--- 数据手册 ---
--- 产品详情 ---
瑞斯特(RST) RST6604S RevA 是一款采用标准SOT-23-6封装的单芯片双增强型MOSFET,内部集成一个N沟道和一个P沟道场效应晶体管,面向低电压互补功率开关应用设计。N沟道器件的漏源耐压额定值为20V(VDSS),连续漏极电流在VGS=4.5V条件下为3A,300μs脉冲漏极电流峰值可达12A;P沟道器件的漏源耐压为-20V,连续漏极电流在VGS=-4.5V条件下为-2A,300μs脉冲漏极电流峰值可达-8A。导通电阻方面,N沟道在VGS=4.5V、IDS=3A条件下典型值为50mΩ,最大值为65mΩ,在VGS=2.5V、IDS=1.7A条件下典型值为65mΩ,最大值为90mΩ;P沟道在VGS=-4.5V、IDS=-2A条件下典型值为90mΩ,最大值为120mΩ,在VGS=-2.5V、IDS=-1A条件下典型值为130mΩ,最大值为180mΩ。栅源耐压为±12V,N沟道栅极阈值电压VGS(th)典型值为0.7V(范围0.5V~1.0V),P沟道为-0.7V(范围-0.5V~-1.0V),较低的阈值电压使两者均能在低电压逻辑电平下可靠导通。
从动态特性角度分析,N沟道输入电容Ciss典型值为200pF,输出电容Coss为70pF,反向传输电容Crss为50pF;P沟道输入电容Ciss典型值为250pF,输出电容Coss为70pF,反向传输电容Crss为50pF(测试条件:VGS=0V,VDS=±10V,频率1MHz)。在开关性能方面,N沟道导通延迟时间td(ON)为8ns,上升时间tr为6ns,关断延迟时间td(OFF)为39ns,下降时间tf为10ns;P沟道导通延迟时间td(ON)为12ns,上升时间tr为14ns,关断延迟时间td(OFF)为50ns,下降时间tf为15ns(测试条件:VDD=±10V,RL=10Ω,IDS=±1A,VGEN=±4.5V,RG=6Ω)。N沟道与P沟道的开关速度不对称,N沟道上升更快而P沟道关断延迟更长,这一特性在互补推挽或半桥设计中需重点关注死区时间的设置。栅极电荷方面,N沟道总栅电荷Qg典型值为4.1nC,栅漏电荷Qgd为1.7nC;P沟道Qg典型值为4.2nC,Qgd为1.3nC,较低的栅极电荷需求有利于降低驱动损耗并提升高频工作效率。体二极管正向导通电压VSD典型值为±0.7V,N沟道反向恢复时间trr为11ns、恢复电荷Qrr为4nC,P沟道trr为12ns、Qrr为4nC,在同步整流与续流应用中可有效控制反向恢复损耗。
热管理与可靠性方面,该器件的结温工作范围为-55°C至150°C,最大结温额定值为150°C。N沟道与P沟道共享同一封装,总功率耗散能力在25°C环境温度下为0.83W,100°C时降至0.3W。热阻参数方面,结到环境的热阻RθJA在稳态条件下为150°C/W(基于1平方英寸焊盘面积),瞬态热阻曲线显示在10毫秒以内的短脉冲工况下热阻可显著降低。安全操作区(SOA)曲线覆盖了从DC到300μs不同脉宽下的电流-电压边界,N沟道DC条件下在VDS>0.5V区域电流迅速受RDS(on)限制而下降,P沟道在-VDS>0.5V区域呈现类似规律。典型特性曲线显示,N沟道输出特性在VGS≥2V时进入饱和区,P沟道在VGS≤-2V时进入饱和区;归一化RDS(on)随结温升高而增大,N沟道25°C时基准值为0.75,150°C时升至约1.55倍,P沟道25°C时基准值为0.8,150°C时升至约1.6倍;栅极阈值电压随结温升高均呈负温度系数。
