zpwsmileASML推出248-nm扫描仪，用于0.13微米批量生产

ASML推出用于0.13微米批量生产的248纳米扫描仪

慕尼黑 - 相信193纳米光刻仍然至少可以在芯片生产中使用一年ASM Lithography今天推出了一款新的KrF 248-nm步进扫描工具，该工具经过优化，可以制造0.13微米设计规则的IC。

新型PAS 5500/750E扫描仪是对ASML的增强功能。深紫外700平台，去年推出用于0.15微米芯片生产。根据AMSL的说法，750E扫描仪使用了Carl Zeiss Jena GmbH最新的DUV镜头 - Starlith 750--其数值孔径为0.7，目前可用的像差最小。

扫描仪也是荷兰平版印刷公司今天在慕尼黑举行的Semicon Europa贸易展上展示了该系统，该产品具有业内最小的单机操作小于30纳米的覆盖能力和45纳米的匹配机器覆盖。

AMSL认为半导体制造商现在已经达到了2000年下半年和明年生产新IC需要0.13微米特征尺寸的程度。然而，问题是新的193纳米工艺，光罩和光刻胶不可能在那段时间内完全准备好批量生产。

新的KrF 248-nm扫描仪可以使用成熟的光罩和光刻胶技术，过去四年一直服务于现有的DUV光刻技术。为了将曝光分辨率降至130纳米，晶圆厂可以使用相移掩模和光学邻近校正（OPC）技术。

ASML推出其首款ArF 130-nm扫描仪，即PAS 5500/950，去年用于工艺开发和早期试生产，但该公司预计客户不会在明年某个时候开始将这些系统转移到批量生产线。 ASML还计划在2001年中期推出一款新的批量生产130纳米扫描仪，称为PAS 5500/1100，销售执行副总裁Dave Chavoustie表示。他预测，130纳米扫描仪的批量生产预计将于2002年开始。

虽然193纳米光刻胶和支持技术仍在继续开发中，但新型KrF 248扫描仪的目标是低于0.15微米的分辨率要求。 5500/750E包括一个Quasar模块，可实现多极照明。它还具有双重曝光能力。

ASML表示，在50 mJ/cm ² 和46个曝光场的生产条件下，新扫描仪每小时可生产120个8英寸晶圆。

扫描仪的发货计划于今年第二季度开始。 ASML一直在引用该系统的基本价格约为860万美元。