EUV设备，进一步扩大其在半导体领域的领先优势。

目前，已有多台High-NA EUV设备被运往英特尔的晶圆代工厂，预计将首先在1.8纳米制程上进行测试，然后再逐步推广至1.4纳米制程。

另一方面，三星集团会长李在镕也在今年4月份亲自访问了ASML的关键合作伙伴蔡司位于德国的总部，与ASML执行长傅凯和蔡司执行长兰普雷希特进行了会面，旨在加强三方在半导体领域的合作关系。