芯片制造技术的企业创新特征说明

芯片技术是世界各国都在竞相争夺的一个技术战略高地，芯片产品设计人们生活中的各个方面。数字时代，芯片制造产业已经成为了一种会影响到其他各个产业发展的基础性产业。一个国家在国际市场竞争中能否获得优势，芯片制造技术就是关键的影响因素之一。中美贸易摩擦逐渐升级后，许多国产企业都面临被芯片“卡脖子”的困境，国内各大芯片制造厂商也在不断努力，试图突破瓶颈，进一步提升芯片制造技术水平。

不同的国家、企业，在芯片制造基本工艺领域擅长的工艺也各不相同。例如清洗工艺的核心竞争企业多达12家，其中2家为中国企业，2家为韩国企业，剩余的8个企业，日本和美国各占一半。除了清洗工艺，在热处理工艺、掺杂工艺、薄膜工艺、光刻工艺等方面，各个核心企业的工艺也各不相同。那么在技术创新方面，不同国家核心企业又分别偏向哪个领域呢?

日本企业多为突破式创新与模仿式创新相结合，倾向于在他人的成果上进行创新，增加技术的新颖性；韩国企业多为突破式创新，最为大众所熟知的三星电子公司就格外擅长突破式创新;而大家最为关注的国内企业，则是以模仿式创新为主，少数企业可以进行突破式创新。当前国内芯片制造厂商大都采用模仿式为主，突破式为辅的创新方式，在学习中实现技术的突破。

目前，中国的芯片制造技术正在渐渐走出模仿式创新，不再盲从于国外的创新模式，而是开始结合中国独有的资源禀赋和制度环境，因地制宜地升级创新技术，制定新的创新策略，未来中国的芯片制造行业将会呈现出全新的格局。

审核编辑：符乾江