3月1日,拓荆科技正式宣布,继战略布局与经营发展需求之后,为了进一步增加产能与优化产业布局,计划斥资11亿元到沈阳光南区建立全新产业基地。
根据公告内容,这个名为“高端半导体设备产业化基地建设项目”的项目将由拓荆科技与其子公司共同进行,涵盖千级生产洁净间、立体库房以及测试实验室等多项设施。项目完工后,有望大幅增强PECVD、SACVD、HDPCVD等高端设备的产量,满足未来市场对这些设备的大量需求,进而推动企业持续扩大业务规模,加强竞争优势。
本次建设计划,主要源于两个方面:一是符合国家经济发展策略,有助于巩固拓荆科技在行业中的领先地位;二是适应了市场需求变化,帮助他们抓住市场机遇。
项目预计投资额:全部投资约为11亿元人民币,其中拓荆科技出资3.8亿元,拓荆创益则投资7.2亿元。
预期投资渠道:拓荆科技拟减少已承诺投入的首发募投项目“先进半导体设备的技术研发与改进项目”和超募资金投资项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”的预算,共计2.5亿元,用于该新建项目。剩余部分均由拓荆科技与拓荆创益自行承担。
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发表于 05-10 14:33
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