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SC-l和piranha(H2SO4/H2O2)清洁剂已经使用多年来去除颗粒和有机污染物。尽管SC-1清洁剂(通常与施加的兆频超声波功率一起使用)被认为对颗粒去除非常有效,但去除机制仍不清楚。对于去,除重有机污染物,piranha清洗是一个有效的过程;然而,piranha后残留物顽强地粘附在晶片表面...
由于铜在二氧化硅和硅中的快速扩散,以及在禁带隙内受体和供体能级的形成,铜需要在化学机械抛光过程后清洗。...
在所有金属污染物中,铁和铜被认为是最有问题的。它们不仅可以很容易地从未优化的工艺工具和低质量的气体和化学物质转移到晶片上,而旦还会大大降低硅器件的产量。用微波光电导衰减和表面光电压研究了p型和n型硅中微量铁和铜的影响。这些晶片受到了与超大规模集成技术相关的受控量的铁和铜表面污染。衬底掺杂类型对金属杂...
我们提出了一种观察铝层蚀刻截面的方法,并将其应用于静止蚀刻蚀刻的试件截面的观察。观察结果成功地阐明了蚀刻截面几何形状的时间变化,和抗蚀剂宽度对几何形状的影响,并对蚀刻过程进行了数值模拟。验证了蚀刻截面的模拟几何形状与观测结果一致,表明本数值模拟可以有效地预测蚀刻截面的几何形状。...
这本文中,我们提出了一种精确的,低损伤的循环刻蚀AlGaN/GaN的新方法,用于精确的势垒凹陷应用,使用ICP-RIE氧化和湿法刻蚀。设备功率设置的优化允许获得宽范围的蚀刻速率~0.6至~11纳米/周期,而相对于未蚀刻的表面,表面粗糙度没有任何可观察到的增加。...
在本文中,我们详细研究了AlGaN的湿法刻蚀特性。特别地,我们研究了m面刻面形成和AlN摩尔分数对蚀刻速率的依赖关系。我们还研究了氮化铝摩尔分数差异较大的紫外发光二极管结构的湿法刻蚀特性。...
最近在外延膜的导电率控制和高质量块状氧化锌衬底的可用性方面的进展重新引起了我们对用于紫外光发射器和透明电子器件的氧化锌/氧化锌/氧化锌异质结构系统的兴趣。...
应用放射性示踪技术研究了金属杂质(如钡、铯、锌和锰)从化学放大光刻胶中迁移和吸附到硅基底层衬底上的行为。评估了两个重要的工艺参数,即烘烤温度和衬底类型(如裸硅、多晶硅、氧化物和氮化物)。结果表明,过渡金属(锌和锰)的迁移率比碱金属(铯)和碱土金属(钡)低,与基底类型和焙烧温度无关。过渡金属与光致抗蚀...
Other Parts Discussed in Post: AWR1843AOP毫米波雷达为汽车和工业应用提供了一种高度精确的感应方式,可提供富有洞察力的物体信息,如距离、角度和速度,从而实现更智能的感应解决方案,用于检测几厘米到几百米范围内的物体。 通常,雷达传感器安装在由雷达收发器、天线...
Yole统计数据显示,2020年全球封测市场规模达到594亿美元,同比增长5.3%,国内封测市场规模为2510亿元,同比增长6.8%。...
多年来,很多企业希望从机器人、自动化、人工智能这些技术获得更多的好处,却在应用中感到混乱和困惑,有人甚至对采用新技术感到害怕和不安。...
随着基于砷化镓和氮化镓的可见光LED技术的进步,照明行业已经生产出高效、高亮度的LED产品,用于室内外照明、汽车照明和显示器。...
因此反接制动适用于10KW以下小容量电动机的制动,并且对4KW 以上的电动机进行反接制动时,需在定子回路中串入限流电阻,以限制反接制动电流。...
两侧(或多侧)电源线路,若两侧(或多侧)均重合成功,则线路重合成功次数为1。若一侧拒合(或重合不成功),则线路重合成功次数为0。...
分别将电缆铠甲或终端头接地线与两根电缆芯连在一起,接到兆欧表的‘E“端,另一条的芯线暂时不接,待转动兆欧表的摇柄使转速达到稳定120r/min时,摇表指针指示“∞”的位置,然后将被测电缆芯线与兆欧表的“L”端相连...
我和我的同事Picotest的Steven Sandler探索了同轴电缆的屏蔽特性,他通过将一端连接到频谱分析仪的输入并将跨度设置为覆盖2.4GHz ISM(Wi-Fi/BT)频段而演示了一种独特的方法。假设附近有Wi-Fi接入点和计算机,以最大保持模式进行扫描,...
如果要使电路能够吸收大电流或消耗数十瓦的功率,则可以使用一个运算放大器来对多个并联工作的MOSFET进行控制。但是,简单地并联MOSFET会产生两个不良影响。...
就工业4.0的当前侧重点而言,消费者需求仅仅是冰山一角。在波及全球的经济、地缘政治、环境、人口问题和危机影响下,工业劳动力供给和供应链受到了前所未有的冲击。...
目前从技术发展的趋势来看,双面塑模成型技术、电磁干扰屏蔽技术、激光辅助键合技术可以并称为拉动系统级封装技术发展的“三驾创新马车”。...