华强pcb线路板打样0.15微米IC的248纳米扫描仪的吞吐量

佳能提高了用于0.15微米IC的248纳米扫描仪的吞吐量

SAN JOSE - 佳能美国公司的半导体设备部门今天宣布将推出一款新产品下周在加利福尼亚州圣克拉拉举行的SPIE微光刻研讨会上，用于0.15微米集成电路的高通量248纳米扫描仪。新的光刻工具使用2千赫兹的氟化氪（KrF）准分子激光器来曝光125个8英寸晶圆佳能美国半导体营销总监兼总经理Phillip Ware表示，FPA-5000ES2 +旨在满足对具有200毫米和300毫米晶圆功能的高效扫描仪的日益增长的需求。设备部。 “佳能已收到三星和其他主要半导体公司的新型FPA-5000ES2 +的后续订单，用于200毫米生产线和300毫米试验晶圆厂，”Ware补充道。“

据佳能公司称，新型扫描仪设计用于处理0.18和0.15微米的设计规则，并允许在一天内从200毫米到300毫米的晶圆格式进行现场转换。

FPA-5000ES2 +基于佳能5000扫描平台，与其前身FPA-5000ES2相比，吞吐量提高了25％。佳能表示，更高的吞吐量是设计修改以及增加的激光功率和照明强度的结果。

“通过增强的ES2 +，客户现在可以根据具体情况在扫描仪或步进机之间轻松选择“Ware说。”

同样在下周二和周三举行的SPIE微光刻研讨会上，佳能研究人员和联合开发合作伙伴计划详细介绍193纳米工具开发，镜头波前像差降低以及该公司的双曝光技术，称为IDEAL（用于高级光刻的创新双曝光），这是去年首次披露的（见1999年2月12日，故事）。