沉积氮化硅薄膜的重要制备工艺——PECVD镀膜

PECVD作为太阳能电池生产中的一种工艺，对其性能的提升起着关键的作用。PECVD可以将氮化硅薄膜沉积在太阳能电池片的表面，从而有效提高太阳能电池的光电转换率。但为了清晰客观的检测沉积后太阳能电池片的氮化硅薄膜，了解其薄膜的厚度、表面粗糙度等各种参数信息，就必须运用台阶仪进行测量。「美能光伏」生产的美能探针式台阶仪，可测量太阳能电池片中氮化硅薄膜表面的粗糙度、翘曲应力等各种参数信息，为光伏企业用户评估关于太阳能电池性能方面的问题。本期「美能光伏」将给您介绍PECVD工艺！

带您深入了解PECVD工艺的基本原理

PECVD又叫化学气相沉积，是一种利用等离子体在低温下进行沉积的薄膜生长技术，PECVD技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上产生辉光放电，再利用辉光放电使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体，这些气体经一系列化学反应和等离子体反应在高温下分解生成所需的化合物，然后将化合物沉积在太阳能电池片的表面或其他衬底材料表面从而形成薄膜。

PECVD工艺的基本原理

PECVD的工艺优势

相较于传统的CVD，PECVD的主要优势之一是可以在较低温度下操作，从而减少对衬底材料的热应力，广泛适用于太阳能电池的制造。PECVD的等离子体中含有大量高能量的电子，它们可以提供化学气相沉积过程所需要的激活能。电子与气相分子的碰撞能够促进气体分子的分解、化合、激发和电力过程，生成活性很高的各种化学集团，从而显著降低PECVD薄膜沉积的温度范围，使原来需要在高温下才能进行的薄膜沉积在低温下也可以实现。

PECVD方法沉积薄膜能够避免薄膜与衬底间发生不必要的扩散与化学反应、避免薄膜或衬底材料的结构变化与性能恶化、避免薄膜与衬底中出现较大的热应力等，从而有效保证太阳能电池的性能稳定。

美能探针式台阶仪

美能探针式台阶仪是一款先进的微纳测量仪器，采用出色的仪器系统构造和最优化的测量及数据处理软件，可测量表面粗糙度、波纹度、表面2D/3D形状、翘曲和应力。从而实现可靠、高效、简易的样品检测，并完成从研发到质量控制的完美把控。

● 配备500W像素高分辨率彩色摄像机

● 台阶高度重复性1nm

● 超高直线度导轨、反应样品微小形貌

● 亚埃级分辨率、13μm量程下可达0.01埃

●高低噪比与低线性误差

PECVD工艺作为能够通过薄膜沉积而直接提高太阳能电池性能的关键步骤，一直都是各大光伏电池厂商所着重关注的工艺流程。「美能光伏」生产的美能探针式台阶仪，凭借独特的检测技术，给予沉积在太阳能电池片表面氮化硅薄膜的针对性检测，帮助光伏电池厂商评估薄膜沉积后太阳能电池的性能，从而实现有力的科学证明！