基于上述电气特性,RST6604S RevA的典型应用场景包括:笔记本电脑电源管理中的负载开关与电源路径切换,N沟道+P沟道的互补结构可实现双向电源选择与OR-ing控制;便携式设备与电池供电系统中的DC-DC变换器,如Buck、Boost及Buck-Boost拓扑中的同步整流对管或半桥驱动对管,单芯片集成可减小PCB面积并优化配对一致性;电池保护电路中的充放电控制开关,利用互补结构实现低侧与高侧开关的协同控制;电机驱动中的H桥半桥臂,N沟道与P沟道分别承担上下桥臂功能,简化驱动电路设计;以及通用模拟开关与信号路由,低导通电阻与低电荷注入有助于减小信号失真。封装采用标准SOT-23-6外形,符合JEDEC TO-178AB规范,引脚间距0.95mm,兼容主流贴片工艺,推荐焊盘布局中焊盘尺寸0.8mm×0.63mm,便于工程师在紧凑空间内完成设计。
为你推荐
-
瑞斯特(RST) LU012N10XD10-RST 100V/360A大电流MOSFET技术分析2026-09-19 22:21
产品型号: LU012N10XD10-RST -
瑞斯特(RST) LR175N25S10-RST 250V TOLL封装MOSFET技术分析2026-09-19 22:18
产品型号:LR175N25S10-RST -
瑞斯特(RST) LR052N10SML8-RST DFN5×6封装快恢复N沟道MOSFET技术解析2026-09-19 22:16
产品型号:LR052N10SML8-RST -
瑞斯特(RST) LR046N10SM10-RST 超低栅电荷高频N沟道MOSFET技术解析2026-09-19 22:14
产品型号:LR046N10SM10-RST -
瑞斯特(RST) LR048N10SM8-RST 100V/110A功率MOSFET参数解读2026-09-19 22:13
产品型号:LR048N10SM8-RST -
瑞斯特(RST) LR030N10SM3-RST TO-220封装100V N沟道MOSFET技术解析2026-09-19 22:10
产品型号: LR030N10SM3-RST -
瑞斯特(RST) LR030N10SM0-RST TO-263-7封装100V MOSFET技术要点梳理2026-09-19 22:09
产品型号:LR030N10SM0-RST -
瑞斯特(RST) LR026N09XD10-RST 90V TOLL封装MOSFET技术解析2026-09-19 22:05
产品型号:LR026N09XD10-RST -
瑞斯特(RST) LR028N10SM10-RST 低密勒电容高速N沟道MOSFET技术解析2026-09-19 22:03
产品型号:LR028N10SM10-RST -
瑞斯特(RST) LR020N10SM0-RST TO263-7封装100V功率MOSFET技术分享2026-09-19 21:59
产品型号:LR020N10SM0-RST
-
瑞斯特半导体顺利通过ISO 9001、14001、45001 三大管理体系认证2026-08-05 22:14
-
瑞斯特(RST)体系保障之销售与服务体系2026-06-30 22:02
-
瑞斯特(RST)体系保障之人力资源与文化体系2026-06-22 22:10
-
瑞斯特(RST)体系保障之供应链与制造体系2026-06-15 22:08
-
瑞斯特(RST)体系保障之研发与工程体系2026-06-12 22:16
-
避开红海,深耕蓝海:为什么瑞斯特半导体(RST)将“腰部客户”作为战略核心2026-06-12 22:13
-
瑞斯特RST四大核心经营理念2026-05-19 21:25
-
以精工智造,驱动产业效率,赋能美好生活:瑞斯特半导体的时代使命2026-05-15 08:22
-
于方寸之间,创造无限可能:瑞斯特半导体的破局之道2026-05-15 08:20
-
永不失联:瑞斯特半导体的信仰,亦是国产芯片的时代答卷2026-05-15 08:19